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      单靶磁(ci)控光纤绕丝溅(jian)射镀膜(mo)仪(yi)小集,专用于光纤制备(bei)薄膜(mo),采用不锈钢高真空腔体落地前,配有带(dai)挡板的(de)观察窗攻击杀,可以观察镀膜(mo)过程老师一,挡板则能有?xing)Х乐构(gou)鄄齑氨荒?mo)层遮蔽他爸爸,便于实验的(de)观察记录浮现。腔体上顶(ding)开式设计开启方便地牙齿,易?zi)谇謇硎娣质(zhi)屎鲜笛槭沂褂煤陧小U捎媚通报?榛杓票Р。僮髀呒?jian)单唐门他,操作界面(mian)直观直弯,利(li)于上手(shou)
      台(tai)式紧凑型三靶磁(ci)控溅(jian)...
      CY-VTC-3DC是专为非金属薄膜(mo)镀膜(mo)设计的(de)三头(tou)2"射频等(deng)离(li)子(zi)磁(ci)控溅(jian)射系统?chang)?zhu)要用于多层氧(yang)化物薄膜(mo)母狮,是新(xin)一代氧(yang)化物薄膜(mo)研究中(zhong)?xing)约郾?高的(de)镀膜(mo)机 . 直流磁(ci)控溅(jian)射选项可根据要求提供金属薄膜(mo)沉积(ji)声音伴,实现三个直流水夺眶、一个射频/两个直流和两个射频/一个直流溅(jian)射头(tou)配置
      双靶直流磁(ci)控溅(jian)射镀膜(mo)...
      双靶直流磁(ci)控溅(jian)射镀膜(mo)仪(yi)可用于制备(bei)单层或多层铁电薄膜(mo)被人打、导电薄膜(mo)改名、合金薄膜(mo)等(deng)师兄。该双靶磁(ci)控溅(jian)射镀膜(mo)仪(yi)与同类(lei)设备(bei)相比她开起,其不仅应用广(guang)泛(fan)火舞撇,且具有体积(ji)小便于操作的(de)优点补水,是一款实验室制备(bei)材料薄膜(mo)的(de)理想设备(bei)
      单靶直流磁(ci)控溅(jian)射镀膜(mo)...
      单靶直流磁(ci)控溅(jian)射镀膜(mo)仪(yi)可用于制备(bei)单层铁电薄膜(mo)可理解、导电薄膜(mo)正鼓、合金薄膜(mo)等(deng)都飞。该单靶磁(ci)控溅(jian)射镀膜(mo)仪(yi)与同类(lei)设备(bei)相比对于奥,其不仅应用广(guang)泛(fan)限内容,且具有体积(ji)小便于操作的(de)优点此才,是一款实验室制备(bei)材料薄膜(mo)的(de)理想设备(bei)处张望,特(te)别适用于实验室研究固态电解质(zhi)及OLED等(deng)
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      人造钻石是一种由(you)直?ben)?0到30纳米的(de)钻石结晶聚(ju)合而(er)成的(de)多结晶钻石打杂,等(deng)离(li)子(zi)增强(qiang)化学气象沉积(ji)PECVD合成法制造一厘米,人造钻石主(zhu)要用于制造切割(ge)工具等(deng)工业用途上巨兽,同样也被使用在(zai)珠宝首饰上
      热丝化学气相沉积(ji)(H...
      热丝化学气相沉积(ji)(Hot filament Chemical Vapor Deposition,HFCVD)拥有工艺成熟六人围,设备(bei)简(jian)单等(deng)诸多优点师生,是工业上应用*多的(de)金刚(gang)石薄膜(mo)制备(bei)方法之一你休息。设计用于合成纳米金刚(gang)石涂层叹几句,CVD金刚(gang)石薄膜(mo)踏进去,微晶CVD金刚(gang)石涂层片语中,石墨烯大师很,碳纳米管(guan)(CNTs)和各(ge)种其他薄膜(mo)涂层
      CVD培育(yu)钻石设备(bei)
      CVD培育(yu)钻石是一种由(you)直?ben)?0到30纳米钻石晶体合成的(de)多结晶钻石右边四,它的(de)化学成分为碳姨比,运(yun)用先进的(de)设备(bei)模拟大自然中(zhong)钻石生长环境?chang)ü蟪粱?ji)技术(CVD)栽种而(er)成
      MPCVD单晶钻石沉...
      化学气相沉积(ji)法制备(bei)高品质(zhi)单晶钻石快出手,化学气相沉积(ji)法制备(bei)高品质(zhi)多晶钻石自支撑厚膜(mo)过心底,化学气相沉积(ji)法制备(bei)高品质(zhi)多晶钻石薄膜(mo)
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      近距离(li)有机物蒸发(fa)镀膜(mo)炉是一种双加(jia)热区快速(su)热处理炉饭菜,具有11"外径的(de)石英管(guan)连忙躲。它是专为PVD或CSS(近距离(li)升华)薄膜(mo)涂层3英寸(cun)直?ben)痘?"×2"终于熬。近距离(li)蒸发(fa)镀膜(mo)炉采用两组卤素加(jia)热器(顶(ding)部和底部)各司,zui大加(jia)热速(su)率(lv)20?C/s点支持。两个30段精密温度控制?po)髂谥霉ナ疲任?/-1?C人淘汰。包括(kuo)RS485端口和控制软件(jian)半身,允许通过PC操作炉子(zi)和温度曲线(xian)记录速度变。它是研究新(xin)一代太阳能电池薄膜(mo)的(de)主(zhu)要工具他送,如CdTe息想、硫化物和钙(gai)钛(tai)矿太阳能电池俗话说。
      小型电动升降样品台(tai)蒸...
      本(ben)产品为桌面(mian)型小型蒸发(fa)镀膜(mo)仪(yi)连脸上,设备(bei)安装有钨丝篮蒸发(fa)源族中最,可提供*大100A的(de)镀膜(mo)电流月夜瞪,*大蒸发(fa)温度可达(da)1800℃样青涩,能够满足各(ge)种常(chang)见(jian)金属的(de)蒸镀及部分非金属蒸镀
      桌面(mian)型?tui)溲诽?tai)蒸发(fa)...
      本(ben)产品为桌面(mian)型小型蒸发(fa)镀膜(mo)仪(yi)店主,设备(bei)安装有钨丝篮蒸发(fa)源气流作,可提供*大100A的(de)镀膜(mo)电流睡懒觉,*大蒸发(fa)温度可达(da)1800℃议题,能够满足各(ge)种常(chang)见(jian)金属的(de)蒸镀及部分非金属蒸镀
    • 全(quan)自动电极镀膜(mo)卷对(dui)卷...
      自动卷对(dui)卷涂布(bu)机主(zhu)要适用于磷酸铁锂一吸气、钴酸锂我都可、锰酸锂等(deng)体系的(de)正负极镀膜(mo)工艺
      锂电池专用卷对(dui)卷加(jia)热...
      这种全(quan)自动卷对(dui)卷加(jia)热涂布(bu)机主(zhu)要用于实验室涂布(bu)液体或胶体膜(mo)这差距。该设备(bei)采用无级变速(su)电机**控制涂膜(mo)速(su)度我18年,从(cong)而(er)达(da)到使样品匀速(su)前进而(er)均(jun)匀涂膜(mo)的(de)目的(de)
      实验室锂电池卷对(dui)卷加(jia)...
      这种全(quan)自动卷绕涂布(bu)机主(zhu)要用于实验室涂布(bu)液体或胶体膜(mo)您岂。该设备(bei)采用无级变速(su)电机**控制涂膜(mo)速(su)度坚定都,从(cong)而(er)达(da)到使样品匀速(su)前进而(er)均(jun)匀涂膜(mo)的(de)目的(de)阳台上。刮刀采用全(quan)不锈钢材质(zhi)族升级,重量恒定手拿,可提高涂膜(mo)的(de)一致性(xing)和均(jun)匀性(xing)一根草。该设备(bei)采用具有真空吸附功能的(de)样品台(tai)果我败,可以?yun)轿?wen)的(de)吸附样品你骨。同时涂布(bu)机具有底部加(jia)热功能衫,加(jia)热温度可达(da)120℃本庞,在(zai)涂膜(mo)过程中(zhong)实现烤胶功能救上船,从(cong)而(er)使膜(mo)迅速(su)地干燥掐我,方便收卷操作年时间。
      锂电池隔膜(mo)涂布(bu)机
      锂电池隔膜(mo)涂布(bu)机点宠溺,可进行(xing)连续和?tu)湫坎?bu)等(deng)类(lei)型的(de)涂布(bu)要求检验。设备(bei)涂布(bu)精度高啪啪拍,一致性(xing)稳(wen)定性(xing)好攻击冲,广(guang)泛(fan)应用于锂离(li)子(zi)电池根本、石墨烯薄膜(mo)诡谲、光学薄膜(mo)蛇皇、陶瓷薄膜(mo)最便宜、**胶带(dai)以及各(ge)种功能薄膜(mo)行(xing)业
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      超(chao)声波气氛加(jia)热匀胶机是一款直?ben)?00mm奥运、灵活的(de)旋转(zhuan)匀胶设备(bei)戴,可通过超(chao)声波喷头(tou)把胶液喷洒在(zai)基片上由级低,进而(er)通过高速(su)旋转(zhuan)使得(de)胶液均(jun)匀涂覆在(zai)基片上针对他。加(jia)热匀胶机也可以单独进行(xing)旋涂操作
      紫(zi)外线(xian)光固化匀胶机
      紫(zi)外线(xian)光固化匀胶机配有紫(zi)外线(xian)光源可这睡,能够实现对(dui)特(te)殊膜(mo)料的(de)固化功能何都记,紫(zi)外线(xian)光固化匀胶机真空吸附固定碎裂声,操作简(jian)单辜少年,可自由(you)取放(fang)动我。
      透明亚?qiang)肆?li)匀胶机带(dai)滴...
      CY-SP4-D匀胶机经过小型化设计嘘嘘,整体采用铝合金结构(gou)摄入,腔体选用透明亚?qiang)肆?li)我板,外观美观坚固面压阵。仪(yi)器采用先进的(de)精密电机次变少,*高转(zhuan)速(su)能达(da)到8000转(zhuan)/秒;控制依靠(kao)按键(jian)和高亮液晶屏时喷射,除直接匀胶外还(huai)能预存(cun)匀胶曲线(xian)进行(xing)程控匀胶果我猜。本(ben)仪(yi)器在(zai)极大的(de)减小了体积(ji)的(de)前提下有?xing)У?de)保障(zhang)了仪(yi)器性(xing)能和功能对方八,十分?zhi)屎鲜笛槭已」焊昭АⅫ/div>
      PP腔体八英寸(cun)匀胶机
      本(ben)型号匀胶机经过小型化设计待少女,整体采用铝合金结构(gou)006117,腔体选用PP工程材料魂岂,外观美观坚固加起。仪(yi)器采用先进的(de)精密电机狂可听,转(zhuan)速(su)能达(da)到10000转(zhuan)/分爸身边,有?xing)У?de)保障(zhang)了成膜(mo)的(de)均(jun)匀性(xing)千一眼。另外本(ben)仪(yi)器采用触控屏控制决赛放,可以预设匀胶曲线(xian)地绝学,大大简(jian)化了使用过程降低了学习成本(ben)4674,十分?zhi)屎鲜笛槭已」鹤季芫Ⅻ/div>
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      热阴极直流等(deng)离(li)子(zi)体化学气相沉积(ji)设备(bei)(DCCVD)是在(zai)常(chang)规(gui)冷阴极辉光放(fang)电基础上发(fa)展起来的(de)赛台,主(zhu)要用于金刚(gang)石单晶或多晶膜(mo)的(de)沉积(ji)生长
      卷对(dui)卷PECVD石墨...
      卷对(dui)卷PECVD石墨烯制备(bei)设备(bei)主(zhu)要应用于计算机和智能手(shou)机屏幕求助地,超(chao)轻(qing)处女死、柔性(xing)的(de)太阳能电池话绝对,以及新(xin)型的(de)发(fa)光设备(bei)和其他薄膜(mo)电子(zi)产品
      PECVD-R?旋转(zhuan)...
      本(ben)产品为PECVD-R?旋转(zhuan)等(deng)离(li)子(zi)加(jia)强(qiang)CVD设备(bei)贫瘠。PECVD-R?旋转(zhuan)等(deng)离(li)子(zi)加(jia)强(qiang)CVD设备(bei)十分?zhi)屎显?zai)气氛保护的(de)环境下连续对(dui)粉末材料用CVD方法进行(xing)包裹和修饰点闷闷。
      PE-HPCVD等(deng)离(li)...
      PE-HPCVD等(deng)离(li)子(zi)增强(qiang)物理化学气相沉积(ji)由(you)一台(tai)双温区管(guan)式炉干肉,一套钨丝蒸发(fa)源转左,一套等(deng)离(li)子(zi)发(fa)生装置以及一套质(zhi)量流量计组成我两根。PE-HPCVD等(deng)离(li)子(zi)增强(qiang)物理化学气相沉积(ji)适用于无机复合粉末的(de)热处理及粉末表面(mian)的(de)均(jun)匀包覆浩瀚找。
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