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      单靶(ba)磁控光纤绕(rao)丝溅射镀膜仪过地图,专(zhuan)用于光纤制备(bei)薄膜,采用不锈钢高真空腔体可毒毒,配有带挡板(ban)的观察窗酷哥,可以(yi)观察镀膜过(guo)程出走直,挡板(ban)则能有效(xiao)防止(zhi)观察窗被膜层(ceng)遮蔽强项可,便于实验的观察记(ji)录边惊叹。腔体上顶开式设计开启(qi)方便人组织,易?zi)谇謇砦耆杵瘢质屎鲜笛槭沂褂妹宦帧U?zheng)机采用拇司椋块化设计逮我,操作逻辑简单解更多,操作界面直观四名队,利于上手(shou)
      台式紧(jin)凑型三(san)靶(ba)磁控溅...
      CY-VTC-3DC是专(zhuan)为非金属薄膜镀膜设计的三(san)头2"射频等(deng)离子(zi)磁控溅射系(xi)统归类,主要(yao)用于多层(ceng)氧化物(wu)薄膜送几,是新一代氧化物(wu)薄膜研究中性价(jia)比*高的镀膜机 . 直流磁控溅射选项可根据要(yao)求提供(gong)金属薄膜沉积举例,实现三(san)个直流身肉、一个射频/两(liang)个直流和两(liang)个射频/一个直流溅射头?fang)渲曼/div>
      双靶(ba)直流磁控溅射镀膜...
      双靶(ba)直流磁控溅射镀膜仪可用于制备(bei)单层(ceng)或(huo)多层(ceng)铁电薄膜活出、导电薄膜两人才、合金薄膜等(deng)吸吮。该双靶(ba)磁控溅射镀膜仪与同类设备(bei)相比品紫芝,其不仅应用广泛说战斗,且(qie)具有体积小(xiao)便于操作的优(you)?nuo)阕∽保且(qie)豢钍笛槭抑票?bei)材料(liao)薄膜的理想设备(bei)
      单靶(ba)直流磁控溅射镀膜...
      单靶(ba)直流磁控溅射镀膜仪可用于制备(bei)单层(ceng)铁电薄膜果雷天、导电薄膜感依旧、合金薄膜等(deng)对象自。该单靶(ba)磁控溅射镀膜仪与同类设备(bei)相比提防,其不仅应用广泛种细微,且(qie)具有体积小(xiao)便于操作的优(you)?nuo)忝磐獾溃且(qie)豢钍笛槭抑票?bei)材料(liao)薄膜的理想设备(bei)对里面,特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等(deng)
    • CVD法(fa)培(pei)育钻石
      人造钻石是?qie)恢钟芍本(ben)?0到30纳(na)米的钻石结晶(jing)聚合而成的多结晶(jing)钻石具效果,等(deng)离子(zi)增强化学气象沉积PECVD合成法(fa)制造边沉思,人造钻石主要(yao)用于制造切割工具等(deng)工业用途上经济上,同样也被使用在珠宝首(shou)饰(shi)上
      热丝化学气相沉积(H...
      热丝化学气相沉积(Hot filament Chemical Vapor Deposition,HFCVD)拥有工艺成熟我带,设备(bei)简单等(deng)诸多优(you)?nuo)惚鹉执螅枪ひ瞪嫌τ?多的金刚石薄膜制备(bei)方法(fa)之一但他。设计用于合成纳(na)米金刚石涂层(ceng)琼因,CVD金刚石薄膜媚态,微晶(jing)CVD金刚石涂层(ceng)毒毒去,石墨烯碰上修,碳纳(na)米管(CNTs)和各种其他薄膜涂层(ceng)
      CVD培(pei)育钻石设备(bei)
      CVD培(pei)育钻石是?qie)恢钟芍本(ben)?0到30纳(na)米钻石晶(jing)体合成的多结晶(jing)钻石都挥,它(ta)的化学成分为碳级惩罚,运用先进(jin)的?na)璞?bei)模拟大自然(ran)中钻石生(sheng)长环境(jing)论她多,通过(guo)化学气象沉积技(ji)术(CVD)栽(zai)种而成
      MPCVD单晶(jing)钻石沉...
      化学气相沉积法(fa)制备(bei)高品质单晶(jing)钻石算闪,化学气相沉积法(fa)制备(bei)高品质多晶(jing)钻石自支(zhi)撑(cheng)厚膜火焰魔,化学气相沉积法(fa)制备(bei)高品质多晶(jing)钻石薄膜
    • 5英寸近距离蒸发镀膜...
      5英寸近距离蒸发镀膜炉(lu)适用于薄膜太(tai)阳能电池,如CdTe.硫化物(wu)和钙钛矿(kuang)结构太(tai)阳能电池,这是?qie)豢罾硐氲氖笛楣ぞ撄/div>
      近距离有机物(wu)蒸发镀膜...
      近距离有机物(wu)蒸发镀膜炉(lu)是?qie)恢炙尤惹?qu)快速热处(chu)理炉(lu)肩膀碰,具有11"外径的石英管支持下。它(ta)是专(zhuan)为PVD或(huo)CSS(近距离升华)薄膜涂层(ceng)3英寸直?ben)痘?huo)2"×2"我想。近距离蒸发镀膜炉(lu)采用两(liang)组卤素加热?rao)?顶部和底部)护毒毒,zui大加热速率20?C/s精彩我。两(liang)个30段精(jing)密温(wen)度(du)控制器(qi)内置相干,精(jing)度(du)为+/-1?C去调派。包括RS485端口(kou)和控制软件(jian)真实性,允(yun)许通过(guo)PC操作炉(lu)子(zi)和温(wen)度(du)曲线(xian)记(ji)录足够两。它(ta)是研究新一代太(tai)阳能电池薄膜的主要(yao)工具消息称,如CdTe期优劣、硫化物(wu)和钙钛矿(kuang)太(tai)阳能电池脸扫。
      小(xiao)型电动(dong)升降样品台蒸...
      本(ben)产品为桌面型小(xiao)型蒸发镀膜仪泰坦哼,设备(bei)安(an)装有钨(wu)丝篮蒸发源她平滑,可提供(gong)*大100A的镀膜电流种你上,*大蒸发温(wen)度(du)可达1800℃3710,能够满足各种常见金属的蒸镀及?an)糠址(zhi)墙鹗粽舳劈/div>
      桌面型水(shui)冷(ling)样品台蒸发...
      本(ben)产品为桌面型小(xiao)型蒸发镀膜仪怕打针,设备(bei)安(an)装有钨(wu)丝篮蒸发源长暧昧,可提供(gong)*大100A的镀膜电流地本,*大蒸发温(wen)度(du)可达1800℃素质自,能够满足各种常见金属的蒸镀及?an)糠址(zhi)墙鹗粽舳劈/div>
    • 全自动(dong)电极(ji)镀膜卷对卷...
      自动(dong)卷对卷涂布机主要(yao)适用于磷酸铁锂驳杂、钴酸锂跨过去、锰(meng)酸锂等(deng)体系(xi)的正负极(ji)镀膜工艺
      锂电池专(zhuan)用卷对卷加热...
      这种全自动(dong)卷对卷加热涂布机主要(yao)用于实验室涂布液体或(huo)胶(jiao)体膜三兽因。该设备(bei)采用无级变速电机**控制涂膜速度(du)但效果,从而达到使样品匀速前进(jin)而均匀涂膜的目的
      实验室锂电池卷对卷加...
      这种全自动(dong)卷绕(rao)涂布机主要(yao)用于实验室涂布液体或(huo)胶(jiao)体膜王比起。该设备(bei)采用无级变速电机**控制涂膜速度(du)劫财,从而达到使样品匀速前进(jin)而均匀涂膜的目的转她。刮刀采用全不锈钢材质青虫状,重量恒定(ding)上战斗,可提高涂膜的一致性和均匀性太惊人。该设备(bei)采用具有真空吸附功能的样品台秘籍,可以(yi)平(ping)稳的吸附样品一样类。同时涂布机具有底部加热功能副高高,加热温(wen)度(du)可达120℃激动过,在涂膜过(guo)程中实现烤胶(jiao)功能排列起,从而使膜迅速地干(gan)燥白眼瞪,方便收卷操作些无辜。
      锂电池隔膜涂布机
      锂电池隔膜涂布机追求类,可进(jin)行连续和间歇涂布等(deng)类型的涂布要(yao)求我很搞。设备(bei)涂布精(jing)度(du)高碧光,一致性稳定(ding)性好(hao)无双,广泛应用于锂离子(zi)电池拉扯下、石墨烯薄膜增高汤、光学薄膜事并、陶瓷薄膜十几岁、**胶(jiao)带以(yi)及各种?zhi)δ鼙∧ば幸袋/div>
    • 全自动(dong)超声波气氛加热...
      超声波气氛加热匀胶(jiao)机是?qie)豢钪本(ben)?00mm放心啦、灵活的旋转匀胶(jiao)设备(bei)我侧眼,可通过(guo)超声波喷头把胶(jiao)液喷洒(sa)在基(ji)片(pian)上荡荡,进(jin)而通过(guo)高速旋转使得胶(jiao)液均匀涂覆在基(ji)片(pian)上你手下。加热匀胶(jiao)机也可以(yi)单独进(jin)行旋涂操作
      紫外线(xian)光固化匀胶(jiao)机
      紫外线(xian)光固化匀胶(jiao)机配有紫外线(xian)光源两千米,能够实现对特殊(shu)膜料(liao)的固化功能盔都拿,紫外线(xian)光固化匀胶(jiao)机真空吸附固定(ding)上蜷成,操作简单风雪,可自由取放(fang)祖。
      透明(ming)亚(ya)克(ke)力匀胶(jiao)机带滴...
      CY-SP4-D匀胶(jiao)机经过(guo)小(xiao)型化设计可放生,整(zheng)体采用铝合金结构害臊,腔体选用透明(ming)亚(ya)克(ke)力扭曲,外观美观坚固限90%。仪器(qi)采用先进(jin)的精(jing)密电机付山魈,*高转速能达到8000转/秒(miao);控制依靠按键和高亮液晶(jing)屏(ping)众多可,除直接匀胶(jiao)外还能预(yu)存匀胶(jiao)曲线(xian)进(jin)行程控匀胶(jiao)月夜左。本(ben)仪器(qi)在极(ji)大的减小(xiao)了体积的前提下有效(xiao)的保障(zhang)了仪器(qi)性能和功能过眼珠,十分适合实验室选购激发。
      PP腔体八(ba)英寸匀胶(jiao)机
      本(ben)型号匀胶(jiao)机经过(guo)小(xiao)型化设计他失去,整(zheng)体采用铝合金结构应都,腔体选用PP工程材料(liao)叮叮叮,外观美观坚固才昂。仪器(qi)采用先进(jin)的精(jing)密电机中掺杂,转速能达到10000转/分安全多,有效(xiao)的保障(zhang)了成膜的均匀性现它。另外本(ben)仪器(qi)采用触控屏(ping)控制挺帅,可以(yi)预(yu)设匀胶(jiao)曲线(xian)样受,大大简化了使用过(guo)程降低了学习(xi)成本(ben)很无,十分适合实验室选购地状态。
    • 热阴极(ji)直流等(deng)离子(zi)体化...
      热阴极(ji)直流等(deng)离子(zi)体化学气相沉积设备(bei)(DCCVD)是在常规冷(ling)阴极(ji)辉光放(fang)?nuo)缁?ji)础上发展起(qi)来(lai)的够喊出,主要(yao)用于金刚石单晶(jing)或(huo)多晶(jing)膜的沉积生(sheng)长
      卷对卷PECVD石墨...
      卷对卷PECVD石墨烯制备(bei)设备(bei)主要(yao)应用于计算机和智能手(shou)机屏(ping)幕你夺去,超轻唇轻轻、柔(rou)性的太(tai)阳能电池退三步,以(yi)及?ba)滦偷姆⒐馍璞?bei)和其他薄膜电子(zi)产品
      PECVD-R?旋转...
      本(ben)产品为PECVD-R?旋转等(deng)离子(zi)加强CVD设备(bei)没下去。PECVD-R?旋转等(deng)离子(zi)加强CVD设备(bei)十分适合在气氛保护的环境(jing)下连续对粉末材料(liao)用CVD方法(fa)进(jin)行包裹和修饰(shi)表荣誉。
      PE-HPCVD等(deng)离...
      PE-HPCVD等(deng)离子(zi)增强物(wu)理化学气相沉积由一台双温(wen)区(qu)管式炉(lu)最近都,一套钨(wu)丝蒸发源雷动突,一套等(deng)离子(zi)发生(sheng)装置以(yi)及一套质量流量计组成美女可。PE-HPCVD等(deng)离子(zi)增强物(wu)理化学气相沉积适用于无机复合粉末的热处(chu)理及粉末表面的均匀包覆逗他。
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