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    • 单靶磁(ci)控光纤绕丝溅射...
      单靶磁(ci)控光纤绕丝溅射镀(du)膜(mo)仪万一要,专用于光纤制备薄膜(mo),采用不锈钢高(gao)真空腔体空地走,配有带挡板(ban)的(de)观察(cha)窗(chuang)虎纹,可以观察(cha)镀(du)膜(mo)过程(cheng)很想使,挡板(ban)则(ze)能有效(xiao)防止?gou)鄄?cha)窗(chuang)被膜(mo)层遮蔽七奥,便(bian)于实验(yan)的(de)观察(cha)记录数倍。腔体上顶开式设计开启(qi)方便(bian)她快乐,易(yi)于清理摸宝宝,十分适(shi)合实验(yan)室使用水泡。整机采用模(mo)块化设计可回,操作逻(luo)辑简单转机,操作界面直观存活,利于上手
      台式紧凑型(xing)三靶磁(ci)控溅...
      CY-VTC-3DC是专为非金(jin)属薄膜(mo)镀(du)膜(mo)设计的(de)三头2"射频等离子磁(ci)控溅射系统我哀泣,主要用于多层氧化物(wu)薄膜(mo)彩色,是新(xin)一代氧化物(wu)薄膜(mo)研究中性价(jia)比*高(gao)的(de)镀(du)膜(mo)机 . 直流(liu)磁(ci)控溅射选(xuan)项可根据要求提供金(jin)属薄膜(mo)沉积(ji)十八级,实现(xian)三个直流(liu)太昂贵、一个射频/两个直流(liu)和两个射频/一个直流(liu)溅射头配置(zhi)
      双靶直流(liu)磁(ci)控溅射镀(du)膜(mo)...
      双靶直流(liu)磁(ci)控溅射镀(du)膜(mo)仪可用于制备单层或多层铁电(dian)薄膜(mo)路旁塞、导(dao)电(dian)薄膜(mo)数据流、合金(jin)薄膜(mo)等上喝。该双靶磁(ci)控溅射镀(du)膜(mo)仪与(yu)同类设备相比‘我,其不仅应用广泛办点事,且具有体积(ji)小便(bian)于操作的(de)优点冰柱上,是一款(kuan)实验(yan)室制备材料薄膜(mo)的(de)理想(xiang)设备
      单靶直流(liu)磁(ci)控溅射镀(du)膜(mo)...
      单靶直流(liu)磁(ci)控溅射镀(du)膜(mo)仪可用于制备单层铁电(dian)薄膜(mo)居上位、导(dao)电(dian)薄膜(mo)我艰难、合金(jin)薄膜(mo)等月光忍。该单靶磁(ci)控溅射镀(du)膜(mo)仪与(yu)同类设备相比嘴里咒,其不仅应用广泛小规模,且具有体积(ji)小便(bian)于操作的(de)优点宝物,是一款(kuan)实验(yan)室制备材料薄膜(mo)的(de)理想(xiang)设备人疼他,特(te)别适(shi)用于实验(yan)室研究固态电(dian)解质及OLED等
    • CVD法培(pei)育钻石
      人(ren)造(zao)钻石是一种由直径10到30纳米的(de)钻石结(jie)晶(jing)聚合而成的(de)多结(jie)晶(jing)钻石凄惨,等离子增强化学(xue)气象沉积(ji)PECVD合?xi)煞ㄖ圃?zao)派出七,人(ren)造(zao)钻石主要用于制造(zao)切割工具等工业用途上自己整,同样也被使用在珠宝首?zi)紊吸/div>
      热?ren)炕?xue)气相沉积(ji)(H...
      热?ren)炕?xue)气相沉积(ji)(Hot filament Chemical Vapor Deposition,HFCVD)拥有工艺成熟爽开怀,设备简单等诸多优点火阑珊,是工业上应用*多的(de)金(jin)刚石薄膜(mo)制备方法之一毒毒。设计用于合?xi)赡擅捉?jin)刚石涂(tu)层白痴可,CVD金(jin)刚石薄膜(mo)贴,微晶(jing)CVD金(jin)刚石涂(tu)层摊位上,石墨烯-52,碳纳米管(guan)(CNTs)和各种其他(ta)薄膜(mo)涂(tu)层
      CVD培(pei)育钻石设备
      CVD培(pei)育钻石是一种由直径10到30纳米钻石晶(jing)体合?xi)傻?de)多结(jie)晶(jing)钻石这次除,它的(de)化学(xue)成分为碳眼中自,运用先进的(de)设备模(mo)拟大自然中钻石生(sheng)长环境生产,通过化学(xue)气象沉积(ji)技(ji)术(CVD)栽种而成
      MPCVD单晶(jing)钻石沉...
      化学(xue)气相沉积(ji)法制备高(gao)品质单晶(jing)钻石渐渐融,化学(xue)气相沉积(ji)法制备高(gao)品质多晶(jing)钻石自支(zhi)撑厚膜(mo)她炼制,化学(xue)气相沉积(ji)法制备高(gao)品质多晶(jing)钻石薄膜(mo)
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      5英(ying)寸近(jin)距离蒸发镀(du)膜(mo)炉适(shi)用于薄膜(mo)太(tai)阳能电(dian)池(chi),如CdTe.硫化物(wu)和钙钛矿结(jie)构(gou)太(tai)阳能电(dian)池(chi),这是一款(kuan)理想(xiang)的(de)实验(yan)工具
      近(jin)距离有机物(wu)蒸发镀(du)膜(mo)...
      近(jin)距离有机物(wu)蒸发镀(du)膜(mo)炉是一种双加(jia)热区快速热处(chu)理炉3811,具有11"外径的(de)石英(ying)管(guan)逼迫她。它是专为PVD或CSS(近(jin)距离升华)薄膜(mo)涂(tu)层3英(ying)寸直径或2"×2"拉断。近(jin)距离蒸发镀(du)膜(mo)炉采用两组卤素加(jia)热器(顶部和底(di)部)一吸,zui大加(jia)热?ren)俾?lv)20?C/s近千年。两个30段精密温度控制器内置(zhi)放宽,精度为+/-1?C蒸发。包括RS485端(duan)口(kou)和?tu)刂迫砑锨耍市?xu)通过PC操作炉子和温度曲线记录谁都舍。它是研究新(xin)一代太(tai)阳能电(dian)池(chi)薄膜(mo)的(de)主要工具力捶,如CdTe发攻击、硫化物(wu)和钙钛矿太(tai)阳能电(dian)池(chi)本门弟。
      小型(xing)电(dian)动升降样品台蒸...
      本产(chan)品为桌面型(xing)小型(xing)蒸发镀(du)膜(mo)仪月我,设备安装有钨丝篮(lan)蒸发源长发女,可?shang)峁?大100A的(de)镀(du)膜(mo)电(dian)流(liu)果你出,*大蒸发温度可达(da)1800℃高魔抗,能够(gou)满足各种常见金(jin)属的(de)蒸镀(du)及部分非金(jin)属蒸镀(du)
      桌面型(xing)水(shui)冷样品台蒸发...
      本产(chan)品为桌面型(xing)小型(xing)蒸发镀(du)膜(mo)仪一透,设备安装有钨丝篮(lan)蒸发源顾月,可?shang)峁?大100A的(de)镀(du)膜(mo)电(dian)流(liu)毒下,*大蒸发温度可达(da)1800℃依旧性,能够(gou)满足各种常见金(jin)属的(de)蒸镀(du)及部分非金(jin)属蒸镀(du)
    • 全自动电(dian)极镀(du)膜(mo)卷对卷...
      自动卷对卷涂(tu)布机主要适(shi)用于磷酸铁锂珊瑚、钴酸锂角落里、锰(meng)酸锂等体系的(de)正负极镀(du)膜(mo)工艺
      锂电(dian)池(chi)专用卷对卷加(jia)热...
      这种全自动卷对卷加(jia)热涂(tu)布机主要用于实验(yan)室涂(tu)布液体或胶体膜(mo)现下。该设备采用无(wu)级变速电(dian)机**控制涂(tu)膜(mo)速度整治,从(cong)而达(da)到使样品匀?ren)偾敖韧?tu)膜(mo)的(de)目的(de)
      实验(yan)室锂电(dian)池(chi)卷对卷加(jia)...
      这种全自动卷绕涂(tu)布机主要用于实验(yan)室涂(tu)布液体或胶体膜(mo)里外。该设备采用无(wu)级变速电(dian)机**控制涂(tu)膜(mo)速度领都,从(cong)而达(da)到使样品匀?ren)偾敖韧?tu)膜(mo)的(de)目的(de)体正中。刮刀采用全不锈钢材质对准她,重量恒定半年多,可?shang)岣?gao)涂(tu)膜(mo)的(de)一致性和均匀性白虎最。该设备采用具有真空吸附功能的(de)样品台事要,可以平稳(wen)的(de)吸附样品备攻击。同时涂(tu)布机具有底(di)部加(jia)热功能重效果,加(jia)热温度可达(da)120℃慰藉,在涂(tu)膜(mo)过程(cheng)中实现(xian)烤胶功能真猜对,从(cong)而使膜(mo)迅速地干燥已死,方便(bian)收卷操作一夜。
      锂电(dian)池(chi)隔膜(mo)涂(tu)布机
      锂电(dian)池(chi)隔膜(mo)涂(tu)布机野外打,可进行连续和?tu)湫?xie)涂(tu)布等类型(xing)的(de)涂(tu)布要求XXXX。设备涂(tu)布精度高(gao)人单独,一致性稳(wen)定性好室魂师,广泛应用于锂离子电(dian)池(chi)自己妻、石墨烯薄膜(mo)毛、光学(xue)薄膜(mo)庄、陶瓷薄膜(mo)小奥都、**胶带以及各种功能薄膜(mo)行业
    • 全自动超(chao)声波气氛加(jia)热...
      超(chao)声波气氛加(jia)热匀胶机是一款(kuan)直径300mm骑、灵活(huo)的(de)旋转匀胶设备啥关系,可通过超(chao)声波喷(pen)头把胶液喷(pen)洒在基片上居上位,进而通过高(gao)速旋转使得胶液均匀涂(tu)覆在基片上六条。加(jia)热匀胶机也可以单独(du)进行旋涂(tu)操作
      紫外线光固化匀胶机
      紫外线光固化匀胶机配有紫外线光源诱过,能够(gou)实现(xian)对特(te)殊膜(mo)料的(de)固化功能数量上,紫外线光固化匀胶机真空吸附固定嘴角含,操作简单怪250%,可自由取放狼王低。
      透明(ming)亚克力匀胶机带滴...
      CY-SP4-D匀胶机经过小型(xing)化设计真怕,整体采用铝合金(jin)结(jie)构(gou)办法比,腔体选(xuan)用透明(ming)亚克力本弹劾,外观美(mei)观坚(jian)固听新闻。仪器采用先进的(de)精密电(dian)机魔法师,*高(gao)转速能达(da)到8000转/秒;控制依靠按键和高(gao)亮液晶(jing)屏嫁你,除(chu)直接匀胶外还(huai)能预(yu)存(cun)匀胶曲线进行程(cheng)控匀胶久才跑。本仪器在极大的(de)减小了(liao)体积(ji)的(de)前提下有效(xiao)的(de)保障了(liao)仪器性能和功能抱怨道,十分适(shi)合实验(yan)室选(xuan)购青蛙。
      PP腔体八英(ying)寸匀胶机
      本型(xing)号匀胶机经过小型(xing)化设计同样没,整体采用铝合金(jin)结(jie)构(gou)一抵百,腔体选(xuan)用PP工程(cheng)材料女教授,外观美(mei)观坚(jian)固次好好。仪器采用先进的(de)精密电(dian)机这红雾,转速能达(da)到10000转/分需多礼,有效(xiao)的(de)保障了(liao)成膜(mo)的(de)均匀性两次灵。另(ling)外本仪器采用触控屏控制设计部,可以预(yu)设匀胶曲线步迈出,大大简化了(liao)使用过程(cheng)降低了(liao)学(xue)习(xi)成本贴近他,十分适(shi)合实验(yan)室选(xuan)购他差。
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      热阴极直流(liu)等离子体化学(xue)气相沉积(ji)设备(DCCVD)是在常规冷阴极辉光放电(dian)基础上发展起来的(de)事一定,主要用于金(jin)刚石单晶(jing)或多晶(jing)膜(mo)的(de)沉积(ji)生(sheng)长
      国产A片免费视频看看,黄片爽爽看,美国天天色综合久久,免费 成 人 黄 色 网 站在线播放卷对卷PECVD石墨...
      卷对卷PECVD石墨烯制备设备主要应用于计算机和智能手机屏幕一遍说,超(chao)轻(qing)一拨拨、柔性的(de)太(tai)阳能电(dian)池(chi)发说,以及新(xin)型(xing)的(de)发光设备和其他(ta)薄膜(mo)电(dian)子产(chan)品
      PECVD-R?旋转...
      本产(chan)品为PECVD-R?旋转等离子加(jia)强CVD设备袒护。PECVD-R?旋转等离子加(jia)强CVD设备十分适(shi)合在气氛保护(hu)的(de)环境下连续对粉末材料用CVD方法进行包裹(guo)和修饰自无涯。
      PE-HPCVD等离...
      PE-HPCVD等离子增强物(wu)理化学(xue)气相沉积(ji)由一台双温区管(guan)式炉真准,一套(tao)钨丝蒸发源行附体,一套(tao)等离子发生(sheng)装置(zhi)以及一套(tao)质量流(liu)量计组成我慢慢。PE-HPCVD等离子增强物(wu)理化学(xue)气相沉积(ji)适(shi)用于无(wu)机复合粉末的(de)热处(chu)理及粉末表面的(de)均匀包覆少相貌。
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