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      单靶磁(ci)控光纤绕丝(si)溅射镀(du)膜仪敢打他,专用于光纤制备薄膜,采用不锈钢(gang)高真空(kong)腔(qiang)体这种拥,配有(you)带(dai)挡(dang)板的(de)观察(cha)窗种百鸟,可(ke)以观察(cha)镀(du)膜过程龙圣柱,挡(dang)板则能有(you)效防止观察(cha)窗被膜层遮蔽够蓄力,便于实验的(de)观察(cha)记(ji)录盯紧。腔(qiang)体上顶开式设(she)计开启方便怒视下,易(yi)于清(qing)理宿命,十分?zhi)屎鲜笛槭沂褂枚鲜战簟U捎媚要说?榛?she)计很直观,操(cao)作逻(luo)辑简单表情开,操(cao)作界面直观他一肘,利(li)于上手
      台式紧凑型(xing)三靶磁(ci)控溅...
      CY-VTC-3DC是(shi)专为非金属薄膜镀(du)膜设(she)计的(de)三头2"射频等离子磁(ci)控溅射系?di)成ナ拢饕糜诙嗖阊趸锉∧ち兑┦酰?shi)新一代(dai)氧化物薄膜研究中性价比*高的(de)镀(du)膜机 . 直流磁(ci)控溅射选项(xiang)可(ke)根据要求提供(gong)金属薄膜沉积心眼,实现三个(ge)直流系统送、一个(ge)射频/两(liang)个(ge)直流和?tu)礁?ge)射频/一个(ge)直流溅射头配置
      双(shuang)靶直流磁(ci)控溅射镀(du)膜...
      双(shuang)靶直流磁(ci)控溅射镀(du)膜仪可(ke)用于制备单层或多层铁电(dian)薄膜这时它、导(dao)电(dian)薄膜沉默居、合金薄膜等五步远。该双(shuang)靶磁(ci)控溅射镀(du)膜仪与(yu)同类设(she)备相(xiang)比人鲁莽,其(qi)不仅(jin)应用广泛顶灾,且具有(you)体积小便于操(cao)作的(de)优点美哦,是(shi)一款实验室制备?fu)牧媳∧さ?de)理想设(she)备
      单靶直流磁(ci)控溅射镀(du)膜...
      单靶直流磁(ci)控溅射镀(du)膜仪可(ke)用于制备单层铁电(dian)薄膜肯算、导(dao)电(dian)薄膜坐地上、合金薄膜等第几圈。该单靶磁(ci)控溅射镀(du)膜仪与(yu)同类设(she)备相(xiang)比召,其(qi)不仅(jin)应用广泛我打听,且具有(you)体积小便于操(cao)作的(de)优点死物,是(shi)一款实验室制备?fu)牧媳∧さ?de)理想设(she)备这支,特别适用于实验室研究固态电(dian)解质(zhi)及OLED等
    • CVD法培(pei)育钻石
      人造钻石是(shi)一种由直?ben)?0到30纳米的(de)钻石结晶聚合而成的(de)多结晶钻石我啦,等离子增强化学(xue)气象沉积PECVD合成法制造她大脑,人造钻石主要用于制造切割工具等工业用途上巨蛇背,同样也被使用在珠(zhu)宝首饰上
      热(re)丝(si)化学(xue)气相(xiang)沉积(H...
      热(re)丝(si)化学(xue)气相(xiang)沉积(Hot filament Chemical Vapor Deposition,HFCVD)拥有(you)工艺成熟(shu)连火箭,设(she)备简单等诸(zhu)多优点竞争力,是(shi)工业上应用*多的(de)金刚(gang)石薄膜制备方法之一胶布。设(she)计用于合成纳米金刚(gang)石涂层邀请下,CVD金刚(gang)石薄膜双魅惑,微晶CVD金刚(gang)石涂层手搭,石墨(mo)烯接耳时,碳(tan)纳米管(CNTs)和各种其(qi)他薄膜涂层
      CVD培(pei)育钻石设(she)备
      CVD培(pei)育钻石是(shi)一种由直?ben)?0到30纳米钻石晶体合成的(de)多结晶钻石大才,它的(de)化学(xue)成分为碳(tan)黄级,运用先进的(de)设(she)备模拟大自?yun)恢凶晔せ肪?jing)紧锁定,通过化学(xue)气象沉积技术(shu)(CVD)栽种而成
      MPCVD单晶钻石沉...
      化学(xue)气相(xiang)沉积法制备高品(pin)质(zhi)单晶钻石明天我,化学(xue)气相(xiang)沉积法制备高品(pin)质(zhi)多晶钻石自支撑(cheng)厚膜些突,化学(xue)气相(xiang)沉积法制备高品(pin)质(zhi)多晶钻石薄膜
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      5英寸(cun)近距(ju)离蒸发镀(du)膜炉(lu)适用于薄膜太阳能电(dian)池,如CdTe.硫化物和钙钛矿(kuang)结构太阳能电(dian)池,这是(shi)一款理想的(de)实验工具
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      近距(ju)离有(you)机物蒸发镀(du)膜炉(lu)是(shi)一种双(shuang)加热(re)区(qu)快速热(re)处(chu)理炉(lu)过样,具有(you)11"外径的(de)石英管道血光。它是(shi)专为PVD或CSS(近距(ju)离升华)薄膜涂层3英寸(cun)直?ben)痘?"×2"队长最。近距(ju)离蒸发镀(du)膜炉(lu)采用两(liang)组(zu)卤素加热(re)器(qi)(顶部和底部)渐变成,zui大加热(re)速率(lv)20?C/s玄玉手。两(liang)个(ge)30段精密温度控制器(qi)内置开房间,精度为+/-1?C很麻烦。包括RS485端?si)诤涂刂迫砑?jian)杀字出,允许通过PC操(cao)作炉(lu)子和温度曲线记(ji)录衣服带。它是(shi)研究新一代(dai)太阳能电(dian)池薄膜的(de)主要工具复出,如CdTe我减肥、硫化物和钙钛矿(kuang)太阳能电(dian)池它合体。
      小型(xing)电(dian)动升降(jiang)样品(pin)台蒸...
      本(ben)产品(pin)为桌面型(xing)小型(xing)蒸发镀(du)膜仪攻击才,设(she)备安装有(you)钨丝(si)篮蒸发源(yuan)住嘴,可(ke)提供(gong)*大100A的(de)镀(du)膜电(dian)流戏狠狠,*大蒸发温度可(ke)达1800℃捅我,能够满足各种常见金属的(de)蒸镀(du)及部分非金属蒸镀(du)
      桌面型(xing)水冷样品(pin)台蒸发...
      本(ben)产品(pin)为桌面型(xing)小型(xing)蒸发镀(du)膜仪人辈出,设(she)备安装有(you)钨丝(si)篮蒸发源(yuan)吐完,可(ke)提供(gong)*大100A的(de)镀(du)膜电(dian)流她打架,*大蒸发温度可(ke)达1800℃说出师,能够满足各种常见金属的(de)蒸镀(du)及部分非金属蒸镀(du)
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      自动卷(juan)对卷(juan)涂布机主要适用于磷酸铁锂我心底、钴(gu)酸锂海居、锰酸锂等体系的(de)正负极(ji)镀(du)膜工艺
      锂电(dian)池专用卷(juan)对卷(juan)加热(re)...
      这种全自动卷(juan)对卷(juan)加热(re)涂布机主要用于实验室涂布液体或胶体膜醋坛。该设(she)备?fu)捎梦藜?ji)变速电(dian)机**控制涂膜速度觅她,从(cong)而达到使样品(pin)匀(yun)速前进而均(jun)匀(yun)涂膜的(de)目的(de)
      实验室锂电(dian)池卷(juan)对卷(juan)加...
      这种全自动卷(juan)绕涂布机主要用于实验室涂布液体或胶体膜雪雪才。该设(she)备?fu)捎梦藜?ji)变速电(dian)机**控制涂膜速度要极,从(cong)而达到使样品(pin)匀(yun)速前进而均(jun)匀(yun)涂膜的(de)目的(de)大哥说。刮(gua)刀(dao)采用全不锈钢(gang)材质(zhi)你很累,重量恒定瀑布上,可(ke)提高涂膜的(de)一致性和均(jun)匀(yun)性张弛。该设(she)备?fu)捎镁哂?you)真空(kong)吸附功(gong)能的(de)样品(pin)台炼什,可(ke)以平稳的(de)吸附样品(pin)时间拥。同时涂布机具有(you)底部加热(re)功(gong)能失手砸,加热(re)温度可(ke)达120℃讨战,在涂膜过程中实现烤胶功(gong)能小手,从(cong)而使膜迅速地干燥您教导,方便收卷(juan)操(cao)作%#$。
      锂电(dian)池隔膜涂布机
      锂电(dian)池隔膜涂布机上吹,可(ke)进行连续和间歇涂布等类型(xing)的(de)涂布要求嘶喊。设(she)备涂布精度高105953,一致性稳定性好浴室,广泛应用于锂离子电(dian)池起佼佼、石墨(mo)烯薄膜级实、光学(xue)薄膜双出门、陶(tao)瓷薄膜地板上、**胶带(dai)以及各种功(gong)能薄膜行业
    • 全自动超声波气氛加热(re)...
      超声波气氛加热(re)匀(yun)胶机是(shi)一款直?ben)?00mm下魔法、灵(ling)活(huo)的(de)旋转匀(yun)胶设(she)备制药,可(ke)通过超声波喷(pen)头把胶液喷(pen)洒在基片上没粗,进而通过高速旋转使得胶液均(jun)匀(yun)涂覆(fu)在基片上城商。加热(re)匀(yun)胶机也可(ke)以单独进行旋涂操(cao)作
      紫外线光固化匀(yun)胶机
      紫外线光固化匀(yun)胶机配有(you)紫外线光源(yuan)表情瞅,能够实现对特殊膜料的(de)固化功(gong)能邯他,紫外线光固化匀(yun)胶机真空(kong)吸附固定人想打,操(cao)作简单适应过,可(ke)自由取放都愈合。
      透明(ming)亚克力(li)匀(yun)胶机带(dai)滴(di)...
      CY-SP4-D匀(yun)胶机经过小型(xing)化设(she)计你待,整体采用铝合金结构对追,腔(qiang)体选用透明(ming)亚克力(li)脸一冷,外观美观坚固先坐下。仪器(qi)采用先进的(de)精密电(dian)机稍逊,*高转速能达到8000转/秒;控制依靠按键和高亮液晶屏被吵醒,除(chu)直接匀(yun)胶外还(huai)能预(yu)存匀(yun)胶曲线进行程控匀(yun)胶恩对。本(ben)仪器(qi)在极(ji)大的(de)减小了体积的(de)前提下有(you)效的(de)保(bao)障(zhang)了仪器(qi)性能和功(gong)能地森林,十分?zhi)屎鲜笛槭已」盒┕汀Ⅻ/div>
      PP腔(qiang)体八(ba)英寸(cun)匀(yun)胶机
      本(ben)型(xing)号匀(yun)胶机经过小型(xing)化设(she)计成名,整体采用铝合金结构意识里,腔(qiang)体选用PP工程材料敢贸贸,外观美观坚固长天多。仪器(qi)采用先进的(de)精密电(dian)机兽,转速能达到10000转/分趴地上,有(you)效的(de)保(bao)障(zhang)了成膜的(de)均(jun)匀(yun)性刚突破。另(ling)外本(ben)仪器(qi)采用触(chu)控屏控制采访我,可(ke)以预(yu)设(she)匀(yun)胶曲线势挡去,大大简化了使用过程降(jiang)低(di)?tu)搜?xue)习成本(ben)要闹,十分?zhi)屎鲜笛槭已」阂坏愣肌Ⅻ/div>
    • 热(re)阴(yin)极(ji)直流等离子体化...
      热(re)阴(yin)极(ji)直流等离子体化学(xue)气相(xiang)沉积设(she)备(DCCVD)是(shi)在常规冷阴(yin)极(ji)辉光放电(dian)基础(chu)上发展(zhan)起来的(de)成功偷,主要用于金刚(gang)石单晶或多晶膜的(de)沉积生长
      卷(juan)对卷(juan)PECVD石墨(mo)...
      卷(juan)对卷(juan)PECVD石墨(mo)烯制备设(she)备?gang)饕τ糜诩扑慊椭悄苁只聊晃媸玻岽瓮纯唷⑷?rou)性的(de)太阳能电(dian)池被定,以及新型(xing)的(de)发光设(she)备和其(qi)他薄膜电(dian)子产品(pin)
      PECVD-R?旋转...
      本(ben)产品(pin)为PECVD-R?旋转等离子加强CVD设(she)备窥伺。PECVD-R?旋转等离子加强CVD设(she)备十分?zhi)屎显谄毡?bao)护的(de)环境(jing)下连续对粉(fen)末材料用CVD方法进行包裹(guo)和修(xiu)饰捉狭。
      PE-HPCVD等离...
      PE-HPCVD等离子增强物理化学(xue)气相(xiang)沉积由一台双(shuang)温区(qu)管式炉(lu)上老大,一套(tao)钨丝(si)?kong)舴⒃?yuan)一参赛,一套(tao)等离子发生装置以及一套(tao)质(zhi)量流量计组(zu)成湛蓝眸。PE-HPCVD等离子增强物理化学(xue)气相(xiang)沉积适用于无机复合粉(fen)末的(de)热(re)处(chu)理及粉(fen)末表面的(de)均(jun)匀(yun)包覆(fu)思龙突。
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