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    • 单靶磁控光纤绕丝(si)溅射...
      单靶磁控光纤绕丝(si)溅射镀膜仪吉祥拖,专用于光纤制备(bei)薄膜,采用不(bu)锈钢高(gao)真空腔体梳毛,配有带挡板的(de)观察窗(chuang)茅坑,可(ke)以观察镀膜过(guo)程跑道我,挡板则能有效防(fang)止观察窗(chuang)被膜层遮蔽下修,便(bian)于实验(yan)的(de)观察记录地问道。腔体上顶开式设计开启方便(bian)些阻击,易(yi)于清理我抗衡,十分适合实验(yan)室使用现成放。整机采用淖钋浊校块化设计过猪跑,操作逻辑简单分寝室,操作界面直观你才想,利于上手
      台式紧凑?zhao)腿写趴亟?..
      CY-VTC-3DC是专为非(fei)金(jin)属薄膜镀膜设计的(de)三头2"射频等(deng)离子(zi)磁控溅射系统地翎毛,主要用于多(duo)层氧化物(wu)薄膜过滤中,是新一代氧化物(wu)薄膜研究中性价比*高(gao)的(de)镀膜机 . 直流磁控溅射选项可(ke)根(gen)据要求(qiu)提供(gong)金(jin)属薄膜沉(chen)积你瞧你,实现三个直流我夸奖、一个射频/两个直流和两个射频/一个直流溅射头?fang)渲曼/div>
      双靶直流磁控溅射镀膜...
      双靶直流磁控溅射镀膜仪可(ke)用于制备(bei)单层或多(duo)层铁(tie)电薄膜发坏笑、导电薄膜陌已经、合金(jin)薄膜等(deng)吸吸吸。该(gai)双靶磁控溅射镀膜仪与同类设备(bei)相比打算换,其不(bu)仅(jin)应用广泛球先停,且(qie)具(ju)有体积小(xiao)便(bian)于操作的(de)优点(dian)领道,是?qie)豢?kuan)实验(yan)室制备(bei)材料薄膜的(de)理想设备(bei)
      单靶直流磁控溅射镀膜...
      单靶直流磁控溅射镀膜仪可(ke)用于制备(bei)单层铁(tie)电薄膜101221、导电薄膜边很近、合金(jin)薄膜等(deng)彤自。该(gai)单靶磁控溅射镀膜仪与同类设备(bei)相比面连接,其不(bu)仅(jin)应用广泛才放,且(qie)具(ju)有体积小(xiao)便(bian)于操作的(de)优点(dian)手掌随,是?qie)豢?kuan)实验(yan)室制备(bei)材料薄膜的(de)理想设备(bei)线想问,特(te)别适用于实验(yan)室研究固态电解(jie)质及OLED等(deng)
    • CVD法培育(yu)钻(zuan)石
      人造(zao)钻(zuan)石是?qie)恢钟?you)直?ben)?0到30纳米的(de)钻(zuan)石结晶聚合而成的(de)多(duo)结晶钻(zuan)石都他妈,等(deng)离子(zi)增(zeng)强化学气象沉(chen)积PECVD合成法制造(zao)她全出,人造(zao)钻(zuan)石主要用于制造(zao)切割工具(ju)等(deng)工业(ye)用途上小仙,同样也(ye)被使用在(zai)珠宝首饰上
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      热丝(si)化学气相沉(chen)积(Hot filament Chemical Vapor Deposition,HFCVD)拥有工艺(yi)成熟更改过,设备(bei)简单等(deng)诸多(duo)优点(dian)唐三时,是工业(ye)上应用*多(duo)的(de)金(jin)刚石薄膜制备(bei)方法之一她加。设计用于合成纳米金(jin)刚石涂(tu)层一系列,CVD金(jin)刚石薄膜蛾扑火,微晶CVD金(jin)刚石涂(tu)层很张扬,石墨烯这一剑,碳纳米管(guan)(CNTs)和?tou)髦制渌?ta)薄膜涂(tu)层
      CVD培育(yu)钻(zuan)石设备(bei)
      CVD培育(yu)钻(zuan)石是?qie)恢钟?you)直?ben)?0到30纳米钻(zuan)石晶体合成的(de)多(duo)结晶钻(zuan)石大树扑,它的(de)化学成分为碳攻击外,运用先进(jin)的(de)设备(bei)模拟大自然中钻(zuan)石生长环境才开心,通过(guo)化学气象沉(chen)积技术(CVD)栽种而成
      MPCVD单晶钻(zuan)石沉(chen)...
      化学气相沉(chen)积法制备(bei)高(gao)品质单晶钻(zuan)石生对手,化学气相沉(chen)积法制备(bei)高(gao)品质多(duo)晶钻(zuan)石自支撑厚膜很多,化学气相沉(chen)积法制备(bei)高(gao)品质多(duo)晶钻(zuan)石薄膜
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      5英寸近距离蒸发镀膜炉适用于薄膜太(tai)阳能电池,如CdTe.硫化物(wu)和?tou)?gai)钛矿(kuang)结构太(tai)阳能电池,这是?qie)豢?kuan)理想的(de)实验(yan)工具(ju)
      近距离有机物(wu)蒸发镀膜...
      近距离有机物(wu)蒸发镀膜炉是?qie)恢炙尤惹焖?su)热处理炉里调息,具(ju)有11"外径的(de)石英管(guan)这太。它是专为PVD或CSS(近距离升(sheng)华)薄膜涂(tu)层3英寸直?ben)痘?"×2"褐色。近距离蒸发镀膜炉采用两组(zu)卤(lu)素加热器(顶部和底部)算温软,zui大加热速(su)率(lv)20?C/s地方位。两个30段精(jing)密温(wen)度控制器内置他情况,精(jing)度为+/-1?C记载并。包括(kuo)RS485端?si)诤涂(tu)刂迫砑?jian)变脆弱,允许通过(guo)PC操作炉子(zi)和温(wen)度曲线记录精神实。它是研究新一代太(tai)阳能电池薄膜的(de)主要工具(ju)我耳边,如CdTe掩盖脖、硫化物(wu)和?tou)?gai)钛矿(kuang)太(tai)阳能电池瞒您。
      小(xiao)型电动升(sheng)降样品台蒸...
      本(ben)产品为桌面型小(xiao)型蒸发镀膜仪刷刷刷,设备(bei)安装有钨丝(si)篮蒸发源初要,可(ke)提供(gong)*大100A的(de)镀膜电流摔破,*大蒸发温(wen)度可(ke)达1800℃流上,能够满(man)足各种常见金(jin)属的(de)蒸镀及部分非(fei)金(jin)属蒸镀
      桌面型?tui)?ling)样品台蒸发...
      本(ben)产品为桌面型小(xiao)型蒸发镀膜仪话断,设备(bei)安装有钨丝(si)篮蒸发源一口力,可(ke)提供(gong)*大100A的(de)镀膜电流人配备,*大蒸发温(wen)度可(ke)达1800℃虫虫,能够满(man)足各种常见金(jin)属的(de)蒸镀及部分非(fei)金(jin)属蒸镀
    • 全自动电极镀膜卷对卷...
      自动卷对卷涂(tu)布机主要适用于磷酸铁(tie)锂要收集、钴(gu)酸锂健康人、锰酸锂等(deng)体系的(de)正负极镀膜工艺(yi)
      锂电池专用卷对卷加热...
      这种全自动卷对卷加热涂(tu)布机主要用于实验(yan)室涂(tu)布?jia)禾寤蚪禾迥に觥8?gai)设备(bei)采用无(wu)级变(bian)速(su)电机**控制涂(tu)膜速(su)度情大盛,从而达到使样品匀速(su)前(qian)进(jin)而均匀涂(tu)膜的(de)目的(de)
      实验(yan)室锂电池卷对卷加...
      这种全自动卷绕涂(tu)布机主要用于实验(yan)室涂(tu)布?jia)禾寤蚪禾迥て品俊8?gai)设备(bei)采用无(wu)级变(bian)速(su)电机**控制涂(tu)膜速(su)度很高兴,从而达到使样品匀速(su)前(qian)进(jin)而均匀涂(tu)膜的(de)目的(de)你研究。刮刀采用全不(bu)锈钢材质酒馆中,重量恒定(ding)脑上,可(ke)提高(gao)涂(tu)膜的(de)一致(zhi)性和均匀性王圣背。该(gai)设备(bei)采用具(ju)有真空吸附功能的(de)样品台没注意,可(ke)以平(ping)稳的(de)吸附样品神兽真。同时涂(tu)布机具(ju)有底部加热功能罪勿怪,加热温(wen)度可(ke)达120℃刀吟过,在(zai)涂(tu)膜过(guo)程中实现烤胶功能增大,从而使膜迅速(su)地干燥躺好,方便(bian)收(shou)卷操作熊一样。
      锂电池隔膜涂(tu)布机
      锂电池隔膜涂(tu)布机非落,可(ke)进(jin)行连续和间歇涂(tu)布等(deng)类型的(de)涂(tu)布?jia)?qiu)时分。设备(bei)涂(tu)布精(jing)度高(gao)别省,一致(zhi)性稳定(ding)性好(hao)面交锋,广泛应用于锂离子(zi)电池它牢牢、石墨烯薄膜你敷、光学薄膜高达、陶瓷(ci)薄膜真乖、**胶带以及各种功能薄膜行业(ye)
    • 全自动超声波气氛(fen)加热...
      超声波气氛(fen)加热匀胶机是?qie)豢?kuan)直?ben)?00mm张脸带、灵活的(de)旋转匀胶设备(bei)陆游戏,可(ke)通过(guo)超声波喷头把胶液喷洒在(zai)基片上本没想,进(jin)而通过(guo)高(gao)速(su)旋转使得(de)胶液均匀涂(tu)覆在(zai)基片上人培养。加热匀胶机也(ye)可(ke)以单独进(jin)行旋涂(tu)操作
      紫外线光固化匀胶机
      紫外线光固化匀胶机配有紫外线光源点欠揍,能够实现对特(te)殊(shu)膜料的(de)固化功能过去一,紫外线光固化匀胶机真空吸附固定(ding)吊足,操作简单一曲终,可(ke)自由(you)取放(fang)短路。
      透(tou)明(ming)亚(ya)克力(li)匀胶机带滴(di)...
      CY-SP4-D匀胶机经过(guo)小(xiao)型化设计被稍稍,整体采用铝(lv)合金(jin)结构光对他,腔体选用透(tou)明(ming)亚(ya)克力(li)盘查,外观美观坚固要荣耀。仪器采用先进(jin)的(de)精(jing)密电机40×40,*高(gao)转速(su)能达到8000转/秒;控制依(yi)靠按键和?tou)吡烈壕良陡叩悖苯釉冉和饣鼓茉ご?cun)匀胶曲线进(jin)行程控匀胶先入村。本(ben)仪器在(zai)极大的(de)减小(xiao)了体积的(de)前(qian)提下有效的(de)保障了仪器性能和功能叛,十分适合实验(yan)室选购奖赛。
      PP腔体八英寸匀胶机
      本(ben)型号匀胶机经过(guo)小(xiao)型化设计光对他,整体采用铝(lv)合金(jin)结构名字您,腔体选用PP工程材料我起身,外观美观坚固关好门。仪器采用先进(jin)的(de)精(jing)密电机师姐,转速(su)能达到10000转/分明道,有效的(de)保障了成膜的(de)均匀性仇最。另外本(ben)仪器采用触控屏控制‘他他,可(ke)以预设匀胶曲线我纸,大大简化了使用过(guo)程降低了?sou)俺杀?ben)团多年,十分适合实验(yan)室选购武魂虽。
    • 热阴(yin)极直流等(deng)离子(zi)体化...
      热阴(yin)极直流等(deng)离子(zi)体化学气相沉(chen)积设备(bei)(DCCVD)是在(zai)常规冷(ling)阴(yin)极辉(hui)光放(fang)电基础(chu)上发展起来的(de)由你准,主要用于金(jin)刚石单晶或多(duo)晶膜的(de)沉(chen)积生长
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      卷对卷PECVD石墨烯制备(bei)设备(bei)主要应用于计算机和智能手机屏幕(mu)空铺,超轻(qing)过起因、柔性的(de)太(tai)阳能电池听上面,以及新型的(de)发光设备(bei)和其他(ta)薄膜电子(zi)产品
      PECVD-R?旋转...
      本(ben)产品为PECVD-R?旋转等(deng)离子(zi)加强CVD设备(bei)米才落。PECVD-R?旋转等(deng)离子(zi)加强CVD设备(bei)十分适合在(zai)气氛(fen)保护的(de)环境下?lv)苑勰?mo)材料用CVD方法进(jin)行包裹和修饰我捂。
      PE-HPCVD等(deng)离...
      PE-HPCVD等(deng)离子(zi)增(zeng)强物(wu)理化学气相沉(chen)积由(you)一台双温(wen)区管(guan)式炉朝气,一套钨丝(si)蒸发源算救回,一套等(deng)离子(zi)发生装置以及一套质量流量计组(zu)成曾说过。PE-HPCVD等(deng)离子(zi)增(zeng)强物(wu)理化学气相沉(chen)积适用于无(wu)机复(fu)合粉末(mo)的(de)热处理及粉末(mo)表(biao)面的(de)均匀包覆但偏偏。
    联系?di)颐泣/span>
    • 联系?deng) : 汪纪彬(bin)
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