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      台式紧凑型三(san)靶(ba)磁控溅...
      CY-VTC-3DC是专(zhuan)为非(fei)金属薄膜镀膜设计的三(san)头2"射(she)频等离子(zi)磁控溅射(she)系(xi)统要扑,主要(yao)用于多层氧化(hua)物薄膜赤脚,是新一代氧化(hua)物薄膜研究中?xing)约郾?bi)*高(gao)的镀膜机 . 直流磁控溅射(she)选项可根据(ju)要(yao)求提供金属薄膜沉积领路下,实现三(san)个直流她甩开、一个射(she)频/两(liang)个直流和?tu)礁錾?she)频/一个直流溅射(she)头配置
      双靶(ba)直流磁控溅射(she)镀膜...
      双靶(ba)直流磁控溅射(she)镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜下交、导电薄膜苏州、合金薄膜等索性去。该双靶(ba)磁控溅射(she)镀膜仪与同类设备相比(bi)几起,其不仅应用广泛?hai)揖哂刑寤”阌诓?cao)作(zuo)的优点些绝情,是一款实验室制备材料(liao)薄膜的理想设备
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      自动(dong)卷(juan)对卷(juan)涂布机主要(yao)适(shi)用于磷酸铁锂寒冷虽、钴(gu)酸锂颔首打、锰酸锂等体系(xi)的正负极镀膜工艺
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      这(zhe)种全自动(dong)卷(juan)对卷(juan)加(jia)热涂布机主要(yao)用于实验室涂布液(ye)体或胶体膜内则。该设备采用无级变速电机**控制涂膜速度(du)刚出手,从而达到使样品匀速前(qian)进而均匀涂膜的目的
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      锂电池(chi)隔膜涂布机
      锂电池(chi)隔膜涂布机这钱,可进行(xing)连续和间(jian)歇涂布等类型的涂布要(yao)求说非常。设备涂布精度(du)高(gao)电话打,一致性(xing)稳(wen)定性(xing)好角落里,广泛应用于锂离子(zi)电池(chi)做好我、石墨烯薄膜饿死啦、光学薄膜外城截、陶瓷薄膜小刚这、**胶带(dai)以(yi)及(ji)各种功能薄膜行(xing)业
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      紫外线光固化(hua)匀胶机
      紫外线光固化(hua)匀胶机配有紫外线光源色光彩,能够实现对特殊(shu)膜料(liao)?xi)墓袒?hua)功能双怔怔,紫外线光固化(hua)匀胶机真空吸附固定级55级,操(cao)作(zuo)简单两孩,可自由取放某人本。
      透明亚克(ke)力匀胶机带(dai)滴...
      CY-SP4-D匀胶机经过(guo)小型化(hua)设计种族技,整体采用铝合金结构(gou)肤表面,腔体选用透明亚克(ke)力太亲切,外观美观坚(jian)固别挡。仪器采用先进的精密电机放慢,*高(gao)转(zhuan)速能达到8000转(zhuan)/秒(miao);控制依靠按键(jian)和高(gao)亮液(ye)晶屏脸上算,除直接匀胶外还能预存匀胶曲线进行(xing)程控匀胶阳泉。本仪器在极大的减小了体积的前(qian)提下有?xing)У谋U狭艘瞧餍?xing)能和功能拿白,十分适(shi)合实验室选购千羽患。
      PP腔体八(ba)英寸匀胶机
      本型号匀胶机经过(guo)小型化(hua)设计他温暖,整体采用铝合金结构(gou)话我,腔体选用PP工程材料(liao)天使木,外观美观坚(jian)固作枕。仪器采用先进的精密电机敢认呐,转(zhuan)速能达到10000转(zhuan)/分时侯寄,有?xing)У谋U狭顺?cheng)膜的均匀性(xing)她居。另外本仪器采用触控屏控制都哀怨,可以(yi)预设匀胶曲线左臂,大大简化(hua)了使用过(guo)程降低?tu)搜?xi)成(cheng)本我自制,十分适(shi)合实验室选购猪仔认。
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      热阴极直流等离子(zi)体化(hua)学气相沉积设备(DCCVD)是在常规冷(ling)阴极辉光放电基础上发展起(qi)来的活下,主要(yao)用于金刚石单晶或多晶膜的沉积生长(chang)
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      卷(juan)对卷(juan)PECVD石墨烯制备设备主要(yao)应用于计算机和智能手机屏幕(mu)玩累,超轻法带、柔(rou)性(xing)的太阳(yang)能电池(chi)挥挥,以(yi)及(ji)?ba)滦偷姆⒐馍璞负推渌?ta)薄膜电子(zi)产品
      PECVD-R?旋(xuan)转(zhuan)...
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      PE-HPCVD等离...
      PE-HPCVD等离子(zi)增强物理化(hua)学气相沉积由一台双温区管式炉(lu)颊上香,一套钨丝(si)蒸发源息横亘,一套等离子(zi)发生装(zhuang)置以(yi)及(ji)一套质量流量计组(zu)成(cheng)种跟什。PE-HPCVD等离子(zi)增强物理化(hua)学气相沉积适(shi)用于无机复合粉末的热处理及(ji)粉末表(biao)面的均匀包覆攻破它。
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