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    • 1700℃管式炉采用高质(zhi)量硅钼(mu)棒作为加热元(yuan)件离蜥蜴,加热温(wen)度可高达1700℃点数,炉管管径为50mm信,采用高纯...
    • 单(dan)靶磁控光纤绕丝溅射...
      单(dan)靶磁控光纤绕丝溅射镀膜仪(yi)女儿,专(zhuan)用于光纤制备薄膜,采用不锈钢高真空(kong)腔体魔导师,配有带挡板(ban)的观察窗自己爬,可以观察镀膜过程我帮你,挡板(ban)则(ze)能(neng)有效防止?gou)鄄齑氨荒げ阏诒谓芸舜阌谑笛榈墓鄄旒锹?lu)出土面。腔体上顶开(kai)式设计开(kai)启(qi)方(fang)便语刺激,易?zi)谇謇泶笫烂妫质(zhi)屎鲜笛槭沂褂萌硕济弧U捎媚高一些?榛杓扑骄洌僮髀呒虻?dan)里避难,操作界面直观白目,利于上手
      台(tai)式紧凑(cu)型三靶磁控溅...
      CY-VTC-3DC是(shi)专(zhuan)为非金属薄膜镀膜设计的三头2"射频等(deng)离子(zi)磁控溅射系(xi)统旧人,主要用于多(duo)层氧化物薄膜脸庞下,是(shi)新一代(dai)氧化物薄膜研究(jiu)中(zhong)性价(jia)比*高的镀膜机 . 直流磁控溅射选项可根据要求提供金属薄膜沉积(ji)找糖,实现三个直流时很、一个射频/两个直流和(he)两个射频/一个直流溅射头配置
      双靶直流磁控溅射镀膜...
      双靶直流磁控溅射镀膜仪(yi)可用于制备单(dan)层或多(duo)层铁电薄膜你年轻、导电薄膜真别说、合金薄膜等(deng)女人般。该双靶磁控溅射镀膜仪(yi)与同类设备相比—这,其(qi)不仅应(ying)用广泛她眼中,且具有体积(ji)小便于操作的优点(dian)睬你,是(shi)一款实验室制备?fu)牧媳∧さ睦硐肷璞伏/div>
      单(dan)靶直流磁控溅射镀膜...
      单(dan)靶直流磁控溅射镀膜仪(yi)可用于制备单(dan)层铁电薄膜时常、导电薄膜令整、合金薄膜等(deng)阴影里。该单(dan)靶磁控溅射镀膜仪(yi)与同类设备相比戟,其(qi)不仅应(ying)用广泛部队我,且具有体积(ji)小便于操作的优点(dian)值已,是(shi)一款实验室制备?fu)牧媳∧さ睦硐肷璞腹右唬乇鹗视糜谑笛槭已芯?jiu)固态电解质(zhi)及OLED等(deng)
    • CVD法(fa)培育钻石
      人造钻石是(shi)一种由直径10到30纳(na)米的钻石结(jie)晶聚合而成的多(duo)结(jie)晶钻石傻乎乎,等(deng)离子(zi)增强(qiang)化学(xue)气象沉积(ji)PECVD合成法(fa)制造谁造,人造钻石主要用于制造切割工具等(deng)工业用途(tu)上面熟,同样也被使用在(zai)珠宝(bao)首饰上
      热丝化学(xue)气相沉积(ji)(H...
      热丝化学(xue)气相沉积(ji)(Hot filament Chemical Vapor Deposition,HFCVD)拥有工艺(yi)成熟我确定,设备简单(dan)等(deng)诸多(duo)优点(dian)全败,是(shi)工业上应(ying)用*多(duo)的金刚石薄膜制备方(fang)法(fa)之一回涌。设计用于合成纳(na)米金刚石涂层要强些,CVD金刚石薄膜帽檐内,微(wei)晶CVD金刚石涂层曾经带,石墨烯燕魂圣,碳(tan)纳(na)米管(CNTs)和(he)?tou)髦制?qi)他薄膜涂层
      CVD培育钻石设备
      CVD培育钻石是(shi)一种由直径10到30纳(na)米钻石晶体合成的多(duo)结(jie)晶钻石持续使,它的化学(xue)成分为碳(tan)刚坐下,运用先进的?na)璞改D獯笞匀恢?zhong)钻石生(sheng)长(chang)环境(jing)要耗费,通过化学(xue)气象沉积(ji)技术(CVD)栽(zai)种而成
      MPCVD单(dan)晶钻石沉...
      化学(xue)气相沉积(ji)法(fa)制备高品质(zhi)单(dan)晶钻石这四,化学(xue)气相沉积(ji)法(fa)制备高品质(zhi)多(duo)晶钻石自支(zhi)撑厚膜可功效,化学(xue)气相沉积(ji)法(fa)制备高品质(zhi)多(duo)晶钻石薄膜
    • 5英寸近距离蒸发镀膜...
      5英寸近距离蒸发镀膜炉适用于薄膜太阳能(neng)电池,如(ru)CdTe.硫(liu)化物和(he)?tou)祁芽蠼?jie)构(gou)太阳能(neng)电池,这是(shi)一款理想的实验工具
      近距离有机物蒸发镀膜...
      近距离有机物蒸发镀膜炉是(shi)一种双加热区快速热处理炉换一百,具有11"外径的石英管很花俏。它是(shi)专(zhuan)为PVD或CSS(近距离升华)薄膜涂层3英寸直径或2"×2"彤被我。近距离蒸发镀膜炉采用两组(zu)卤素加热器(顶部(bu)和(he)底部(bu))变态我,zui大加热速率(lv)20?C/s丝金色。两个30段精密(mi)温(wen)度控制器内(na)置我上线,精度为+/-1?C族长孙。包括RS485端(duan)口和(he)控制软(ruan)件护本人,允许通过PC操作炉子(zi)和(he)温(wen)度曲(qu)线记录(lu)大都跟。它是(shi)研究(jiu)新一代(dai)太阳能(neng)电池薄膜的主要工具斗养成,如(ru)CdTe我死命、硫(liu)化物和(he)?tou)祁芽筇裟?neng)电池新浮现。
      小型电动(dong)升降样品台(tai)蒸...
      本?jing)肺烂嫘托⌒驼舴⒍颇ひ?yi)一手可,设备安装有钨丝篮(lan)蒸发源过身体,可?shang)峁?大100A的镀膜电流些高攻,*大蒸发温(wen)度可达1800℃围坐,能(neng)够(gou)满足各种常见金属的蒸镀及部(bu)分非金属蒸镀
      桌面型水(shui)冷样品台(tai)蒸发...
      本?jing)肺烂嫘托⌒驼舴⒍颇ひ?yi)兽魂师,设备安装有钨丝篮(lan)蒸发源嘻嘻我,可?shang)峁?大100A的镀膜电流数量极,*大蒸发温(wen)度可达1800℃铜鼎上,能(neng)够(gou)满足各种常见金属的蒸镀及部(bu)分非金属蒸镀
    • 全(quan)自动(dong)电极镀膜卷对卷...
      自动(dong)卷对卷涂布机主要适用于磷酸(suan)铁锂(li)儒雅、钴酸(suan)锂(li)领导才、锰酸(suan)锂(li)等(deng)体系(xi)的正负极镀膜工艺(yi)
      锂(li)电池专(zhuan)用卷对卷加热...
      这种全(quan)自动(dong)卷对卷加热涂布机主要用于实验室涂布?jia)禾寤蚪禾迥げ∥ 8蒙璞覆(fu)捎梦藜侗渌俚缁?*控制涂膜速度出点血,从而达到使样品匀速前进而均匀涂膜的目的
      实验室锂(li)电池卷对卷加...
      这种全(quan)自动(dong)卷绕涂布机主要用于实验室涂布?jia)禾寤蚪禾迥ば男椤8蒙璞覆(fu)捎梦藜侗渌俚缁?*控制涂膜速度攻敌,从而达到使样品匀速前进而均匀涂膜的目的血脉相。刮刀采用全(quan)不锈钢材质(zhi)他早开,重量恒定轻唱起,可?shang)岣咄磕さ囊恢滦院?he)均匀性建议。该设备?fu)捎镁哂姓婵?kong)吸附功(gong)能(neng)的样品台(tai)‘教师,可以平(ping)稳的吸附样品买月月。同时涂布机具有底部(bu)加热功(gong)能(neng)连一骑,加热温(wen)度可达120℃错印象,在(zai)涂膜过程中(zhong)实现烤(kao)胶功(gong)能(neng)比龟速,从而使膜迅(xun)速地干燥沉默少,方(fang)便收(shou)卷操作出修。
      锂(li)电池隔(ge)膜涂布机
      锂(li)电池隔(ge)膜涂布机丢下,可进行连续和(he)间歇(xie)涂布等(deng)类型的涂布?jia)笫Υ妗I璞竿坎季雀呷怂凳玻恢滦晕榷ㄐ院煤紊撕Γ惴河?ying)用于锂(li)离子(zi)电池吉祥点、石墨烯薄膜更奇缺、光学(xue)薄膜并入、陶(tao)瓷(ci)薄膜地最强、**胶带以及各种功(gong)能(neng)薄膜行业
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      超声(sheng)波气氛加热匀胶机是(shi)一款直径300mm挺漂亮、灵活的旋转匀胶设备地域,可通过超声(sheng)波喷头把胶液喷洒在(zai)基片上愿直,进而通过高速旋转使得胶液均匀涂覆(fu)在(zai)基片上集地。加热匀胶机也?bu)梢缘?dan)独进行旋涂操作
      紫外线光固化匀胶机
      紫外线光固化匀胶机配有紫外线光源迟缓起,能(neng)够(gou)实现对特殊(shu)膜料?xi)墓袒?gong)能(neng)分贝,紫外线光固化匀胶机真空(kong)吸附固定刷副本,操作简单(dan)谢我什,可自由取放你下。
      透(tou)明亚(ya)克力匀胶机带滴...
      CY-SP4-D匀胶机经过小型化设计依旧受,整体采用铝(lv)合金结(jie)构(gou)连猜都,腔体选用透(tou)明亚(ya)克力答应什,外观美(mei)观坚固力地咬。仪(yi)器采用先进的精密(mi)电机窘困,*高转速能(neng)达到8000转/秒;控制依靠按键和(he)?tou)吡?liang)液晶屏考奥,除直接匀胶?he)饣鼓?neng)预存匀胶曲(qu)线进行程控匀胶耳钉。本仪(yi)器在(zai)极大的减小了体积(ji)的前提下有效的保障(zhang)了仪(yi)器性能(neng)和(he)功(gong)能(neng)女郎,十分?zhi)屎鲜笛槭已」喝松撕ΑⅫ/div>
      PP腔体八英寸匀胶机
      本型号匀胶机经过小型化设计道伤痕,整体采用铝(lv)合金结(jie)构(gou)她拍动,腔体选用PP工程材料憨憨地,外观美(mei)观坚固算明白。仪(yi)器采用先进的精密(mi)电机利爪骤,转速能(neng)达到10000转/分正打,有效的保障(zhang)了成膜的均匀性尽管利。另外本仪(yi)器采用触控屏控制中间隔,可以?zai)ど柙冉呵?qu)线乎娱乐,大大简化了使用过程降低(di)了学(xue)习成本出白光,十分?zhi)屎鲜笛槭已」豪棺∷Ⅻ/div>
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      热阴极直流等(deng)离子(zi)体化学(xue)气相沉积(ji)设备(DCCVD)是(shi)在(zai)常规冷阴极辉(hui)光放电基础上发展起来(lai)的两真,主要用于金刚石单(dan)晶或多(duo)晶膜的沉积(ji)生(sheng)长(chang)
      卷对卷PECVD石墨...
      卷对卷PECVD石墨烯制备设备主要应(ying)用于计算机和(he)智(zhi)能(neng)手机屏幕旅店,超轻(qing)这海德、柔性的太阳能(neng)电池才开口,以及新型的发光设备和(he)其(qi)他薄膜电子(zi)产品
      PECVD-R?旋转...
      本?jing)肺狿ECVD-R?旋转等(deng)离子(zi)加强(qiang)CVD设备果你赢。PECVD-R?旋转等(deng)离子(zi)加强(qiang)CVD设备十分?zhi)屎显?zai)气氛保护的环境(jing)下?lv)苑勰┎牧嫌肅VD方(fang)法(fa)进行包裹和(he)修(xiu)饰貌上。
      PE-HPCVD等(deng)离...
      PE-HPCVD等(deng)离子(zi)增强(qiang)物理化学(xue)气相沉积(ji)由一台(tai)双温(wen)区管式炉装饰品,一套钨丝?kong)舴⒃醇雷娓福惶椎?deng)离子(zi)发生(sheng)装置以及一套质(zhi)量流量计组(zu)成过一样。PE-HPCVD等(deng)离子(zi)增强(qiang)物理化学(xue)气相沉积(ji)适用于无机复合粉末的热处理及粉末表面的均匀包覆(fu)尽管。
    联(lian)系(xi)我(wo)们(men)
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