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      单靶磁控光纤(xian)绕(rao)丝溅射镀膜仪(yi)脸熟,专用于(yu)光纤(xian)制备(bei)薄膜,采用不(bu)锈钢高真空(kong)腔体扯上我,配有带挡(dang)板的(de)观察(cha)窗月关道,可以(yi)观察(cha)镀膜过(guo)程病床,挡(dang)板则能有效防止观察(cha)窗被膜层遮蔽众观,便于(yu)实验的(de)观察(cha)记录莹剔透。腔体上顶(ding)开式设计开启(qi)方(fang)便骨骼,易于(yu)清(qing)理可告人,十分(fen)适合实验室(shi)使用最基本。整机(ji)采用男ぃ块化(hua)设计释放开,操作逻辑简单好任务,操作界面(mian)直观足足肿,利于(yu)上手
      台式紧凑(cu)型三靶磁控溅...
      CY-VTC-3DC是专为非金(jin)属薄膜镀膜设计的(de)三头2"射频等离(li)子磁控溅射系统音书,主要用于(yu)多层氧化(hua)物薄膜容貌居,是新(xin)一代氧化(hua)物薄膜研究中性(xing)价比*高的(de)镀膜机(ji) . 直流磁控溅射选项可根据要求(qiu)提供金(jin)属薄膜沉积满眼都,实现三个(ge)直流俯身、一个(ge)射频/两个(ge)直流和两个(ge)射频/一个(ge)直流溅射头配置
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      双(shuang)靶直流磁控溅射镀膜仪(yi)可用于(yu)制备(bei)单层或多层铁电薄膜顾靖寒、导电薄膜对方实、合金(jin)薄膜等经验XX。该双(shuang)靶磁控溅射镀膜仪(yi)与同(tong)类(lei)设备(bei)相比摸打,其不(bu)仅应用广(guang)泛过膝,且具(ju)有体积小便于(yu)操作的(de)优?nuo)慵庾Γ且豢钍笛槭?shi)制备(bei)材料薄膜的(de)理想(xiang)设备(bei)
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      单靶直流磁控溅射镀膜仪(yi)可用于(yu)制备(bei)单层铁电薄膜盆、导电薄膜点熟、合金(jin)薄膜等抽完奖。该单靶磁控溅射镀膜仪(yi)与同(tong)类(lei)设备(bei)相比时限可,其不(bu)仅应用广(guang)泛很显眼,且具(ju)有体积小便于(yu)操作的(de)优?nuo)闼梗且豢钍笛槭?shi)制备(bei)材料薄膜的(de)理想(xiang)设备(bei)几天多,特别(bie)适用于(yu)实验室(shi)研究固态电解质及(ji)OLED等
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      人(ren)造钻石(shi)是一种由直径(jing)10到30纳米的(de)钻石(shi)结(jie)晶聚合而成的(de)多结(jie)晶钻石(shi)折磨人,等离(li)子增强化(hua)学气象沉积PECVD合成法制造食物除,人(ren)造钻石(shi)主要用于(yu)制造切割(ge)工具(ju)等工业(ye)用途上断穿梭,同(tong)样也(ye)被使用在珠宝首饰上
      热(re)?ren)炕?hua)学气相沉积(H...
      热(re)?ren)炕?hua)学气相沉积(Hot filament Chemical Vapor Deposition,HFCVD)拥有工艺(yi)成熟早跑,设备(bei)简单等诸多优?nuo)懔Τ鱿郑枪ひ?ye)上应用*多的(de)金(jin)刚(gang)石(shi)薄膜制备(bei)方(fang)法之一?hu)I杓朴糜?yu)合成纳米金(jin)刚(gang)石(shi)涂层华丽丽,CVD金(jin)刚(gang)石(shi)薄膜课程我,微晶CVD金(jin)刚(gang)石(shi)涂层火力,石(shi)墨烯面板放,碳纳米管(CNTs)和各种其他薄膜涂层
      CVD培育(yu)钻石(shi)设备(bei)
      CVD培育(yu)钻石(shi)是一种由直径(jing)10到30纳米钻石(shi)晶体合成的(de)多结(jie)晶钻石(shi)知恩,它的(de)化(hua)学成分(fen)为碳但仍,运(yun)用先进的(de)设备(bei)模拟大自然中钻石(shi)生(sheng)长环境事都交,通过(guo)化(hua)学气象沉积技术(CVD)栽(zai)种而成
      MPCVD单晶钻石(shi)沉...
      化(hua)学气相沉积法制备(bei)高品?fen)实ゾё晔?shi)大蛇型,化(hua)学气相沉积法制备(bei)高品?fen)识嗑ё晔?shi)自支(zhi)撑厚膜一定地,化(hua)学气相沉积法制备(bei)高品?fen)识嗑ё晔?shi)薄膜
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      5英寸近距(ju)离(li)蒸发(fa)镀膜炉适用于(yu)薄膜太阳能电池,如(ru)CdTe.硫化(hua)物和钙钛矿结(jie)构太阳能电池,这(zhe)是一款理想(xiang)的(de)实验工具(ju)
      近距(ju)离(li)有机(ji)物蒸发(fa)镀膜...
      近距(ju)离(li)有机(ji)物蒸发(fa)镀膜炉是一种双(shuang)加(jia)热(re)区(qu)快(kuai)速热(re)处理炉战,具(ju)有11"外径(jing)的(de)石(shi)英管首都外。它是专为PVD或CSS(近距(ju)离(li)升华)薄膜涂层3英寸直径(jing)或2"×2"我免费。近距(ju)离(li)蒸发(fa)镀膜炉采用两组(zu)卤(lu)素加(jia)热(re)器(顶(ding)部和底部)杀你一,zui大加(jia)热(re)?ren)俾?0?C/s此平淡。两个(ge)30段(duan)精密温(wen)度控制器内置何帮你,精度为+/-1?C赌琼赢。包(bao)括RS485端口和控制软件比我少,允?shi)硗ü?guo)PC操作炉子和温(wen)度曲线记录去食堂。它是研究新(xin)一代太阳能电池薄膜的(de)主要工具(ju)一边二,如(ru)CdTe咋地、硫化(hua)物和钙钛矿太阳能电池副产。
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      本产品为桌面(mian)型小型蒸发(fa)镀膜仪(yi)破水幕,设备(bei)安装(zhuang)有钨丝篮蒸发(fa)源症,可提供*大100A的(de)镀膜电流回宗门,*大蒸发(fa)温(wen)度可达1800℃它拿开,能够满足各种常见金(jin)属的(de)蒸镀及(ji)部分(fen)?zhi)墙?jin)属蒸镀
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    • 全自动电极镀膜卷对(dui)卷...
      自动卷对(dui)卷涂布机(ji)主要适用于(yu)磷酸铁锂(li)抗声道、钴酸锂(li)沉默脑、锰酸锂(li)等体系的(de)正(zheng)负(fu)极镀膜工艺(yi)
      锂(li)电池专用卷对(dui)卷加(jia)热(re)...
      这(zhe)种全自动卷对(dui)卷加(jia)热(re)涂布机(ji)主要用于(yu)实验室(shi)涂布液(ye)体或胶体膜自动找。该设备(bei)采用无级变速电机(ji)**控制涂膜速度这岂,从而达到使样品匀?ren)偾敖?jun)匀涂膜的(de)目的(de)
      实验室(shi)锂(li)电池卷对(dui)卷加(jia)...
      这(zhe)种全自动卷绕(rao)涂布机(ji)主要用于(yu)实验室(shi)涂布液(ye)体或胶体膜可整。该设备(bei)采用无级变速电机(ji)**控制涂膜速度出归,从而达到使样品匀?ren)偾敖?jun)匀涂膜的(de)目的(de)乎生死。刮刀采用全不(bu)锈钢材质程序写,重量恒定太阳,可提高涂膜的(de)一致性(xing)和均(jun)匀性(xing)示意她。该设备(bei)采用具(ju)有真空(kong)吸附功(gong)能的(de)样品台攻城,可以(yi)平稳(wen)的(de)吸附样品间缠绕。同(tong)时涂布机(ji)具(ju)有底部加(jia)热(re)功(gong)能妻管严,加(jia)热(re)温(wen)度可达120℃都耳熟,在涂膜过(guo)程中实现烤胶功(gong)能生非,从而使膜迅速地干燥我想先,方(fang)便收卷操作拿叉。
      锂(li)电池隔膜涂布机(ji)
      锂(li)电池隔膜涂布机(ji)剔透,可进行连续和间歇涂布等类(lei)型的(de)涂布要求(qiu)蛮久。设备(bei)涂布精度高奖励比,一致性(xing)稳(wen)定性(xing)好凝结处,广(guang)泛应用于(yu)锂(li)离(li)子电池地手段、石(shi)墨烯薄膜温水、光学薄膜补点、陶瓷薄膜妈妈才、**胶带以(yi)及(ji)各种功(gong)能薄膜行业(ye)
    • 全自动超声(sheng)波气氛(fen)加(jia)热(re)...
      超声(sheng)波气氛(fen)加(jia)热(re)匀胶机(ji)是一款直径(jing)300mm狂飙行、灵活的(de)旋(xuan)转匀胶设备(bei)明白胖,可通过(guo)超声(sheng)波喷头把胶液(ye)喷洒在基片(pian)上剑招一,进而通过(guo)高速旋(xuan)转使得胶液(ye)均(jun)匀涂覆(fu)在基片(pian)上175级。加(jia)热(re)匀胶机(ji)也(ye)可以(yi)单独进行旋(xuan)涂操作
      紫外线光固化(hua)匀胶机(ji)
      紫外线光固化(hua)匀胶机(ji)配有紫外线光源更令他,能够实现对(dui)特殊膜料的(de)固化(hua)功(gong)能刀突,紫外线光固化(hua)匀胶机(ji)真空(kong)吸附固定空间听,操作简单计谋,可自由取放发整齐。
      透明(ming)亚克力匀胶机(ji)带滴...
      CY-SP4-D匀胶机(ji)经过(guo)小型化(hua)设计负面,整体采用铝合金(jin)结(jie)构高昂,腔体选用透明(ming)亚克力故意扑,外观美观坚固转生。仪(yi)器采用先进的(de)精密电机(ji)正确地,*高转速能达到8000转/秒;控制依靠按(an)键和高亮液(ye)晶屏虎一,除直接匀胶外还能预存匀胶曲线进行程控匀胶啥都。本仪(yi)器在极大的(de)减小了体积的(de)前提下有效的(de)保障了仪(yi)器性(xing)能和功(gong)能4118,十分(fen)适合实验室(shi)选购哦捏。
      PP腔体八英寸匀胶机(ji)
      本型号匀胶机(ji)经过(guo)小型化(hua)设计脸上反,整体采用铝合金(jin)结(jie)构凡提拉,腔体选用PP工程材料至破碎,外观美观坚固面积。仪(yi)器采用先进的(de)精密电机(ji)时间整,转速能达到10000转/分(fen)很伟大,有效的(de)保障了成膜的(de)均(jun)匀性(xing)都客气。另外本仪(yi)器采用触控屏控制他探手,可以(yi)?zai)ど柙冉呵咧止饷ⅲ蟠蠹蚧?hua)了使用过(guo)程降低了?sou)俺杀窘泄眵龋?fen)适合实验室(shi)选购内唐门。
    • 热(re)阴(yin)极直流等离(li)子体化(hua)...
      热(re)阴(yin)极直流等离(li)子体化(hua)学气相沉积设备(bei)(DCCVD)是在常规(gui)冷阴(yin)极辉光放?nuo)缁∩戏?fa)展(zhan)起(qi)来的(de)兄弟动,主要用于(yu)金(jin)刚(gang)石(shi)单晶或多晶膜的(de)沉积生(sheng)长
      卷对(dui)卷PECVD石(shi)墨...
      卷对(dui)卷PECVD石(shi)墨烯制备(bei)设备(bei)主要应用于(yu)计算(suan)机(ji)和智能手机(ji)屏幕萧杀,超轻管吃住、柔性(xing)的(de)太阳能电池耍,以(yi)及(ji)新(xin)型的(de)发(fa)光设备(bei)?fu)推渌∧さ缱硬饵/div>
      PECVD-R?旋(xuan)转...
      本产品为PECVD-R?旋(xuan)转等离(li)子加(jia)强CVD设备(bei)表明你。PECVD-R?旋(xuan)转等离(li)子加(jia)强CVD设备(bei)十分(fen)适合在气氛(fen)保护(hu)的(de)环境下连续对(dui)粉末材料用CVD方(fang)法进行包(bao)裹和修饰陪笑。
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      PE-HPCVD等离(li)子增强物理化(hua)学气相沉积由一台双(shuang)温(wen)区(qu)管式炉义出战,一套钨丝?kong)舴?fa)源肉汤显,一套等离(li)子发(fa)生(sheng)装(zhuang)置以(yi)及(ji)一套质量流量计组(zu)成很细巧。PE-HPCVD等离(li)子增强物理化(hua)学气相沉积适用于(yu)无机(ji)复(fu)合粉末的(de)热(re)处理及(ji)粉末表(biao)面(mian)的(de)均(jun)匀包(bao)覆(fu)防抱出。
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