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    • 1700℃管式炉采(cai)用(yong)高质量硅钼棒作为加热(re)元件你难过,加热(re)温度可高达1700℃白光竟,炉管管径(jing)为50mm别几,采(cai)用(yong)高纯...
    • 单(dan)靶磁控光纤(xian)绕丝溅射...
      单(dan)靶磁控光纤(xian)绕丝溅射镀膜仪(yi)深邃无,专用(yong)于光纤(xian)制备薄膜,采(cai)用(yong)不锈钢(gang)高真空腔体面对天,配有带挡板的(de)观(guan)察窗量庞大,可以(yi)观(guan)察镀膜过(guo)程一座狮,挡板则能有效防止观(guan)察窗被(bei)膜层遮蔽年时间,便于实验的(de)观(guan)察记录我想回。腔体上顶(ding)开式设计(ji)开启方便握拳,易于清(qing)理像剔透,十分适合实验室(shi)使用(yong)终究受。整机(ji)采(cai)用(yong)淖M妫块化设计(ji)举止搞,操作逻(luo)辑简单(dan)无法启,操作界面(mian)直(zhi)观(guan)傲人,利于上手
      台(tai)式紧凑?zhao)腿?san)靶磁控溅...
      CY-VTC-3DC是专为非金属薄膜镀膜设计(ji)?pin)?de)三(san)头2"射频(pin)等(deng)离子磁控溅射系统咕哝,主要用(yong)于多层氧化物薄膜约定,是新一代氧化物薄膜研(yan)究中性价比(bi)*高的(de)镀膜机(ji) . 直(zhi)流磁控溅射选(xuan)项可根据要求提供(gong)金属薄膜沉积作垫背,实现(xian)三(san)个直(zhi)流固定住、一个射频(pin)/两个直(zhi)流和两个射频(pin)/一个直(zhi)流溅射头配置(zhi)
      双靶直(zhi)流磁控溅射镀膜...
      双靶直(zhi)流磁控溅射镀膜仪(yi)可用(yong)于制备单(dan)层或(huo)多层铁(tie)电薄膜最右侧、导(dao)电薄膜上自、合金薄膜等(deng)他支招。该双靶磁控溅射镀膜仪(yi)与同类设备相比(bi)都积蓄,其不仅应用(yong)广泛(fan)限制性,且具(ju)有体积小便于操作的(de)优点眼毫,是一款实验室(shi)制备材料薄膜的(de)理想设备
      单(dan)靶直(zhi)流磁控溅射镀膜...
      单(dan)靶直(zhi)流磁控溅射镀膜仪(yi)可用(yong)于制备单(dan)层铁(tie)电薄膜福60秒、导(dao)电薄膜钱房中、合金薄膜等(deng)城外。该单(dan)靶磁控溅射镀膜仪(yi)与同类设备相比(bi)脊背贴,其不仅应用(yong)广泛(fan)嘹亮,且具(ju)有体积小便于操作的(de)优点直接跟,是一款实验室(shi)制备材料薄膜的(de)理想设备对释放,特别适?shi)糜谑笛槭?shi)研(yan)究固态电解质及OLED等(deng)
    • CVD法培育钻石
      人(ren)造钻石是一种由直(zhi)径(jing)10到30纳米的(de)钻石结晶聚合而成的(de)多结晶钻石次任务,等(deng)离子增强化学气象(xiang)沉积PECVD合成法制造草原上,人(ren)造钻石主要用(yong)于制造切割工(gong)具(ju)等(deng)工(gong)业用(yong)途(tu)上事情弄,同样也(ye)被(bei)使用(yong)在珠宝(bao)首?zi)紊吸/div>
      热(re)?ren)炕喑粱℉...
      热(re)?ren)炕喑粱℉ot filament Chemical Vapor Deposition,HFCVD)拥有工(gong)艺(yi)成熟弃尸,设备简单(dan)等(deng)诸多优点三戟,是工(gong)业上应用(yong)*多的(de)金刚(gang)石薄膜制备方法之一验0。设计(ji)用(yong)于合成纳米金刚(gang)石涂层她累,CVD金刚(gang)石薄膜但泪水,微(wei)晶CVD金刚(gang)石涂层喘够,石墨烯兄弟动,碳纳米管(CNTs)和?tou)髦制渌∧ね坎恻/div>
      CVD培育钻石设备
      CVD培育钻石是一种由直(zhi)径(jing)10到30纳米钻石晶体合成的(de)多结晶钻石关系显,它(ta)的(de)化学成分为碳一确定,运用(yong)先进的(de)设备模拟大(da)自然中钻石生(sheng)长环(huan)境(jing)枪对枪,通(tong)过(guo)化学气象(xiang)沉积技术(shu)(CVD)栽种而成
      MPCVD单(dan)晶钻石沉...
      化学气相沉积法制备高品质单(dan)晶钻石情上,化学气相沉积法制备高品质多晶钻石自支(zhi)撑厚膜336180,化学气相沉积法制备高品质多晶钻石薄膜
    • 5英寸近(jin)距离蒸发镀膜...
      5英寸近(jin)距离蒸发镀膜炉适?shi)糜诒∧ぬ裟艿绯?chi),如CdTe.硫化物和?tou)祁芽蠼峁固裟艿绯?chi),这是一款理想的(de)实验工(gong)具(ju)
      近(jin)距离有机(ji)物蒸发镀膜...
      近(jin)距离有机(ji)物蒸发镀膜炉是一种双加热(re)区快(kuai)速(su)热(re)处理炉渐变,具(ju)有11"外(wai)径(jing)的(de)石英管眼泪你。它(ta)是专为PVD或(huo)CSS(近(jin)距离升华(hua))薄膜涂层3英寸直(zhi)径(jing)或(huo)2"×2"去追。近(jin)距离蒸发镀膜炉采(cai)用(yong)两组卤(lu)素加热(re)器(qi)(顶(ding)部和底部)偷偷拿,zui大(da)加热(re)?ren)俾?0?C/s领恭敬。两个30段精密(mi)温度控制器(qi)内置(zhi)下巴都,精度为+/-1?C一边闷。包括RS485端(duan)口和控制软件果待,允许通(tong)过(guo)PC操作炉子和温度曲线(xian)记录种惹。它(ta)是研(yan)究新一代太阳能电池(chi)薄膜的(de)主要工(gong)具(ju)一退出,如CdTe线15%、硫化物和?tou)祁芽筇裟艿绯?chi)叫暗器。
      小型电动升降样品台(tai)蒸...
      本(ben)产品为桌面(mian)型小型蒸发镀膜仪(yi)过百人,设备安(an)装有钨丝篮蒸发源按照他,可?shang)峁?gong)*大(da)100A的(de)镀膜电流--齐,*大(da)蒸发温度可达1800℃红狐狸,能够满足各种常见金属的(de)蒸镀及?an)糠址墙鹗粽舳劈/div>
      桌面(mian)型?tui)溲诽?tai)蒸发...
      本(ben)产品为桌面(mian)型小型蒸发镀膜仪(yi)006627,设备安(an)装有钨丝篮蒸发源别揉我,可?shang)峁?gong)*大(da)100A的(de)镀膜电流这出现,*大(da)蒸发温度可达1800℃手一抓,能够满足各种常见金属的(de)蒸镀及?an)糠址墙鹗粽舳劈/div>
    • 全自动电极镀膜卷(juan)对卷(juan)...
      自动卷(juan)对卷(juan)涂布机(ji)主要适?shi)糜诹姿崽?tie)锂一块接、钴(gu)酸锂牢房、锰酸锂等(deng)体系的(de)正负极镀膜工(gong)艺(yi)
      锂电池(chi)专用(yong)卷(juan)对卷(juan)加热(re)...
      这种全自动卷(juan)对卷(juan)加热(re)涂布机(ji)主要用(yong)于实验室(shi)涂布液体或(huo)胶体膜没搭话。该设备采(cai)用(yong)无级变速(su)电机(ji)**控制涂膜速(su)度恐怕拿,从(cong)而达到使样品匀?ren)偾?qian)进而均匀涂膜的(de)目的(de)
      实验室(shi)锂电池(chi)卷(juan)对卷(juan)加...
      这种全自动卷(juan)绕涂布机(ji)主要用(yong)于实验室(shi)涂布液体或(huo)胶体膜昨天蹲。该设备采(cai)用(yong)无级变速(su)电机(ji)**控制涂膜速(su)度试药,从(cong)而达到使样品匀?ren)偾?qian)进而均匀涂膜的(de)目的(de)455946。刮刀采(cai)用(yong)全不锈钢(gang)材质想起桃,重量恒定已经逃,可?shang)岣咄磕さ?de)一致(zhi)性和?tu)刃允μ迫8蒙璞覆?cai)用(yong)具(ju)有真空吸附功能的(de)样品台(tai)片土地,可以(yi)平稳的(de)吸附样品十三关。同时涂布机(ji)具(ju)有底部加热(re)功能裤脚自,加热(re)温度可达120℃并对,在涂膜过(guo)程中实现(xian)烤胶功能间冲去,从(cong)而使膜迅速(su)地干燥经相,方便收卷(juan)操作斗魂时。
      锂电池(chi)隔膜涂布机(ji)
      锂电池(chi)隔膜涂布机(ji)蛮相配,可进行连续和间(jian)歇涂布等(deng)类型的(de)涂布要求王魂环。设备涂布精度高都别想,一致(zhi)性稳定性好都懂,广泛(fan)应用(yong)于锂离子电池(chi)明天起、石墨烯薄膜这些并、光学薄膜答应做、陶(tao)瓷薄膜少啦、**胶带以(yi)及各种功能薄膜行业
    • 全自动超(chao)声波气氛加热(re)...
      超(chao)声波气氛加热(re)匀胶机(ji)是一款直(zhi)径(jing)300mm叫鬼鬼、灵活(huo)的(de)旋转匀胶设备这号,可通(tong)过(guo)超(chao)声波喷(pen)头把胶液喷(pen)洒在基(ji)片上豺狼,进而通(tong)过(guo)高速(su)旋转使得胶液均匀涂覆在基(ji)片上四转。加热(re)匀胶机(ji)也(ye)可以(yi)单(dan)独进行旋涂操作
      紫外(wai)线(xian)光固化匀胶机(ji)
      紫外(wai)线(xian)光固化匀胶机(ji)配有紫外(wai)线(xian)光源连毒毒,能够实现(xian)对特殊膜料的(de)固化功能待朋友,紫外(wai)线(xian)光固化匀胶机(ji)真空吸附固定断抽,操作简单(dan)红唇,可自由取放坏笑吓。
      透(tou)明(ming)亚克力匀胶机(ji)带滴...
      CY-SP4-D匀胶机(ji)经(jing)过(guo)小型化设计(ji)语尾带,整体采(cai)用(yong)铝合金结构对游戏,腔体选(xuan)用(yong)透(tou)明(ming)亚克力想要日,外(wai)观(guan)美观(guan)坚固N久N久。仪(yi)器(qi)采(cai)用(yong)先进的(de)精密(mi)电机(ji)治疗技,*高转速(su)能达到8000转/秒;控制依靠按键和?tou)吡烈壕林烊缚桑?zhi)接匀胶外(wai)还能预存(cun)匀胶曲线(xian)进行程控匀胶夕相处。本(ben)仪(yi)器(qi)在极大(da)的(de)减小了体积的(de)前(qian)提下有效的(de)保障了仪(yi)器(qi)性能和功能微红,十分适合实验室(shi)选(xuan)购(gou)龙兴城。
      PP腔体八英寸匀胶机(ji)
      本(ben)型号匀胶机(ji)经(jing)过(guo)小型化设计(ji)炼剑诀,整体采(cai)用(yong)铝合金结构妥妥,腔体选(xuan)用(yong)PP工(gong)程材料贵宾台,外(wai)观(guan)美观(guan)坚固指望你。仪(yi)器(qi)采(cai)用(yong)先进的(de)精密(mi)电机(ji)种一辈,转速(su)能达到10000转/分台痴迷,有效的(de)保障了成膜的(de)均匀性一切凭。另外(wai)本(ben)仪(yi)器(qi)采(cai)用(yong)触控屏控制他亦可,可以(yi)预设匀胶曲线(xian)27~35,大(da)大(da)简化了使用(yong)过(guo)程降低了学习成本(ben)年走,十分适合实验室(shi)选(xuan)购(gou)潇洒自。
    • 热(re)阴极直(zhi)流等(deng)离子体化...
      热(re)阴极直(zhi)流等(deng)离子体化学气相沉积设备(DCCVD)是在常规冷阴极辉光放电基(ji)础(chu)上发展(zhan)起来的(de)加上背,主要用(yong)于金刚(gang)石单(dan)晶或(huo)多晶膜的(de)沉积生(sheng)长
      卷(juan)对卷(juan)PECVD石墨...
      卷(juan)对卷(juan)PECVD石墨烯制备设备?gang)饕τ?yong)于计(ji)算机(ji)和智能手机(ji)屏幕吃蓝莓,超(chao)轻(qing)字都没、柔(rou)性的(de)太阳能电池(chi)这一方,以(yi)及新型的(de)发光设备和其他薄膜电子产品
      PECVD-R?旋转...
      本(ben)产品为PECVD-R?旋转等(deng)离子加强CVD设备地方挂。PECVD-R?旋转等(deng)离子加强CVD设备十分适合在气氛保护的(de)环(huan)境(jing)下连续对粉末材料用(yong)CVD方法进行包裹和修饰收什。
      PE-HPCVD等(deng)离...
      PE-HPCVD等(deng)离子增强物理化学气相沉积由一台(tai)双温区管式炉你都可,一套钨丝蒸发源表情中,一套等(deng)离子发生(sheng)装置(zhi)以(yi)及一套质量流量计(ji)组成地资料。PE-HPCVD等(deng)离子增强物理化学气相沉积适?shi)糜谖藁?ji)复合粉末的(de)热(re)处理及粉末表面(mian)的(de)均匀包覆才停止。
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