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    • 单靶磁控光纤(xian)绕丝溅射...
      单靶磁控光纤(xian)绕丝溅射镀膜仪(yi)种虐待,专用于光纤(xian)制备薄膜,采用不锈钢高真空腔体果真走,配有带挡(dang)板的观(guan)察窗(chuang)思索间,可(ke)以观(guan)察镀膜过程东一些,挡(dang)板则能(neng)有效防止观(guan)察窗(chuang)被膜层遮(zhe)蔽想忘,便于实(shi)验的观(guan)察记录芒吞吐。腔体上顶开式设计开启(qi)方便--最,易(yi)于清理洗面奶,十(shi)分适合(he)实(shi)验室(shi)使用付租金。整机(ji)采用模(mo)块化设计严肃,操作逻辑简单长寿,操作界(jie)面直观(guan)过相,利于上手
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      CY-VTC-3DC是专为非金属薄膜镀膜设计的三(san)头(tou)2"射频等离子磁控溅射系统(tong)绕效果,主要用于多层氧化物薄膜此平均,是新一代氧化物薄膜研究中性(xing)价(jia)比*高的镀膜机(ji) . 直流磁控溅射选项可(ke)根据要求提供金属薄膜沉(chen)积挥泪跑,实(shi)现三(san)个直流过截图、一个射频/两个直流和两个射频/一个直流溅射头(tou)配置
      双靶直流磁控溅射镀膜...
      双靶直流磁控溅射镀膜仪(yi)可(ke)用于制备单层或多层铁电薄膜做交流、导电薄膜比比东、合(he)金薄膜等?qu)8盟写趴亟ι涠颇ひ?yi)与同类设备相比你反应,其不仅应用广泛接济他,且具有体积小(xiao)便于操作的优点些生活,是一款实(shi)验室(shi)制备材料薄膜的理想设备
      单靶直流磁控溅射镀膜...
      单靶直流磁控溅射镀膜仪(yi)可(ke)用于制备单层铁电薄膜敢拿、导电薄膜很少、合(he)金薄膜等?qu)8玫グ写趴亟ι涠颇ひ?yi)与同类设备相比外张望,其不仅应用广泛魂,且具有体积小(xiao)便于操作的优点何离去,是一款实(shi)验室(shi)制备材料薄膜的理想设备直顺,特(te)别适用于实(shi)验室(shi)研究固(gu)态电解(jie)质及OLED等
    • CVD法培(pei)育钻石
      人造钻石是一种由直?ben)?0到30纳米的钻石结晶聚合(he)而成的多结晶钻石雷声,等离子增强化学(xue)气象(xiang)沉(chen)积PECVD合(he)成法制造宝宝逛,人造钻石主要用于制造切割工具等工业(ye)用途(tu)上我最强,同样也被使用在珠宝首饰上
      热(re)丝化学(xue)气相沉(chen)积(H...
      热(re)丝化学(xue)气相沉(chen)积(Hot filament Chemical Vapor Deposition,HFCVD)拥有工艺成熟次小舞,设备简单等诸多优点办公室,是工业(ye)上应用*多的金刚石薄膜制备方法之一灵魂变。设计用于合(he)成纳米金刚石涂层服都,CVD金刚石薄膜出现四,微晶CVD金刚石涂层特赦令,石墨烯葡萄肉,碳纳米管(guan)(CNTs)和各(ge)种其他(ta)薄膜涂层
      CVD培(pei)育钻石设备
      CVD培(pei)育钻石是一种由直?ben)?0到30纳米钻石晶体合(he)成的多结晶钻石去职,它的化学(xue)成分为碳差点动,运用先(xian)进的设备模(mo)拟大自然(ran)中钻石生(sheng)长环境(jing)瞧她,通(tong)过化学(xue)气象(xiang)沉(chen)积技术(CVD)栽种而成
      MPCVD单晶钻石沉(chen)...
      化学(xue)气相沉(chen)积法制备高品质?shi)ゾё晔≌嬲?xue)气相沉(chen)积法制备高品质多晶钻石自支(zhi)撑(cheng)厚膜你什,化学(xue)气相沉(chen)积法制备高品质多晶钻石薄膜
    • 5英寸近距(ju)离蒸发镀膜...
      5英寸近距(ju)离蒸发镀膜炉适用于薄膜太阳能(neng)电池,如CdTe.硫化物和钙钛(tai)矿(kuang)结构?gu)裟?neng)电池,这(zhe)是一款理想的实(shi)验工具
      近距(ju)离有机(ji)物蒸发镀膜...
      近距(ju)离有机(ji)物蒸发镀膜炉是一种双加热(re)区快(kuai)速热(re)处理炉雨疑惑,具有11"外径的石英管(guan)陶遥遥。它是专为PVD或CSS(近距(ju)离升华)薄膜涂层3英寸直?ben)痘?"×2"嘴张开。近距(ju)离蒸发镀膜炉采用两组卤素(su)加热(re)器(顶部和底部)买票,zui大加热(re)速率20?C/s一切必。两个30段(duan)精(jing)密温度控制器内(na)置种售,精(jing)度为+/-1?C干。包(bao)括RS485端(duan)口(kou)和控制软件青衣白,允许(xu)通(tong)过PC操作炉子和温度曲线记录她亲爱。它是研究新一代太阳能(neng)电池薄膜的主要工具背脊,如CdTe话吓、硫化物和钙钛(tai)矿(kuang)太阳能(neng)电池果弱水。
      小(xiao)型电动升降(jiang)样品台蒸...
      本(ben)?jing)肺烂嫘托?xiao)型蒸发镀膜仪(yi)确保,设备安装有钨丝篮蒸发源(yuan)险些喘,可(ke)提供*大100A的镀膜电流毒留下,*大蒸发温度可(ke)达1800℃次飞翔,能(neng)够满足各(ge)种常见金属的蒸镀及部分非金属蒸镀
      桌面型?tui)溲诽ㄕ舴?..
      本(ben)?jing)肺烂嫘托?xiao)型蒸发镀膜仪(yi)实我做,设备安装有钨丝篮蒸发源(yuan)泪奔,可(ke)提供*大100A的镀膜电流你姓唐,*大蒸发温度可(ke)达1800℃上我,能(neng)够满足各(ge)种常见金属的蒸镀及部分非金属蒸镀
    • 全自动电极镀膜卷(juan)对卷(juan)...
      自动卷(juan)对卷(juan)涂布机(ji)主要适用于磷酸铁锂愁反笑、钴(gu)酸锂我聊天、锰酸锂等体系的正负极镀膜工艺
      锂电池专用卷(juan)对卷(juan)加热(re)...
      这(zhe)种全自动卷(juan)对卷(juan)加热(re)涂布机(ji)主要用于实(shi)验室(shi)涂布液体或胶体膜房间都。该设备采用无级(ji)变(bian)速电机(ji)**控制涂膜速度大门都,从而达到使样品匀速前进而均(jun)匀涂膜的目的
      实(shi)验室(shi)锂电池卷(juan)对卷(juan)加...
      这(zhe)种全自动卷(juan)绕涂布机(ji)主要用于实(shi)验室(shi)涂布液体或胶体膜害他都。该设备采用无级(ji)变(bian)速电机(ji)**控制涂膜速度乱杀人,从而达到使样品匀速前进而均(jun)匀涂膜的目的娃娃嘟。刮刀采用全不锈钢材质巧舌,重量恒(heng)定问号抬,可(ke)提高涂膜的一致(zhi)性(xing)和?tu)?jun)匀性(xing)火堆中。该设备采用具有真空吸附功能(neng)的样品台对它服,可(ke)以平稳的吸附样品第五句。同时(shi)涂布机(ji)具有底部加热(re)功能(neng)即便他,加热(re)温度可(ke)达120℃心静,在涂膜过程中实(shi)现烤胶功能(neng)楼层里,从而使膜迅速地干燥(zao)些破事,方便收(shou)卷(juan)操作肉汤都。
      锂电池隔(ge)膜涂布机(ji)
      锂电池隔(ge)膜涂布机(ji)姿势跳,可(ke)进行连续和间歇涂布等类型的涂布要求很难查。设备涂布精(jing)度高连室内,一致(zhi)性(xing)稳定性(xing)好速度比,广泛应用于锂离子电池被帅哥、石墨烯薄膜耍白痴、光学(xue)薄膜毒阵、陶瓷薄膜冷笑说、**胶带以及?an)?ge)种功能(neng)薄膜行业(ye)
    • 全自动超声波气氛加热(re)...
      超声波气氛加热(re)匀胶机(ji)是一款直?ben)?00mm一堂课、灵活的旋转匀胶设备阵发冷,可(ke)通(tong)过超声波喷(pen)头(tou)把胶液喷(pen)洒在基(ji)片上单据,进而通(tong)过高速旋转使得胶液均(jun)匀涂覆在基(ji)片上乎两人。加热(re)匀胶机(ji)也可(ke)以单独进行旋涂操作
      紫外线光固(gu)化匀胶机(ji)
      紫外线光固(gu)化匀胶机(ji)配有紫外线光源(yuan)像年纪,能(neng)够实(shi)现对特(te)殊膜料的固(gu)化功能(neng)一拽,紫外线光固(gu)化匀胶机(ji)真空吸附固(gu)定条大大,操作简单收入你,可(ke)自由取(qu)放码消失。
      透明亚克力匀胶机(ji)带滴...
      CY-SP4-D匀胶机(ji)经过小(xiao)型化设计里出去,整体采用铝合(he)金结构练一倍,腔体选用透明亚克力过这些,外观(guan)美(mei)观(guan)坚(jian)固(gu)直积蓄。仪(yi)器采用先(xian)进的精(jing)密电机(ji)热水澡,*高转速能(neng)达到8000转/秒(miao);控制依靠按键和高亮液晶屏请坐,除直接匀胶外还能(neng)预存匀胶曲线进行程控匀胶娃娃居。本(ben)仪(yi)器在极大的减小(xiao)了(liao)体积的前提下有效的保(bao)障了(liao)仪(yi)器性(xing)能(neng)和功能(neng)选结束,十(shi)分适合(he)实(shi)验室(shi)选购力竟。
      PP腔体八英寸匀胶机(ji)
      本(ben)型号匀胶机(ji)经过小(xiao)型化设计四人道,整体采用铝合(he)金结构____|,腔体选用PP工程材料亢奋,外观(guan)美(mei)观(guan)坚(jian)固(gu)大腿。仪(yi)器采用先(xian)进的精(jing)密电机(ji)可被他,转速能(neng)达到10000转/分香杳,有效的保(bao)障了(liao)成膜的均(jun)匀性(xing)被敲。另外本(ben)仪(yi)器采用触控屏控制飘洒,可(ke)以预设匀胶曲线心里喊,大大简化了(liao)使用过程降(jiang)低了(liao)学(xue)习成本(ben)蹭亲,十(shi)分适合(he)实(shi)验室(shi)选购进特性。
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      热(re)阴极直流等离子体化学(xue)气相沉(chen)积设备(DCCVD)是在常规冷阴极辉光放电基(ji)础上发展起来的?mo)饕糜诮鸶帐ゾЩ蚨嗑さ某?chen)积生(sheng)长
      卷(juan)对卷(juan)PECVD石墨...
      卷(juan)对卷(juan)PECVD石墨烯制备设备主要应用于计算机(ji)和智能(neng)手机(ji)屏幕秋雨一,超轻可带、柔性(xing)的太阳能(neng)电池化形,以及新型的发光设备和其他(ta)薄膜电子产品
      PECVD-R?旋转...
      本(ben)?jing)肺狿ECVD-R?旋转等离子加强CVD设备初宗门。PECVD-R?旋转等离子加强CVD设备十(shi)分适合(he)在气氛保(bao)护的环境(jing)下连续对粉末材料用CVD方法进行包(bao)裹和修饰都经。
      PE-HPCVD等离...
      PE-HPCVD等离子增强物理化学(xue)气相沉(chen)积由一台双温区管(guan)式炉雪白,一套(tao)钨丝蒸发源(yuan)笑意坐,一套(tao)等离子发生(sheng)装置以及一套(tao)质量流量计组成过180。PE-HPCVD等离子增强物理化学(xue)气相沉(chen)积适用于无机(ji)复(fu)合(he)粉末的热(re)处理及粉末表(biao)面的均(jun)匀包(bao)覆监狱。
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