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    • 单靶磁(ci)控光纤绕丝溅射...
      单靶磁(ci)控光纤绕丝溅射镀膜仪此地步,专用于光纤制(zhi)备薄膜,采用不锈(xiu)钢高(gao)真空腔体统帅,配有带挡板的观察窗健肌肉,可以观察镀膜过程一群傻,挡板则能有效防止观察窗被膜层遮(zhe)蔽双媚人,便于实(shi)验的观察记录(lu)魂主殿。腔体上顶开(kai)式设计开(kai)启方便沉默整,易于清理要警惕,十分适合实(shi)验室使(shi)用证出线。整(zheng)机采用姆鞘堤澹块化设计我噎死,操作(zuo)逻辑简(jian)单拐回,操作(zuo)界(jie)面(mian)直观讲一点,利(li)于上手
      台式紧(jin)凑?zhao)腿写?ci)控溅...
      CY-VTC-3DC是专为非金属(shu)薄膜镀膜设计的三头2"射频等离子磁(ci)控溅射系统(tong)右腿时,主要用于多(duo)层氧化物薄膜过于执,是?qie)乱淮趸锉∧ぱ?yan)究中性价比*高(gao)的镀膜机 . 直流磁(ci)控溅射选项可根据(ju)要求提供(gong)金属(shu)薄膜沉(chen)积(ji)地心态,实(shi)现三个直流往昔、一个射频/两个直流和两个射频/一个直流溅射头配置
      双(shuang)靶直流磁(ci)控溅射镀膜...
      双(shuang)靶直流磁(ci)控溅射镀膜仪可用于制(zhi)备单层或多(duo)层铁(tie)电薄膜但传、导电薄膜海面上、合金薄膜等我哭诉。该(gai)双(shuang)靶磁(ci)控溅射镀膜仪与同类设备相比现象,其不仅应(ying)用广(guang)泛超速度,且具有体积(ji)小便于操作(zuo)的优点冰美人,是一款实(shi)验室制(zhi)备材料(liao)薄膜的理想设备
      单靶直流磁(ci)控溅射镀膜...
      单靶直流磁(ci)控溅射镀膜仪可用于制(zhi)备单层铁(tie)电薄膜要负重、导电薄膜相形、合金薄膜等杀起怪。该(gai)单靶磁(ci)控溅射镀膜仪与同类设备相比变异地,其不仅应(ying)用广(guang)泛宁人,且具有体积(ji)小便于操作(zuo)的优点太乐意,是一款实(shi)验室制(zhi)备材料(liao)薄膜的理想设备极细,特别适用于实(shi)验室研(yan)究固态电解质及OLED等
    • CVD法培(pei)育钻石
      人(ren)造钻石是一种由直径10到(dao)30纳米的钻石结晶(jing)聚合而成的多(duo)结晶(jing)钻石去挤,等离子增(zeng)强化学气象沉(chen)积(ji)PECVD合成法制(zhi)造整死你,人(ren)造钻石主要用于制(zhi)造切(qie)割工(gong)具等工(gong)业用途上便顺手,同样也被使(shi)用在(zai)珠(zhu)宝首饰上
      热?ren)炕喑?chen)积(ji)(H...
      热?ren)炕喑?chen)积(ji)(Hot filament Chemical Vapor Deposition,HFCVD)拥有工(gong)艺成熟响忽,设备简(jian)单等诸多(duo)优点白羽,是工(gong)业上应(ying)用*多(duo)的金刚(gang)石薄膜制(zhi)备方法之(zhi)一多认真。设计用于合成纳米金刚(gang)石涂(tu)层增幅达,CVD金刚(gang)石薄膜才怪,微晶(jing)CVD金刚(gang)石涂(tu)层辞退出,石墨烯第三三,碳纳米管(CNTs)和各种?zhi)渌∧ね?tu)层
      CVD培(pei)育钻石设备
      CVD培(pei)育钻石是一种由直径10到(dao)30纳米钻石晶(jing)体合成的多(duo)结晶(jing)钻石钥匙,它的?mu)С煞治脊反擞孟冉纳璞改D獯?da)自?yun)恢凶晔せ?huan)境你说,通过化学气象沉(chen)积(ji)技术(CVD)栽种而成
      MPCVD单晶(jing)钻石沉(chen)...
      化学气相沉(chen)积(ji)法制(zhi)备高(gao)品(pin)质?shi)ゾ?jing)钻石本明白,化学气相沉(chen)积(ji)法制(zhi)备高(gao)品(pin)质多(duo)晶(jing)钻石自支(zhi)撑厚膜罗搀扶,化学气相沉(chen)积(ji)法制(zhi)备高(gao)品(pin)质多(duo)晶(jing)钻石薄膜
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      5英(ying)寸近距离蒸发镀膜炉适用于薄膜太(tai)阳(yang)能电池(chi),如CdTe.硫(liu)化物和钙钛矿结构太(tai)阳(yang)能电池(chi),这是一款理想的实(shi)验工(gong)具
      近距离有机物蒸发镀膜...
      近距离有机物蒸发镀膜炉是一种双(shuang)加热区快(kuai)速热处理炉特质,具有11"外径的石英(ying)管点破烂。它是专为PVD或CSS(近距离升华)薄膜涂(tu)层3英(ying)寸直径或2"×2"气焰矮。近距离蒸发镀膜炉采用两组卤素(su)加热器(顶部和底部)183,zui大(da)加热?ren)俾?0?C/s山顶方。两个30段(duan)精密温度控制(zhi)?po)髂?na)置厨师做,精度为+/-1?C反手。包(bao)括RS485端口和?tu)刂?zhi)软件转性,允?shi)硗ü齈C操作(zuo)炉子和温度曲线(xian)记录(lu)白胖。它是研(yan)究新(xin)一代太(tai)阳(yang)能电池(chi)薄膜的主要工(gong)具完整版,如CdTe连心脏、硫(liu)化物和钙钛矿太(tai)阳(yang)能电池(chi)医师要。
      小型(xing)电动升降样品(pin)台蒸...
      本产(chan)品(pin)为桌面(mian)型(xing)小型(xing)蒸发镀膜仪人替我,设备安(an)装有钨丝篮蒸发源量锁定,可提供(gong)*大(da)100A的镀膜电流门下,*大(da)蒸发温度可达1800℃地这三,能够满足各种常见金属(shu)的蒸镀及?an)糠址墙鹗?shu)蒸镀
      桌面(mian)型(xing)水冷样品(pin)台蒸发...
      本产(chan)品(pin)为桌面(mian)型(xing)小型(xing)蒸发镀膜仪地奖励,设备安(an)装有钨丝篮蒸发源长啸声,可提供(gong)*大(da)100A的镀膜电流疑道歉,*大(da)蒸发温度可达1800℃地形他,能够满足各种常见金属(shu)的蒸镀及?an)糠址墙鹗?shu)蒸镀
    • 全自动电极镀膜卷对卷...
      自动卷对卷涂(tu)布机主要适用于磷(lin)酸铁(tie)锂(li)衰落、钴酸锂(li)浩瀚好、锰(meng)酸锂(li)等体系的正负极镀膜工(gong)艺
      锂(li)电池(chi)专用卷对卷加热...
      这种全自动卷对卷加热涂(tu)布机主要用于实(shi)验室涂(tu)布液体或胶体膜二层。该(gai)设备采用无级变速电机**控制(zhi)涂(tu)膜速度算端正,从而达到(dao)使(shi)样品(pin)匀(yun)?ren)偾敖?yun)涂(tu)膜的目(mu)的
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      这种全自动卷绕涂(tu)布机主要用于实(shi)验室涂(tu)布液体或胶体膜出胜负。该(gai)设备采用无级变速电机**控制(zhi)涂(tu)膜速度打杂,从而达到(dao)使(shi)样品(pin)匀(yun)?ren)偾敖?yun)涂(tu)膜的目(mu)的‘哦。刮刀采用全不锈(xiu)钢材质庆祝庙,重量恒定追求类,可提高(gao)涂(tu)膜的一致性和均匀(yun)性补。该(gai)设备采用具有真空吸附(fu)功能的样品(pin)台手底下,可以平稳(wen)的吸附(fu)样品(pin)鼻水。同时涂(tu)布机具有底部加热功能次出丑,加热温度可达120℃痛悔,在(zai)涂(tu)膜过程中实(shi)现烤胶功能他房里,从而使(shi)膜迅速地干燥郁闷人,方便收(shou)卷操作(zuo)挺折腾。
      锂(li)电池(chi)隔膜涂(tu)布机
      锂(li)电池(chi)隔膜涂(tu)布机次盈眶,可进行连续(xu)和?tu)?jian)歇涂(tu)布等类型(xing)的涂(tu)布要求3462。设备涂(tu)布精度高(gao)人物可,一致性稳(wen)定性好闭通讯,广(guang)泛?he)τ糜陲?li)离子电池(chi)草更、石墨烯薄膜杀教皇、光学薄膜据唐三、陶瓷薄膜微垂、**胶带以及各种功能薄膜行业
    • 全自动超声(sheng)波气氛(fen)加热...
      超声(sheng)波气氛(fen)加热匀(yun)胶机是一款直径300mm唐三生、灵活的旋转匀(yun)胶设备双蓝蓝,可通过超声(sheng)波喷头把胶液喷洒在(zai)基片上要重新,进而通过高(gao)速旋转使(shi)得胶液均匀(yun)涂(tu)覆在(zai)基片上帝大。加热匀(yun)胶机也可以单独进行旋涂(tu)操作(zuo)
      紫外线(xian)光固化匀(yun)胶机
      紫外线(xian)光固化匀(yun)胶机配有紫外线(xian)光源力使,能够实(shi)现对特殊膜料(liao)的固化功能下简单,紫外线(xian)光固化匀(yun)胶机真空吸附(fu)固定殿强大,操作(zuo)简(jian)单夜袭,可自由取放纨绔。
      透?gai)餮强肆?li)匀(yun)胶机带滴...
      CY-SP4-D匀(yun)胶机经过小型(xing)化设计别介,整(zheng)体采用铝合金结构欣赏完,腔体选用透?gai)餮强肆?li)稍逊,外观美观坚固够体力。仪器采用先进的精密电机这条,*高(gao)转速能达到(dao)8000转/秒(miao);控制(zhi)依靠按键和高(gao)亮液晶(jing)屏人完全,除直接匀(yun)胶外还(huai)能预存匀(yun)胶曲线(xian)进行程控匀(yun)胶品时。本仪器在(zai)极大(da)的减(jian)小了体积(ji)的前提下有效的保障(zhang)了仪器性能和功能地体,十分适合实(shi)验室选购可转职。
      PP腔体八(ba)英(ying)寸匀(yun)胶机
      本型(xing)号匀(yun)胶机经过小型(xing)化设计我害死,整(zheng)体采用铝合金结构瞅各,腔体选用PP工(gong)程材料(liao)分裂,外观美观坚固人抱。仪器采用先进的精密电机好抵挡,转速能达到(dao)10000转/分斜倚,有效的保障(zhang)了成膜的均匀(yun)性身体走。另外本仪器采用触控屏控制(zhi)帮他做,可以预设匀(yun)胶曲线(xian)树妖,大(da)大(da)简(jian)化了使(shi)用过程降低了学习成本床铺,十分适合实(shi)验室选购支架上。
    • 热阴极直流等离子体化...
      热阴极直流等离子体化学气相沉(chen)积(ji)设备(DCCVD)是在(zai)常规冷阴极辉光放电基础上发展起来的七人中,主要用于金刚(gang)石单晶(jing)或多(duo)晶(jing)膜的沉(chen)积(ji)生长
      卷对卷PECVD石墨...
      卷对卷PECVD石墨烯制(zhi)备设备主要应(ying)用于计算机和智能手机屏幕(mu)小虫虫,超轻去出、柔(rou)性的太(tai)阳(yang)能电池(chi)金海,以及新(xin)型(xing)的发光设备和其他薄膜电子产(chan)品(pin)
      PECVD-R?旋转...
      本产(chan)品(pin)为PECVD-R?旋转等离子加强CVD设备甚远。PECVD-R?旋转等离子加强CVD设备十分适合在(zai)气氛(fen)保护的?mu)肪诚铝?xu)对粉末材料(liao)用CVD方法进行包(bao)裹和修饰八婆。
      PE-HPCVD等离...
      PE-HPCVD等离子增(zeng)强物理化学气相沉(chen)积(ji)由一台双(shuang)温区管式炉小黄花,一套(tao)钨丝蒸发源既死,一套(tao)等离子发生装置以及一套(tao)质量流量计组成断围绕。PE-HPCVD等离子增(zeng)强物理化学气相沉(chen)积(ji)适用于无机复合粉末的热处理及粉末表面(mian)的均匀(yun)包(bao)覆许没。
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