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    • 1700℃管式炉(lu)采用高质量(liang)硅(gui)钼(mu)棒作为加热(re)元件道路上,加热(re)温度可高达1700℃说晴空,炉(lu)管管径为50mm他此刻,采用高纯...
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      单(dan)靶(ba)磁控(kong)光纤绕丝溅射镀膜(mo)仪碎一地,专用于(yu)光纤制备薄膜(mo),采用不锈(xiu)钢?zhi)哒婵涨惶?ti)很熟,配有带挡(dang)板(ban)的观察窗陵寝中,可以观察镀膜(mo)过(guo)程同我使,挡(dang)板(ban)则能有效防止观察窗被(bei)膜(mo)层遮蔽左脚跺,便(bian)于(yu)实验(yan)的观察记录止召唤。腔体(ti)上顶开式设计开启方便(bian)塔,易于(yu)清(qing)理残像,十分适合实验(yan)室(shi)使用早聊。整机采用模(mo)块化设计鸟类,操作逻辑简单(dan)战斗成,操作界面(mian)直观拍仍旧,利于(yu)上手
      台(tai)式紧凑(cu)型三靶(ba)磁控(kong)溅...
      CY-VTC-3DC是专为非金属薄膜(mo)镀膜(mo)设计的三头2"射频等离子磁控(kong)溅射系统?chang)饕糜?yu)多层氧化物薄膜(mo)偶没什,是新(xin)一代氧化物薄膜(mo)研究(jiu)中性(xing)价比*高的镀膜(mo)机 . 直流磁控(kong)溅射选(xuan)项可根据(ju)要求提供金属薄膜(mo)沉(chen)积烟状体,实现三个(ge)直流顾林、一个(ge)射频/两个(ge)直流和(he)两个(ge)射频/一个(ge)直流溅射头?fang)渲?zhi)
      双靶(ba)直流磁控(kong)溅射镀膜(mo)...
      双靶(ba)直流磁控(kong)溅射镀膜(mo)仪可用于(yu)制备单(dan)层或多层铁电薄膜(mo)怒离场、导电薄膜(mo)感受过、合金薄膜(mo)等信下。该双靶(ba)磁控(kong)溅射镀膜(mo)仪与同(tong)类设备相(xiang)比一声叮,其不仅(jin)应用广泛(fan)情绪反,且(qie)具有体(ti)积小便(bian)于(yu)操作的优点她耳中,是?qie)豢?kuan)实验(yan)室(shi)制备?fu)牧?liao)薄膜(mo)的理想设备
      单(dan)靶(ba)直流磁控(kong)溅射镀膜(mo)...
      单(dan)靶(ba)直流磁控(kong)溅射镀膜(mo)仪可用于(yu)制备单(dan)层铁电薄膜(mo)远远、导电薄膜(mo)席弟、合金薄膜(mo)等他现。该单(dan)靶(ba)磁控(kong)溅射镀膜(mo)仪与同(tong)类设备相(xiang)比点发紧,其不仅(jin)应用广泛(fan)震荡力,且(qie)具有体(ti)积小便(bian)于(yu)操作的优点魂师输,是?qie)豢?kuan)实验(yan)室(shi)制备?fu)牧?liao)薄膜(mo)的理想设备损城,特(te)别适用于(yu)实验(yan)室(shi)研究(jiu)固态(tai)电解(jie)质及OLED等
    • CVD法培育钻石(shi)
      人造钻石(shi)是?qie)恢?zhong)由(you)直径10到(dao)30纳米的钻石(shi)结晶聚(ju)合而成的多结晶钻石(shi)趁手,等离子增强化学气(qi)象沉(chen)积PECVD合成法制造暖意,人造钻石(shi)主要用于(yu)制造切割工具等工业用途上杯中,同(tong)样也被(bei)使用在珠(zhu)宝首(shou)饰(shi)上
      热(re)丝化学气(qi)相(xiang)沉(chen)积(H...
      热(re)丝化学气(qi)相(xiang)沉(chen)积(Hot filament Chemical Vapor Deposition,HFCVD)拥有工艺成熟唐昊治,设备简单(dan)等诸多优点要进化,是工业上应用*多的金刚石(shi)薄膜(mo)制备方法之一大窟窿。设计用于(yu)合成纳米金刚石(shi)涂层对于我,CVD金刚石(shi)薄膜(mo)小半,微晶CVD金刚石(shi)涂层定下日,石(shi)墨烯眼闭一,碳纳米管(CNTs)和(he)各种(zhong)其他薄膜(mo)涂层
      CVD培育钻石(shi)设备
      CVD培育钻石(shi)是?qie)恢?zhong)由(you)直径10到(dao)30纳米钻石(shi)晶体(ti)合成的多结晶钻石(shi)里,它(ta)的化学成分为碳月老先,运用先进的设备模(mo)拟(ni)大自(zi)然中钻石(shi)生长环境?chang)ü?guo)化学气(qi)象沉(chen)积技术(CVD)栽种(zhong)而成
      MPCVD单(dan)晶钻石(shi)沉(chen)...
      化学气(qi)相(xiang)沉(chen)积法制备高品(pin)质单(dan)晶钻石(shi)楚,化学气(qi)相(xiang)沉(chen)积法制备高品(pin)质多晶钻石(shi)自(zi)支撑厚膜(mo)关切,化学气(qi)相(xiang)沉(chen)积法制备高品(pin)质多晶钻石(shi)薄膜(mo)
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      近距(ju)离有机物蒸发镀膜(mo)...
      近距(ju)离有机物蒸发镀膜(mo)炉(lu)是?qie)恢?zhong)双加热(re)区快速热(re)处理炉(lu)此顺,具有11"外径的石(shi)英管核才算。它(ta)是专为PVD或CSS(近距(ju)离升华)薄膜(mo)涂层3英寸直径或2"×2"上箭。近距(ju)离蒸发镀膜(mo)炉(lu)采用两组卤素加热(re)器(顶部和(he)底(di)部)欠债,zui大加热(re)速率(lv)20?C/s小弟成。两个(ge)30段精密温度控(kong)制器内置(zhi)量一下,精度为+/-1?C批发。包括RS485端口和(he)控(kong)制软件想抓她,允(yun)许通过(guo)PC操作炉(lu)子和(he)温度曲线记录我或许。它(ta)是研究(jiu)新(xin)一代太(tai)阳能电池薄膜(mo)的主要工具时间内,如(ru)CdTe直接切、硫化物和(he)钙钛矿太(tai)阳能电池咬牙道。
      小型电动升降样品(pin)台(tai)蒸...
      本?jing)?pin)为桌面(mian)型小型蒸发镀膜(mo)仪被侮辱,设备安装有钨丝篮蒸发源(yuan)大明竟,可提供*大100A的镀膜(mo)电流拿地,*大蒸发温度可达1800℃你雪雪,能够满足(zu)各种(zhong)常(chang)见金属的蒸镀及部分非金属蒸镀
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      本?jing)?pin)为桌面(mian)型小型蒸发镀膜(mo)仪小青弯,设备安装有钨丝篮蒸发源(yuan)人解释,可提供*大100A的镀膜(mo)电流外使,*大蒸发温度可达1800℃中除名,能够满足(zu)各种(zhong)常(chang)见金属的蒸镀及部分非金属蒸镀
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      自(zi)动卷(juan)对卷(juan)涂布机主要适用于(yu)磷(lin)酸铁锂丝淡定、钴酸锂肿、锰酸锂等体(ti)系的正负极镀膜(mo)工艺
      锂电池专用卷(juan)对卷(juan)加热(re)...
      这种(zhong)全自(zi)动卷(juan)对卷(juan)加热(re)涂布机主要用于(yu)实验(yan)室(shi)涂布液体(ti)或胶(jiao)体(ti)膜(mo)握自己。该设备?fu)捎梦藜侗?bian)速电机**控(kong)制涂膜(mo)速度动作时,从而达到(dao)使样品(pin)匀速前进而均匀涂膜(mo)的目(mu)的
      实验(yan)室(shi)锂电池卷(juan)对卷(juan)加...
      这种(zhong)全自(zi)动卷(juan)绕涂布机主要用于(yu)实验(yan)室(shi)涂布液体(ti)或胶(jiao)体(ti)膜(mo)宝宝多。该设备?fu)捎梦藜侗?bian)速电机**控(kong)制涂膜(mo)速度顺便回,从而达到(dao)使样品(pin)匀速前进而均匀涂膜(mo)的目(mu)的城主。刮刀采用全不锈(xiu)钢材质\\\\,重量(liang)恒定俊叫出,可提高涂膜(mo)的一致性(xing)和(he)均匀性(xing)蛇地。该设备?fu)捎镁哂姓婵瘴焦δ艿难?pin)台(tai)惊艳,可以平稳的吸附样品(pin)任务拿。同(tong)时(shi)涂布机具有底(di)部加热(re)功能次升级,加热(re)温度可达120℃海港,在涂膜(mo)过(guo)程中实现烤胶(jiao)功能己玩,从而使膜(mo)迅速地干(gan)燥心底去,方便(bian)收(shou)卷(juan)操作全贴合。
      锂电池隔(ge)膜(mo)涂布机
      锂电池隔(ge)膜(mo)涂布机很好打,可进行连续和(he)间歇(xie)涂布等类型的涂布要求踢过。设备涂布精度高部笼罩,一致性(xing)稳定性(xing)好宝类,广泛(fan)应用于(yu)锂离子电池女生觉、石(shi)墨烯薄膜(mo)本经常、光学薄膜(mo)讲绝对、陶瓷薄膜(mo)浇灌、**胶(jiao)带以及各种(zhong)功能薄膜(mo)行业
    • 全自(zi)动超声(sheng)波(bo)气(qi)氛加热(re)...
      超声(sheng)波(bo)气(qi)氛加热(re)匀胶(jiao)机是?qie)豢?kuan)直径300mm聚焦、灵活的旋(xuan)转匀胶(jiao)设备天磕,可通过(guo)超声(sheng)波(bo)喷(pen)头把胶(jiao)液喷(pen)洒在基片上多带刺,进而通过(guo)高速旋(xuan)转使得胶(jiao)液均匀涂覆(fu)在基片上我老死。加热(re)匀胶(jiao)机也可以单(dan)独进行旋(xuan)涂操作
      紫(zi)外线光固化匀胶(jiao)机
      紫(zi)外线光固化匀胶(jiao)机配有紫(zi)外线光源(yuan)方位,能够实现对特(te)殊膜(mo)料(liao)的固化功能待居,紫(zi)外线光固化匀胶(jiao)机真空吸附固定我待,操作简单(dan)早无聊,可自(zi)由(you)取放(fang)暂时作。
      透明亚克(ke)力匀胶(jiao)机带滴...
      CY-SP4-D匀胶(jiao)机经(jing)过(guo)小型化设计大碍才,整体(ti)采用铝合金结构立刻接,腔体(ti)选(xuan)用透明亚克(ke)力解药中,外观美观坚固%#$。仪器采用先进的精密电机报出你,*高转速能达到(dao)8000转/秒;控(kong)制依靠按键和(he)高亮液晶屏毒毒拿,除直接(jie)匀胶(jiao)?he)饣鼓茉?yu)存匀胶(jiao)曲线进行程控(kong)匀胶(jiao)连我。本仪器在极大的减小了体(ti)积的前提下(xia)有效的保障了仪器性(xing)能和(he)功能偏爱,十分适合实验(yan)室(shi)选(xuan)购面动我。
      PP腔体(ti)八英寸匀胶(jiao)机
      本型号匀胶(jiao)机经(jing)过(guo)小型化设计店赚,整体(ti)采用铝合金结构渐出现,腔体(ti)选(xuan)用PP工程材料(liao)最低点,外观美观坚固完全融。仪器采用先进的精密电机算心,转速能达到(dao)10000转/分表情瞅,有效的保障了成膜(mo)的均匀性(xing)我谈。另外本仪器采用触控(kong)屏?liang)?kong)制尽显身,可以预(yu)设匀胶(jiao)曲线洗碗去,大大简化了使用过(guo)程降低了学习成本胸处,十分适合实验(yan)室(shi)选(xuan)购围升起。
    • 热(re)阴极直流等离子体(ti)化...
      热(re)阴极直流等离子体(ti)化学气(qi)相(xiang)沉(chen)积设备(DCCVD)是在常(chang)规冷阴极辉光放(fang)电基础上发展起来的?mo)饕糜?yu)金刚石(shi)单(dan)晶或多晶膜(mo)的沉(chen)积生长
      卷(juan)对卷(juan)PECVD石(shi)墨...
      卷(juan)对卷(juan)PECVD石(shi)墨烯制备?gan)璞钢饕τ糜?yu)计算机和(he)智能手机屏幕很机巧,超轻变化居、柔(rou)性(xing)的太(tai)阳能电池一桌吃,以及?ba)?xin)型的发光设备和(he)其他薄膜(mo)电子产品(pin)
      PECVD-R?旋(xuan)转...
      本?jing)?pin)为PECVD-R?旋(xuan)转等离子加强CVD设备副研究。PECVD-R?旋(xuan)转等离子加强CVD设备十分适合在气(qi)氛保护的环境下(xia)连续对粉末(mo)材料(liao)用CVD方法进行包裹(guo)和(he)修(xiu)饰(shi)吐骨。
      PE-HPCVD等离...
      PE-HPCVD等离子增强物理化学气(qi)相(xiang)沉(chen)积由(you)一台(tai)双温区管式炉(lu)肌肤特,一套钨丝蒸发源(yuan)大故事,一套等离子发生装置(zhi)以及一套质量(liang)流量(liang)计组成她呆呆。PE-HPCVD等离子增强物理化学气(qi)相(xiang)沉(chen)积适用于(yu)无机复(fu)合粉末(mo)的热(re)处理及粉末(mo)表(biao)面(mian)的均匀包覆(fu)于突。
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