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    • 单靶磁控光纤(xian)绕丝溅射...
      单靶磁控光纤(xian)绕丝溅射镀膜(mo)仪速度追,专用于光纤(xian)制备(bei)薄膜(mo),采用不锈(xiu)钢(gang)高真空腔体(ti)面具,配(pei)有带挡板的(de)观(guan)察窗行通知,可(ke)以观(guan)察镀膜(mo)过程何唐三,挡板则能有效(xiao)防(fang)止观(guan)察窗被膜(mo)层遮蔽谦卑,便于实验的(de)观(guan)察记录设计都。腔体(ti)上顶开(kai)式设计开(kai)启方便责难,易于清理10221,十分适合实验室使用我嗅。整机采用淖⌒ζ穑块(kuai)化设计轻抚,操作逻辑(ji)简单省,操作界面(mian)直观(guan)空触发,利于上手
      台式紧(jin)凑(cu)型三靶磁控溅...
      CY-VTC-3DC是专为非金属薄膜(mo)镀膜(mo)设计的(de)三头2"射频等离子磁控溅射系?di)常(chang)饕糜诙嗖阊趸锉∧?mo)怪真,是?qie)乱淮?dai)氧化物薄膜(mo)研究中性价比*高的(de)镀膜(mo)机 . 直流磁控溅射选项可(ke)根据要求提供金属薄膜(mo)沉积(ji)透露,实现三个直流断激增、一个射频/两(liang)个直流和两(liang)个射频/一个直流溅射头配(pei)置
      双靶直流磁控溅射镀膜(mo)...
      双靶直流磁控溅射镀膜(mo)仪可(ke)用于制备(bei)单层或多层铁电薄膜(mo)图任务、导(dao)电薄膜(mo)里一动、合金薄膜(mo)等青君都。该双靶磁控溅射镀膜(mo)仪与(yu)同类(lei)设备(bei)相比没发火,其不仅应(ying)用广泛?hai)揖哂刑?ti)积(ji)小便于操作的(de)优(you)点(dian)海幻拥,是一款(kuan)实验室制备(bei)材(cai)料薄膜(mo)的(de)理想设备(bei)
      单靶直流磁控溅射镀膜(mo)...
      单靶直流磁控溅射镀膜(mo)仪可(ke)用于制备(bei)单层铁电薄膜(mo)险些干、导(dao)电薄膜(mo)夙愿、合金薄膜(mo)等淡风轻。该单靶磁控溅射镀膜(mo)仪与(yu)同类(lei)设备(bei)相比唐玉作,其不仅应(ying)用广泛?hai)揖哂刑?ti)积(ji)小便于操作的(de)优(you)点(dian)天斗皇,是一款(kuan)实验室制备(bei)材(cai)料薄膜(mo)的(de)理想设备(bei)岸冲去,特别(bie)适用于实验室研究固态电解质及OLED等
    • CVD法培育钻(zuan)石
      人造钻(zuan)石是一种由直径10到30纳米的(de)钻(zuan)石结晶聚合而成的(de)多结晶钻(zuan)石可杀戮,等离子增(zeng)强化学气象沉积(ji)PECVD合成法制造米盯住,人造钻(zuan)石主要用于制造切(qie)割工(gong)具等工(gong)业用途上由于ID,同样(yang)也被使用在珠(zhu)宝首饰(shi)上
      热丝化学气相沉积(ji)(H...
      热丝化学气相沉积(ji)(Hot filament Chemical Vapor Deposition,HFCVD)拥有工(gong)艺成熟思感随,设备(bei)简单等诸多优(you)点(dian)抱我,是工(gong)业上应(ying)用*多的(de)金刚石薄膜(mo)制备(bei)方法之一退两步。设计用于合成纳米金刚石涂层早餐吃,CVD金刚石薄膜(mo)怕被,微晶CVD金刚石涂层都管,石墨烯敢接人,碳纳米管(guan)(CNTs)和各种其他(ta)薄膜(mo)涂层
      CVD培育钻(zuan)石设备(bei)
      CVD培育钻(zuan)石是一种由直径10到30纳米钻(zuan)石晶体(ti)合成的(de)多结晶钻(zuan)石门消息,它的(de)?mu)С煞治级灾谌耍擞孟冉?de)设备(bei)模拟大(da)自?yun)恢凶?zuan)石生(sheng)长环境?chang)ü蟪粱?ji)技(ji)术(CVD)栽种而成
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      化学气相沉积(ji)法制备(bei)高品质单晶钻(zuan)石我一秒,化学气相沉积(ji)法制备(bei)高品质多晶钻(zuan)石自支撑厚膜(mo)海魔女,化学气相沉积(ji)法制备(bei)高品质多晶钻(zuan)石薄膜(mo)
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      5英(ying)寸近距离蒸发镀膜(mo)炉适用于薄膜(mo)太阳能电池,如CdTe.硫化物和钙钛矿结构太阳能电池,这是一款(kuan)理想的(de)实验工(gong)具
      近距离有机物蒸发镀膜(mo)...
      近距离有机物蒸发镀膜(mo)炉是一种双加热区快速热处理炉射速,具有11"外径的(de)石英(ying)管(guan)说想。它是专为PVD或CSS(近距离升华)薄膜(mo)涂层3英(ying)寸直径或2"×2"站路边。近距离蒸发镀膜(mo)炉采用两(liang)组(zu)卤素加热器(顶部和底部)要人美,zui大(da)加热速率20?C/s平移。两(liang)个30段精密温(wen)度(du)控制器内置浓,精度(du)为+/-1?C抛弃。包括(kuo)RS485端(duan)口和控制软件(jian)图任务,允许(xu)通过PC操作炉子和温(wen)度(du)曲线记录风狼王。它是研究新一代(dai)太阳能电池薄膜(mo)的(de)主要工(gong)具人大,如CdTe正迷糊、硫化物和钙钛矿太阳能电池九千年。
      小型电动升降样(yang)品台蒸...
      本产(chan)品为桌(zhuo)面(mian)型小型蒸发镀膜(mo)仪释放吞,设备(bei)安装有钨丝篮蒸发源你胃口,可(ke)?shang)峁?大(da)100A的(de)镀膜(mo)电流上万次,*大(da)蒸发温(wen)度(du)可(ke)达1800℃穆刹一,能够满(man)足(zu)各种常(chang)见金属的(de)蒸镀及部分非金属蒸镀
      桌(zhuo)面(mian)型水冷(ling)样(yang)品台蒸发...
      本产(chan)品为桌(zhuo)面(mian)型小型蒸发镀膜(mo)仪人缠住,设备(bei)安装有钨丝篮蒸发源他强忍,可(ke)?shang)峁?大(da)100A的(de)镀膜(mo)电流走神儿,*大(da)蒸发温(wen)度(du)可(ke)达1800℃字过日,能够满(man)足(zu)各种常(chang)见金属的(de)蒸镀及部分非金属蒸镀
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      自动卷(juan)对卷(juan)涂布机主要适用于磷酸铁锂(li)嘶哑、钴酸锂(li)八卦实、锰酸锂(li)等体(ti)系的(de)正负极镀膜(mo)工(gong)艺
      锂(li)电池专用卷(juan)对卷(juan)加热...
      这种全(quan)自动卷(juan)对卷(juan)加热涂布机主要用于实验室涂布液体(ti)或胶体(ti)膜(mo)尾。该设备(bei)采用无级变速电机**控制涂膜(mo)速度(du)请人,从而达到使样(yang)品匀(yun)速前进而均匀(yun)涂膜(mo)的(de)目的(de)
      实验室锂(li)电池卷(juan)对卷(juan)加...
      这种全(quan)自动卷(juan)绕涂布机主要用于实验室涂布液体(ti)或胶体(ti)膜(mo)睡觉去。该设备(bei)采用无级变速电机**控制涂膜(mo)速度(du)掀翻,从而达到使样(yang)品匀(yun)速前进而均匀(yun)涂膜(mo)的(de)目的(de)集结七。刮(gua)刀采用全(quan)不锈(xiu)钢(gang)材(cai)质唐三比,重(zhong)量(liang)恒定次问,可(ke)?shang)岣咄磕?mo)的(de)一致(zhi)性和均匀(yun)性都面。该设备(bei)采用具有真空吸(xi)附(fu)功能的(de)样(yang)品台情况下,可(ke)以平稳的(de)吸(xi)附(fu)样(yang)品抬手抛。同时涂布机具有底部加热功能醒目,加热温(wen)度(du)可(ke)达120℃私人管,在涂膜(mo)过程中实现烤胶功能环出,从而使膜(mo)迅速地干(gan)燥白开,方便收?zhan)?juan)操作二百多。
      锂(li)电池隔膜(mo)涂布机
      锂(li)电池隔膜(mo)涂布机连洛,可(ke)进行连续(xu)和间歇涂布等类(lei)型的(de)涂布要求时装脱。设备(bei)涂布精度(du)高重铠,一致(zhi)性稳定性好他释放,广泛应(ying)用于锂(li)离子电池午饭自、石墨烯薄膜(mo)耗体力、光学薄膜(mo)射手、陶瓷薄膜(mo)战斗魂、**胶带以及各种功能薄膜(mo)行业
    • 全(quan)自动超(chao)声波气氛加热...
      超(chao)声波气氛加热匀(yun)胶机是一款(kuan)直径300mm这非人、灵(ling)活的(de)旋转匀(yun)胶设备(bei)达一,可(ke)通过超(chao)声波喷头把胶液喷洒在基片(pian)上扩散,进而通过高速旋转使得(de)胶液均匀(yun)涂覆在基片(pian)上怪咬死。加热匀(yun)胶机也可(ke)以单独进行旋涂操作
      紫外线光固化匀(yun)胶机
      紫外线光固化匀(yun)胶机配(pei)有紫外线光源上跳,能够实现对特殊膜(mo)料的(de)固化功能这神,紫外线光固化匀(yun)胶机真空吸(xi)附(fu)固定她眼,操作简单腐因,可(ke)自由取放七步无。
      透明亚克力匀(yun)胶机带滴(di)...
      CY-SP4-D匀(yun)胶机经过小型化设计打怪谁,整体(ti)采用铝合金结构杰克莞,腔体(ti)选用透明亚克力噤声,外观(guan)美观(guan)坚固开始随。仪器采用先进的(de)精密电机哈大,*高转速能达到8000转/秒;控制依靠按键和高亮液晶屏(ping)询问时,除直接匀(yun)胶外还能预存匀(yun)胶曲线进行程控匀(yun)胶蒙厉。本仪器在极大(da)的(de)减小了体(ti)积(ji)的(de)前提下有效(xiao)的(de)保障了仪器性能和功能涛失望,十分适合实验室选购过要。
      PP腔体(ti)八英(ying)寸匀(yun)胶机
      本型号匀(yun)胶机经过小型化设计诅咒中,整体(ti)采用铝合金结构美女去,腔体(ti)选用PP工(gong)程材(cai)料下一剑,外观(guan)美观(guan)坚固称号并。仪器采用先进的(de)精密电机全面,转速能达到10000转/分追捕,有效(xiao)的(de)保障了成膜(mo)的(de)均匀(yun)性人都死。另外本仪器采用触控屏(ping)?liang)刂瓢朊壮ぃ?ke)以预设匀(yun)胶曲线你喜,大(da)大(da)简化了使用过程降低(di)了学习成本太猛烈,十分适合实验室选购留影听。
    • 热阴极直流等离子体(ti)化...
      热阴极直流等离子体(ti)化学气相沉积(ji)设备(bei)(DCCVD)是在常(chang)规(gui)冷(ling)阴极辉光放电基础上发展起来的(de)脑中,主要用于金刚石单晶或多晶膜(mo)的(de)沉积(ji)生(sheng)长
      卷(juan)对卷(juan)PECVD石墨...
      卷(juan)对卷(juan)PECVD石墨烯制备(bei)设备(bei)主要应(ying)用于计算机和智(zhi)能手机屏(ping)幕(mu)发啦,超(chao)轻酱菜、柔性的(de)太阳能电池晚风,以及新型的(de)发光设备(bei)和其他(ta)薄膜(mo)电子产(chan)品
      PECVD-R?旋转...
      本产(chan)品为PECVD-R?旋转等离子加强CVD设备(bei)都沾染。PECVD-R?旋转等离子加强CVD设备(bei)十分适合在气氛保护的(de)?mu)肪诚铝?xu)对粉末材(cai)料用CVD方法进行包裹和修饰(shi)她强势。
      PE-HPCVD等离...
      PE-HPCVD等离子增(zeng)强物理化学气相沉积(ji)由一台双温(wen)区管(guan)式炉我整,一套钨丝蒸发源我手扶,一套等离子发生(sheng)装置以及一套质量(liang)流量(liang)计组(zu)成毒刺回。PE-HPCVD等离子增(zeng)强物理化学气相沉积(ji)适用于无机复(fu)合粉末的(de)热处理及粉末表面(mian)的(de)均匀(yun)包覆高难度。
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