• 10L等离子(zi)清洗(xi)机 500W/1000W是?qie)恢中⌒突舷呤薄⒎瞧苹敌缘那逑?xi)?ci)璞赶认隆8玫壤胱?zi)清洗(xi)机采用(yong)低气压激(ji)...
    • 本型号匀胶机采用(yong)全铝合金(jin)腔体商铺中,外观美观坚固;腔体上盖则采用(yong)360°可视的有(you)机玻璃(li)设计(ji)快字,便于客户(hu)使用(yong)过...
    • 感应(ying)炉CY-GYL-15是?qie)豢?kuan)顶部(bu)带有(you)真空(kong)吸铸装置的15KW感应(ying)加热/熔化系统速度显。这(zhe)种独特(te)的结构设计(ji)通...
    • 本产(chan)品是?qie)豢?kuan)小型的1100℃布里奇(qi)曼晶体生(sheng)长(chang)炉意外,配有(you)2英寸的石英管丢弃,精(jing)密提拉机肉丸。布里奇(qi)曼晶体生(sheng)长(chang)炉用(yong)...
    • 1700℃管式(shi)炉采用(yong)高(gao)质量(liang)硅(gui)钼棒作为加热元件但我既,加热温度可高(gao)达1700℃这菜地,炉管管径为50mm蓝昊王,采用(yong)高(gao)纯...
    • 单靶磁控光纤绕(rao)丝溅射...
      单靶磁控光纤绕(rao)丝溅射镀膜(mo)仪(yi)热一下,专用(yong)于光纤制备薄膜(mo),采用(yong)不(bu)锈钢高(gao)真空(kong)腔体长长,配有(you)带挡(dang)板的观察窗认你,可以观察镀膜(mo)过程惨过,挡(dang)板则能(neng)有(you)?xing)Х乐构鄄齑氨荒?mo)层遮蔽令他无,便于实验的观察记录(lu)自亍他。腔体上顶开式(shi)设计(ji)开启方便眈,易?zi)谇謇砬耙丫?shi)分适合实验室使用(yong)过猪跑。整机采用(yong)氖屏Ω块化设计(ji)噪音划,操作逻辑(ji)简单炸碎,操作界(jie)面直观由太,利于上手
      台(tai)式(shi)紧凑型三靶磁控溅...
      CY-VTC-3DC是专为非金(jin)属薄膜(mo)镀膜(mo)设计(ji)的三头2"射频(pin)等离子(zi)磁控溅射系统小鸟坐,主要用(yong)于多(duo)层氧化物(wu)薄膜(mo)房里,是新一代氧化物(wu)薄膜(mo)研究中?xing)约?jia)比*高(gao)的镀膜(mo)机 . 直流磁控溅射选项可根据要求提供金(jin)属薄膜(mo)沉(chen)积三名队,实现(xian)三个直流并排坐、一个射频(pin)/两个直流和两个射频(pin)/一个直流溅射头配置
      双靶直流磁控溅射镀膜(mo)...
      双靶直流磁控溅射镀膜(mo)仪(yi)可用(yong)于制备单层或多(duo)层铁电(dian)薄膜(mo)赶路、导电(dian)薄膜(mo)死拉、合金(jin)薄膜(mo)等吞咽。该双靶磁控溅射镀膜(mo)仪(yi)与(yu)同类设备相比十位达,其(qi)不(bu)仅应(ying)用(yong)广泛事人,且(qie)具有(you)体积小便于操作的优点选择她,是?qie)豢?kuan)实验室制备材料(liao)薄膜(mo)的理想(xiang)设备
      单靶直流磁控溅射镀膜(mo)...
      单靶直流磁控溅射镀膜(mo)仪(yi)可用(yong)于制备单层铁电(dian)薄膜(mo)被绊住、导电(dian)薄膜(mo)青筋哦、合金(jin)薄膜(mo)等-女王。该单靶磁控溅射镀膜(mo)仪(yi)与(yu)同类设备相比真快,其(qi)不(bu)仅应(ying)用(yong)广泛猥琐划,且(qie)具有(you)体积小便于操作的优点没剩下,是?qie)豢?kuan)实验室制备材料(liao)薄膜(mo)的理想(xiang)设备浪花,特(te)别(bie)适用(yong)于实验室研究固态电(dian)解(jie)质及OLED等
    • CVD法培育(yu)钻石
      人造(zao)钻石是?qie)恢钟芍本?0到(dao)30纳米的钻石结晶聚合而成的多(duo)结晶钻石弯动,等离子(zi)增强化学气象沉(chen)积PECVD合成法制造(zao)内门时,人造(zao)钻石主要用(yong)于制造(zao)切割工具等工业用(yong)途上治,同样(yang)也(ye)被使用(yong)在珠宝(bao)首饰上
      热丝化学气相沉(chen)积(H...
      热丝化学气相沉(chen)积(Hot filament Chemical Vapor Deposition,HFCVD)拥有(you)工艺成熟外加可,设备简单等诸多(duo)优点别气愤,是工业上应(ying)用(yong)*多(duo)的金(jin)刚(gang)石薄膜(mo)制备方法之一锤柄碰。设计(ji)用(yong)于合成纳米金(jin)刚(gang)石涂层墨般,CVD金(jin)刚(gang)石薄膜(mo)自己居,微晶CVD金(jin)刚(gang)石涂层回原位,石墨烯它行进,碳纳米管(CNTs)和?tou)髦制?qi)他薄膜(mo)涂层
      CVD培育(yu)钻石设备
      CVD培育(yu)钻石是?qie)恢钟芍本?0到(dao)30纳米钻石晶体合成的多(duo)结晶钻石些光,它的化学成分为碳要打打,运(yun)用(yong)先进(jin)的设备模拟大自然中钻石生(sheng)长(chang)环境彭钧伟,通过化学气象沉(chen)积技术(CVD)栽(zai)种而成
      MPCVD单晶钻石沉(chen)...
      化学气相沉(chen)积法制备高(gao)品质单晶钻石涨潮,化学气相沉(chen)积法制备高(gao)品质多(duo)晶钻石自支撑(cheng)厚膜(mo)本钱很,化学气相沉(chen)积法制备高(gao)品质多(duo)晶钻石薄膜(mo)
    • 美国天天色综合久久,免费 成 人 黄 色 网 站在线播放,欧美精选视频,欧美黄色片一级5英寸近距(ju)离蒸发镀膜(mo)...
      5英寸近距(ju)离蒸发镀膜(mo)炉适用(yong)于薄膜(mo)太(tai)阳能(neng)电(dian)池(chi),如CdTe.硫化物(wu)和?tou)祁芽蠼峁固?tai)阳能(neng)电(dian)池(chi),这(zhe)是?qie)豢?kuan)理想(xiang)的实验工具
      近距(ju)离有(you)机物(wu)蒸发镀膜(mo)...
      近距(ju)离有(you)机物(wu)蒸发镀膜(mo)炉是?qie)恢炙尤惹焖偃却砺悖哂?you)11"外径的石英管巧遇。它是专为PVD或CSS(近距(ju)离升华(hua))薄膜(mo)涂层3英寸直径或2"×2"事相加。近距(ju)离蒸发镀膜(mo)炉采用(yong)两组卤素加热?rao)?顶部(bu)和底部(bu))事自己,zui大加热速率20?C/s牙齿咬。两个30段精(jing)密温度控制器内置原定五,精(jing)度为+/-1?C唔实。包括RS485端口和控制软件事儿最,允(yun)许通过PC操作炉子(zi)和温度曲线记录(lu)场时。它是研究新一代太(tai)阳能(neng)电(dian)池(chi)薄膜(mo)的主要工具或斜飞,如CdTe纷争祸、硫化物(wu)和?tou)祁芽筇?tai)阳能(neng)电(dian)池(chi)妻听。
      小型电(dian)动(dong)升降样(yang)品台(tai)蒸...
      本产(chan)品为桌面型小型蒸发镀膜(mo)仪(yi)增多一,设备安(an)装有(you)钨丝篮蒸发源妈起,可提供*大100A的镀膜(mo)电(dian)流何行动,*大蒸发温度可达1800℃寒刃,能(neng)够满足各(ge)种常见金(jin)属的蒸镀及?an)糠址墙?jin)属蒸镀
      桌面型水冷样(yang)品台(tai)蒸发...
      本产(chan)品为桌面型小型蒸发镀膜(mo)仪(yi)猪英台,设备安(an)装有(you)钨丝篮蒸发源扁扁,可提供*大100A的镀膜(mo)电(dian)流花酿酒,*大蒸发温度可达1800℃人脸,能(neng)够满足各(ge)种常见金(jin)属的蒸镀及?an)糠址墙?jin)属蒸镀
    • 全自动(dong)电(dian)极镀膜(mo)卷对卷...
      自动(dong)卷对卷涂布机主要适用(yong)于磷酸铁锂线20%、钴酸锂都读懂、锰酸锂等体系的正负(fu)极镀膜(mo)工艺
      锂电(dian)池(chi)专用(yong)卷对卷加热...
      这(zhe)种全自动(dong)卷对卷加热涂布机主要用(yong)于实验室涂布液体或胶体膜(mo)心里喊。该设备采用(yong)无级(ji)变速电(dian)机**控制涂膜(mo)速度这点他,从而达到(dao)使样(yang)品匀速前进(jin)而均匀涂膜(mo)的目的
      实验室锂电(dian)池(chi)卷对卷加...
      这(zhe)种全自动(dong)卷绕(rao)涂布机主要用(yong)于实验室涂布液体或胶体膜(mo)入场函。该设备采用(yong)无级(ji)变速电(dian)机**控制涂膜(mo)速度输出高,从而达到(dao)使样(yang)品匀速前进(jin)而均匀涂膜(mo)的目的长老堂。刮刀(dao)采用(yong)全不(bu)锈钢材质这大厅,重(zhong)量(liang)恒定剑前指,可提高(gao)涂膜(mo)的一致性和均匀性点放心。该设备采用(yong)具有(you)真空(kong)吸附(fu)功能(neng)的样(yang)品台(tai)离自身,可以?yun)轿?wen)的吸附(fu)样(yang)品手里捧。同时涂布机具有(you)底部(bu)加热功能(neng)防护墙,加热温度可达120℃你迟,在涂膜(mo)过程中实现(xian)烤胶功能(neng)摧残我,从而使膜(mo)迅速地干燥缰绳,方便收卷操作里跳。
      锂电(dian)池(chi)隔膜(mo)涂布机
      锂电(dian)池(chi)隔膜(mo)涂布机吓跑,可进(jin)行(xing)连续和间歇涂布等类型的涂布要求人仍。设备涂布精(jing)度高(gao)事情做,一致性稳(wen)定性好初受伤,广泛应(ying)用(yong)于锂离子(zi)电(dian)池(chi)备品、石墨烯薄膜(mo)谈兼并、光学薄膜(mo)致商量、陶瓷(ci)薄膜(mo)重晕眩、**胶带以及?an)髦止δ?neng)薄膜(mo)行(xing)业
    • 全自动(dong)超声波气氛(fen)加热...
      超声波气氛(fen)加热匀胶机是?qie)豢?kuan)直径300mm这大鸟、灵活的旋转匀胶设备箭方,可通过超声波喷头把胶液喷洒在基片上罗丝,进(jin)而通过高(gao)速旋转使得胶液均匀涂覆在基片上凤凰。加热匀胶机也(ye)?bu)梢缘ザ澜?jin)行(xing)旋涂操作
      紫(zi)外线光固化匀胶机
      紫(zi)外线光固化匀胶机配有(you)紫(zi)外线光源被认,能(neng)够实现(xian)对特(te)殊膜(mo)料(liao)的固化功能(neng)旁骛,紫(zi)外线光固化匀胶机真空(kong)吸附(fu)固定干粮走,操作简单句失陪,可自由取放这种吞。
      透(tou)明亚克力匀胶机带滴...
      CY-SP4-D匀胶机经(jing)过小型化设计(ji)时间虽,整体采用(yong)铝合金(jin)结构上他半,腔体选用(yong)透(tou)明亚克力神情自,外观美观坚固这辈。仪(yi)器采用(yong)先进(jin)的精(jing)密电(dian)机围出现,*高(gao)转速能(neng)达到(dao)8000转/秒(miao);控制依靠按(an)键和?tou)吡?liang)液晶屏原本抱,除直接(jie)匀胶外还(huai)能(neng)预存匀胶曲线进(jin)行(xing)程控匀胶前四。本仪(yi)器在极大的减小了体积的前提下有(you)?xing)У谋U狭艘?yi)器性能(neng)和功能(neng)传话仔,十(shi)分适合实验室选购很哀怨。
      PP腔体八英寸匀胶机
      本型号匀胶机经(jing)过小型化设计(ji)我说真,整体采用(yong)铝合金(jin)结构你跑什,腔体选用(yong)PP工程材料(liao)徐磊冷,外观美观坚固一印象。仪(yi)器采用(yong)先进(jin)的精(jing)密电(dian)机本书瞧,转速能(neng)达到(dao)10000转/分救伙伴,有(you)?xing)У谋U狭顺赡?mo)的均匀性发出很。另外本仪(yi)器采用(yong)触控屏?liang)刂?67120,可以?zai)ど柙冉呵咭蛔甓啵蟠蠹蚧耸褂?yong)过程降低了?sou)俺杀鞠胩永耄?shi)分适合实验室选购你一点。
    • 热阴(yin)极直流等离子(zi)体化...
      热阴(yin)极直流等离子(zi)体化学气相沉(chen)积设备(DCCVD)是在常规冷阴(yin)极辉光放电(dian)基础上发展(zhan)起来的紧记,主要用(yong)于金(jin)刚(gang)石单晶或多(duo)晶膜(mo)的沉(chen)积生(sheng)长(chang)
      卷对卷PECVD石墨...
      卷对卷PECVD石墨烯制备设备主要应(ying)用(yong)于计(ji)算机和智能(neng)手机屏幕叔叔绝,超轻幻影、柔性的太(tai)阳能(neng)电(dian)池(chi)房间理,以及新型的发光设备?fu)推?qi)他薄膜(mo)电(dian)子(zi)产(chan)品
      PECVD-R?旋转...
      本产(chan)品为PECVD-R?旋转等离子(zi)加强CVD设备被吞。PECVD-R?旋转等离子(zi)加强CVD设备十(shi)分适合在气氛(fen)保护(hu)的环境下连续对粉末(mo)材料(liao)用(yong)CVD方法进(jin)行(xing)包裹和修饰整天拉。
      PE-HPCVD等离...
      PE-HPCVD等离子(zi)增强物(wu)理化学气相沉(chen)积由一台(tai)双温区管式(shi)炉嘴短,一套钨丝?kong)舴⒃粗鞵P,一套等离子(zi)发生(sheng)装置以及一套质量(liang)流量(liang)计(ji)组成补课本。PE-HPCVD等离子(zi)增强物(wu)理化学气相沉(chen)积适用(yong)于无机复合粉末(mo)的热处理及粉末(mo)表面的均匀包覆怒她。
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