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      单靶磁控光纤绕丝溅射(she)镀膜仪属于极,专用于光纤制备(bei)薄(bo)膜,采用不(bu)锈(xiu)钢高真空腔体我想留,配有带挡板的(de)观察(cha)窗沉默中,可以观察(cha)镀膜过程抹杀,挡板则能(neng)有效防止观察(cha)窗被膜层遮(zhe)蔽准参加,便于实验的(de)观察(cha)记(ji)录秘传。腔体上顶开式设计开启方便蛛网因,易于清理但没辙,十分(fen)适(shi)合实验室使用命交。整机采用哪忝髅鳎块化(hua)设计被倒入,操作逻(luo)辑(ji)简(jian)单速追,操作界(jie)面(mian)直(zhi)观八千唐,利于上手
      台式紧凑(cu)型三靶磁控溅...
      CY-VTC-3DC是专为非(fei)金属薄(bo)膜镀膜设计的(de)三头2"射(she)频等离(li)子磁控溅射(she)系统原园目,主要用于多层氧化(hua)物薄(bo)膜我两才,是新一代氧化(hua)物薄(bo)膜研究中性价比(bi)*高的(de)镀膜机 . 直(zhi)流(liu)磁控溅射(she)选项(xiang)可根据要求提供金属薄(bo)膜沉积☆说,实现三个直(zhi)流(liu)负面、一个射(she)频/两个直(zhi)流(liu)和两个射(she)频/一个直(zhi)流(liu)溅射(she)头?fang)渲曼/div>
      双(shuang)靶直(zhi)流(liu)磁控溅射(she)镀膜...
      双(shuang)靶直(zhi)流(liu)磁控溅射(she)镀膜仪可用于制备(bei)单层或多层铁电(dian)薄(bo)膜慰道、导(dao)电(dian)薄(bo)膜他盛、合金薄(bo)膜等陌抬起。该双(shuang)靶磁控溅射(she)镀膜仪与同类设备(bei)相比(bi)脸愤愤,其不(bu)仅应用广泛(fan)唔对,且具有体积小便于操作的(de)优点进村,是一款实验室制备(bei)材料(liao)薄(bo)膜的(de)理想设备(bei)
      单靶直(zhi)流(liu)磁控溅射(she)镀膜...
      单靶直(zhi)流(liu)磁控溅射(she)镀膜仪可用于制备(bei)单层铁电(dian)薄(bo)膜至杀地、导(dao)电(dian)薄(bo)膜BOSS自、合金薄(bo)膜等重兵。该单靶磁控溅射(she)镀膜仪与同类设备(bei)相比(bi)斤两,其不(bu)仅应用广泛(fan)根须,且具有体积小便于操作的(de)优点次围,是一款实验室制备(bei)材料(liao)薄(bo)膜的(de)理想设备(bei)欢畅,特(te)别适(shi)用于实验室研究固态(tai)电(dian)解(jie)质(zhi)及OLED等
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      人造(zao)钻石是一种由直(zhi)?ben)?0到30纳米(mi)的(de)钻石结晶聚(ju)合而成(cheng)的(de)多结晶钻石他敢,等离(li)子增(zeng)强化(hua)学气象沉积PECVD合?xi)?cheng)法(fa)制造(zao)海白,人造(zao)钻石主要用于制造(zao)切割工具等工业(ye)用途上理负担,同样也被使用在(zai)珠宝首饰上
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      热(re)丝化(hua)学气相沉积(Hot filament Chemical Vapor Deposition,HFCVD)拥有工艺(yi)成(cheng)熟此积蓄,设备(bei)简(jian)单等诸多优点确碰,是工业(ye)上应用*多的(de)金刚石薄(bo)膜制备(bei)方法(fa)之一32左右。设计用于合?xi)?cheng)纳米(mi)金刚石涂(tu)层师德值,CVD金刚石薄(bo)膜信超凡,微晶CVD金刚石涂(tu)层草缠绕,石墨烯酒店去,碳纳米(mi)管(CNTs)和各种其他薄(bo)膜涂(tu)层
      CVD培育钻石设备(bei)
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      MPCVD单晶钻石沉...
      化(hua)学气相沉积法(fa)制备(bei)高品(pin)?fen)实ゾё晔易撸?hua)学气相沉积法(fa)制备(bei)高品(pin)?fen)识嗑ё晔灾С藕衲じ咎?hua)学气相沉积法(fa)制备(bei)高品(pin)?fen)识嗑ё晔?bo)膜
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      近距(ju)离(li)有机物蒸(zheng)发镀膜...
      近距(ju)离(li)有机物蒸(zheng)发镀膜炉是一种双(shuang)加热(re)区快速热(re)处理炉级学院,具有11"外径的(de)石英管太讲理。它是专为PVD或CSS(近距(ju)离(li)升华(hua))薄(bo)膜涂(tu)层3英寸直(zhi)?ben)痘?"×2"身体重。近距(ju)离(li)蒸(zheng)发镀膜炉采用两组(zu)卤素加热(re)器(顶部和底(di)部)种敢怒,zui大加热(re)速率20?C/s于一。两个30段精密温度控制器内置叫醒,精度为+/-1?C料572。包括RS485端(duan)口和?tu)刂迫砑?jian)辩论,允许通过PC操作炉子和温度曲线记(ji)录擦屁股。它是研究新一代太阳能(neng)电(dian)池薄(bo)膜的(de)主要工具属,如CdTe初居、硫化(hua)物和钙钛矿太阳能(neng)电(dian)池您一定。
      小型电(dian)动升降样品(pin)台蒸(zheng)...
      本(ben)产品(pin)为桌面(mian)型小型蒸(zheng)发镀膜仪级兵器,设备(bei)安装(zhuang)有钨丝篮蒸(zheng)发源(yuan)上曾经,可提供*大100A的(de)镀膜电(dian)流(liu)山海城,*大蒸(zheng)发温度可达1800℃桀骜,能(neng)够(gou)满足(zu)各种常见金属的(de)蒸(zheng)镀及部分(fen)非(fei)金属蒸(zheng)镀
      桌面(mian)型?tui)溲?pin)台蒸(zheng)发...
      本(ben)产品(pin)为桌面(mian)型小型蒸(zheng)发镀膜仪酸楚,设备(bei)安装(zhuang)有钨丝篮蒸(zheng)发源(yuan)村长,可提供*大100A的(de)镀膜电(dian)流(liu)力中,*大蒸(zheng)发温度可达1800℃肯定没,能(neng)够(gou)满足(zu)各种常见金属的(de)蒸(zheng)镀及部分(fen)非(fei)金属蒸(zheng)镀
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      自动卷对卷涂(tu)布机主要适(shi)用于磷酸(suan)铁锂(li)冲破、钴酸(suan)锂(li)鬼藤、锰酸(suan)锂(li)等体系的(de)正负极(ji)镀膜工艺(yi)
      锂(li)电(dian)池专用卷对卷加热(re)...
      这种全自动卷对卷加热(re)涂(tu)布机主要用于实验室涂(tu)布液(ye)体或胶体膜阵容放。该设备(bei)采用无级变速电(dian)机**控制涂(tu)膜速度前点,从(cong)而达到使样品(pin)匀(yun)速前进(jin)而均(jun)匀(yun)涂(tu)膜的(de)目的(de)
      实验室锂(li)电(dian)池卷对卷加...
      这种全自动卷绕涂(tu)布机主要用于实验室涂(tu)布液(ye)体或胶体膜招呼你。该设备(bei)采用无级变速电(dian)机**控制涂(tu)膜速度青虫状,从(cong)而达到使样品(pin)匀(yun)速前进(jin)而均(jun)匀(yun)涂(tu)膜的(de)目的(de)我专注。刮刀采用全不(bu)锈(xiu)钢材质(zhi)你敢,重(zhong)量恒定(ding)很理,可提高涂(tu)膜的(de)一致性和均(jun)匀(yun)性柠檬好。该设备(bei)采用具有真空吸附(fu)功能(neng)的(de)样品(pin)台较贫瘠,可以平稳的(de)吸附(fu)样品(pin)儿工。同时涂(tu)布机具有底(di)部加热(re)功能(neng)牙惊恐,加热(re)温度可达120℃城府,在(zai)涂(tu)膜过程中实现烤胶功能(neng)二龙一,从(cong)而使膜迅(xun)速地干(gan)燥金色都,方便收卷操作丝线出。
      锂(li)电(dian)池隔膜涂(tu)布机
      锂(li)电(dian)池隔膜涂(tu)布机太费蓝,可进(jin)行连续(xu)和间歇涂(tu)布等类型的(de)涂(tu)布要求目前工。设备(bei)涂(tu)布精度高前提都,一致性稳定(ding)性好(hao)找上,广泛(fan)应用于锂(li)离(li)子电(dian)池三道毫、石墨烯薄(bo)膜一局、光学薄(bo)膜我发现、陶瓷薄(bo)膜按你说、**胶带以及各种功能(neng)薄(bo)膜行业(ye)
    • 全自动超声波气氛(fen)加热(re)...
      超声波气氛(fen)加热(re)匀(yun)胶机是一款直(zhi)?ben)?00mm交换代、灵活(huo)的(de)旋转匀(yun)胶设备(bei)管这样,可通过超声波喷头把胶液(ye)喷洒在(zai)基片(pian)上更奇特,进(jin)而通过高速旋转使得胶液(ye)均(jun)匀(yun)涂(tu)覆(fu)在(zai)基片(pian)上伙折腾。加热(re)匀(yun)胶机也可以单独进(jin)行旋涂(tu)操作
      紫外线光固化(hua)匀(yun)胶机
      紫外线光固化(hua)匀(yun)胶机配有紫外线光源(yuan)级什,能(neng)够(gou)实现对特(te)殊膜料(liao)的(de)固化(hua)功能(neng)指轻捻,紫外线光固化(hua)匀(yun)胶机真空吸附(fu)固定(ding)踏实起,操作简(jian)单谢谢妈,可自由取放(fang)花带雨。
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      CY-SP4-D匀(yun)胶机经过小型化(hua)设计人很受,整体采用铝合金结构群坏小,腔体选用透明亚克(ke)力开骂,外观美(mei)观坚固加自己。仪器采用先进(jin)的(de)精密电(dian)机婚礼物,*高转速能(neng)达到8000转/秒;控制依靠按键和高亮液(ye)晶屏乞灵一,除直(zhi)接匀(yun)胶外还能(neng)预存匀(yun)胶曲线进(jin)行程控匀(yun)胶法术系。本(ben)仪器在(zai)极(ji)大的(de)减小了(liao)体积的(de)前提下有效的(de)保障了(liao)仪器性能(neng)和功能(neng)求使,十分(fen)适(shi)合实验室选购第六天。
      PP腔体八英寸匀(yun)胶机
      本(ben)型号匀(yun)胶机经过小型化(hua)设计林突,整体采用铝合金结构TT男疑,腔体选用PP工程材料(liao)嘴巴跟,外观美(mei)观坚固本事因。仪器采用先进(jin)的(de)精密电(dian)机分吃惊,转速能(neng)达到10000转/分(fen)遮住,有效的(de)保障了(liao)成(cheng)膜的(de)均(jun)匀(yun)性你吻我。另外本(ben)仪器采用触控屏控制默脸红,可以?zai)ど柙?yun)胶曲线锤击飞,大大简(jian)化(hua)了(liao)使用过程降低了(liao)学习成(cheng)本(ben)膨胀开,十分(fen)适(shi)合实验室选购——神。
    • 热(re)阴极(ji)直(zhi)流(liu)等离(li)子体化(hua)...
      热(re)阴极(ji)直(zhi)流(liu)等离(li)子体化(hua)学气相沉积设备(bei)(DCCVD)是在(zai)常规冷阴极(ji)辉光放(fang)电(dian)基础(chu)上发展起来的(de)战士三,主要用于金刚石单晶或多晶膜的(de)沉积生长
      卷对卷PECVD石墨...
      卷对卷PECVD石墨烯制备(bei)设备(bei)主要应用于计算机和智能(neng)手机屏幕令听闻,超轻邪火上、柔性的(de)太阳能(neng)电(dian)池些别,以及新型的(de)发光设备(bei)和其他薄(bo)膜电(dian)子产品(pin)
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      本(ben)产品(pin)为PECVD-R?旋转等离(li)子加强CVD设备(bei)十秒。PECVD-R?旋转等离(li)子加强CVD设备(bei)十分(fen)适(shi)合在(zai)气氛(fen)保护(hu)的(de)环境下连续(xu)对粉末材料(liao)用CVD方法(fa)进(jin)行包裹(guo)和修饰叫我熟。
      PE-HPCVD等离(li)...
      PE-HPCVD等离(li)子增(zeng)强物理化(hua)学气相沉积由一台双(shuang)温区管式炉方法实,一套钨丝蒸(zheng)发源(yuan)人拖,一套等离(li)子发生装(zhuang)置以及一套质(zhi)量流(liu)量计组(zu)成(cheng)串类。PE-HPCVD等离(li)子增(zeng)强物理化(hua)学气相沉积适(shi)用于无机复(fu)合粉末的(de)热(re)处理及粉末表(biao)面(mian)的(de)均(jun)匀(yun)包覆(fu)虚空摄。
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