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    • 1700℃管式炉采(cai)用高质量(liang)硅钼棒作为加热元件我笑谈,加热温(wen)度可(ke)高达1700℃紧搂,炉管管径为50mm这论断,采(cai)用高纯...
    • 单靶磁控光纤绕丝溅(jian)射...
      单靶磁控光纤绕丝溅(jian)射镀膜仪算放松,专用于光纤制备(bei)薄膜,采(cai)用不(bu)锈钢高真空腔体低地,配有带挡板(ban)的观察窗更字,可(ke)以观察镀膜过程路杀出,挡板(ban)则能有效防止观察窗被膜层遮蔽冰草,便于实验的观察记录才刚过。腔体上顶开式设计开启方便一派,易于清(qing)理(li)稍微触,十分(fen)适合实验室使(shi)用意思。整机采(cai)用亩即蚣埽块化(hua)设计男爵,操作逻辑简单蛛矛内,操作界面直观件减少,利于上手
      台式紧凑?zhao)?xing)三靶磁控溅(jian)...
      CY-VTC-3DC是专为非金(jin)属薄膜镀膜设计的三头2"射频等离子磁控溅(jian)射系统各,主(zhu)要用于多层氧(yang)化(hua)物(wu)薄膜你羞愧,是?qie)乱淮?yang)化(hua)物(wu)薄膜研究(jiu)中性价比*高的镀膜机 . 直流磁控溅(jian)射选项(xiang)可(ke)根据要求提供金(jin)属薄膜沉积聚集起,实现三个直流回望、一个射频/两个直流和两个射频/一个直流溅(jian)射头配置(zhi)
      双靶直流磁控溅(jian)射镀膜...
      双靶直流磁控溅(jian)射镀膜仪可(ke)用于制备(bei)单层或多层铁电薄膜媚惑人、导电薄膜你机、合金(jin)薄膜等?qu)8盟写趴亟?jian)射镀膜仪与(yu)同(tong)类设备(bei)相(xiang)比同方面,其不(bu)仅应用广(guang)泛时间3,且具有体积小便于操作的优点哌,是一款实验室制备(bei)材料薄膜的理(li)想设备(bei)
      单靶直流磁控溅(jian)射镀膜...
      单靶直流磁控溅(jian)射镀膜仪可(ke)用于制备(bei)单层铁电薄膜半送回、导电薄膜火无双、合金(jin)薄膜等?qu)8玫グ写趴亟?jian)射镀膜仪与(yu)同(tong)类设备(bei)相(xiang)比想挺身,其不(bu)仅应用广(guang)泛搭档,且具有体积小便于操作的优点地荣幸,是一款实验室制备(bei)材料薄膜的理(li)想设备(bei)被人踩,特别(bie)适用于实验室研究(jiu)固(gu)态电解(jie)质及(ji)OLED等
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      人造钻石是一种由直?ben)?0到30纳(na)米(mi)的钻石结晶聚合而(er)成的多结晶钻石连摔,等离子增强化(hua)学气(qi)象沉积PECVD合成法制造慌忙,人造钻石主(zhu)要用于制造切(qie)割工具等工业用途(tu)上他很懂,同(tong)样(yang)也被使(shi)用在(zai)珠宝首(shou)饰上
      热丝化(hua)学气(qi)相(xiang)沉积(H...
      热丝化(hua)学气(qi)相(xiang)沉积(Hot filament Chemical Vapor Deposition,HFCVD)拥(yong)有工艺成熟虫窝,设备(bei)简单等诸多优点今日我,是工业上应用*多的金(jin)刚石薄膜制备(bei)方法之一乐挥出。设计用于合成纳(na)米(mi)金(jin)刚石涂层身边理,CVD金(jin)刚石薄膜找唐三,微晶CVD金(jin)刚石涂层事直说,石墨烯(xi)希望你,碳纳(na)米(mi)管(CNTs)和各种其他薄膜涂层
      CVD培(pei)育(yu)钻石设备(bei)
      CVD培(pei)育(yu)钻石是一种由直?ben)?0到30纳(na)米(mi)钻石晶体合成的多结晶钻石许够,它的?mu)С煞?fen)为碳谁过谁,运(yun)用先进的?na)璞?bei)模拟大自?yun)恢凶晔せ肪臣苹校?tong)过化(hua)学气(qi)象沉积技(ji)术(CVD)栽种而(er)成
      MPCVD单晶钻石沉...
      化(hua)学气(qi)相(xiang)沉积法制备(bei)高品(pin)?fen)实ゾё晔ㄑ?hua)学气(qi)相(xiang)沉积法制备(bei)高品(pin)?fen)识嗑ё晔灾С藕衲ぱ土遥?hua)学气(qi)相(xiang)沉积法制备(bei)高品(pin)?fen)识嗑ё晔∧|/div>
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      5英寸近距离蒸发镀膜炉适用于薄膜太阳能电池,如CdTe.硫化(hua)物(wu)和钙钛矿结构?gu)裟艿绯?这是一款理(li)想的实验工具
      近距离有机物(wu)蒸发镀膜...
      近距离有机物(wu)蒸发镀膜炉是一种双加热区快速热处理(li)炉馅饼,具有11"外径的石英管里吞。它是专为PVD或CSS(近距离升(sheng)华(hua))薄膜涂层3英寸直?ben)痘?"×2"族冻结。近距离蒸发镀膜炉采(cai)用两组卤素加热器(顶部和底部)陌开口,zui大加热速率20?C/s肩膀转。两个30段精密(mi)温(wen)度控制?po)髂谥?zhi)史莱克,精度为+/-1?C两报仇。包(bao)括(kuo)RS485端口和控制软件处走去,允(yun)?shi)硗?tong)过PC操作炉子和温(wen)度曲线记录一滴血。它是研究(jiu)新一代太阳能电池薄膜的主(zhu)要工具理解我,如CdTe蜜、硫化(hua)物(wu)和钙钛矿太阳能电池我瞧。
      小型(xing)电动(dong)升(sheng)降样(yang)品(pin)台蒸...
      本(ben)产品(pin)为桌面型(xing)小型(xing)蒸发镀膜仪情佑,设备(bei)安装有钨丝篮(lan)蒸发源它跺死,可(ke)提供*大100A的镀膜电流惊中,*大蒸发温(wen)度可(ke)达1800℃你皮痒,能够满足各种常见(jian)金(jin)属的蒸镀及(ji)部分(fen)非金(jin)属蒸镀
      桌面型(xing)水冷样(yang)品(pin)台蒸发...
      本(ben)产品(pin)为桌面型(xing)小型(xing)蒸发镀膜仪掌握它,设备(bei)安装有钨丝篮(lan)蒸发源危险分,可(ke)提供*大100A的镀膜电流回你,*大蒸发温(wen)度可(ke)达1800℃但神色,能够满足各种常见(jian)金(jin)属的蒸镀及(ji)部分(fen)非金(jin)属蒸镀
    • 全自动(dong)电极(ji)镀膜卷对卷...
      自动(dong)卷对卷涂布(bu)机主(zhu)要适用于磷酸铁锂手都极、钴(gu)酸锂部分强、锰(meng)酸锂等体系的正负极(ji)镀膜工艺
      锂电池专用卷对卷加热...
      这种全自动(dong)卷对卷加热涂布(bu)机主(zhu)要用于实验室涂布(bu)液(ye)体或胶体膜儿升。该设备(bei)采(cai)用无级变速电机**控制涂膜速度做游医,从而(er)达到使(shi)样(yang)品(pin)匀(yun)速前进而(er)均匀(yun)涂膜的目的
      实验室锂电池卷对卷加...
      这种全自动(dong)卷绕涂布(bu)机主(zhu)要用于实验室涂布(bu)液(ye)体或胶体膜我斗篷。该设备(bei)采(cai)用无级变速电机**控制涂膜速度行李出,从而(er)达到使(shi)样(yang)品(pin)匀(yun)速前进而(er)均匀(yun)涂膜的目的抿嘴乐。刮(gua)刀采(cai)用全不(bu)锈钢材质寒意正,重(zhong)量(liang)恒定食香,可(ke)提高涂膜的一致(zhi)性和?tu)?yun)性承认打。该设备(bei)采(cai)用具有真空吸附功能的样(yang)品(pin)台他才说,可(ke)以平稳的吸附样(yang)品(pin)追去。同(tong)时涂布(bu)机具有底部加热功能开心可,加热温(wen)度可(ke)达120℃你出差,在(zai)涂膜过程中实现烤胶功能敌意,从而(er)使(shi)膜迅(xun)速地干燥(zao)人抓,方便收卷操作大门内。
      锂电池隔膜涂布(bu)机
      锂电池隔膜涂布(bu)机我呆呆,可(ke)进行连(lian)续(xu)和?tu)湫坎?bu)等类型(xing)的涂布(bu)要求它破坏。设备(bei)涂布(bu)精度高东这样,一致(zhi)性稳定性好去忍受,广(guang)泛应用于锂离子?yong)绯刈嘈А⑹?xi)薄膜拦、光学薄膜真要练、陶瓷薄膜抵、**胶带以及(ji)各种功能薄膜行业
    • 全自动(dong)超声波气(qi)氛加热...
      超声波气(qi)氛加热匀(yun)胶机是一款直?ben)?00mm聚居地、灵活的旋转匀(yun)胶设备(bei)永远都,可(ke)通(tong)过超声波喷头把胶液(ye)喷洒(sa)在(zai)基片上精神随,进而(er)通(tong)过高速旋转使(shi)得(de)胶液(ye)均匀(yun)涂覆在(zai)基片上一计。加热匀(yun)胶机也可(ke)以单独进行旋涂操作
      紫外线光固(gu)化(hua)匀(yun)胶机
      紫外线光固(gu)化(hua)匀(yun)胶机配有紫外线光源找这次,能够实现对特殊膜料的固(gu)化(hua)功能补品,紫外线光固(gu)化(hua)匀(yun)胶机真空吸附固(gu)定拐回,操作简单人转成,可(ke)自由取(qu)放他制。
      透明亚克力(li)匀(yun)胶机带滴(di)...
      CY-SP4-D匀(yun)胶机经(jing)过小型(xing)化(hua)设计请现身,整体采(cai)用铝合金(jin)结构族费,腔体选用透明亚克力(li)始终贴,外观美观坚(jian)固(gu)跑跑。仪器采(cai)用先进的精密(mi)电机人吸收,*高转速能达到8000转/秒(miao);控制依(yi)靠(kao)按键和高亮液(ye)晶屏这金光,除(chu)直接匀(yun)胶外还能预存匀(yun)胶曲线进行程控匀(yun)胶紫烟花。本(ben)仪器在(zai)极(ji)大的减(jian)小了体积的前提下有效的保障了仪器性能和功能写下去,十分(fen)适合实验室选购(gou)荒废。
      PP腔体八英寸匀(yun)胶机
      本(ben)型(xing)号匀(yun)胶机经(jing)过小型(xing)化(hua)设计两人可,整体采(cai)用铝合金(jin)结构他捕捉,腔体选用PP工程材料本应,外观美观坚(jian)固(gu)面对早。仪器采(cai)用先进的精密(mi)电机幻斗罗,转速能达到10000转/分(fen)我走行,有效的保障了成膜的均匀(yun)性指定。另外本(ben)仪器采(cai)用触控屏?liang)刂坪芏耘蹋?ke)以预设匀(yun)胶曲线帮派,大大简化(hua)了使(shi)用过程降低了学习成本(ben)上忧伤,十分(fen)适合实验室选购(gou)沉默他。
    • 热阴极(ji)直流等离子体化(hua)...
      热阴极(ji)直流等离子体化(hua)学气(qi)相(xiang)沉积设备(bei)(DCCVD)是在(zai)常规冷阴极(ji)辉光放电基础上发展(zhan)起来的没过关,主(zhu)要用于金(jin)刚石单晶或多晶膜的沉积生长
      卷对卷PECVD石墨...
      卷对卷PECVD石墨烯(xi)制备(bei)设备(bei)主(zhu)要应用于计算机和智能手机屏幕(mu)很养眼,超轻吼什、柔性的太阳能电池许无视,以及(ji)新型(xing)的发光设备(bei)和其他薄膜电子产品(pin)
      PECVD-R?旋转...
      本(ben)产品(pin)为PECVD-R?旋转等离子加强CVD设备(bei)最早猜。PECVD-R?旋转等离子加强CVD设备(bei)十分(fen)适合在(zai)气(qi)氛保护的?mu)肪诚铝?lian)续(xu)对粉末材料用CVD方法进行包(bao)裹和修饰我说地。
      PE-HPCVD等离...
      PE-HPCVD等离子增强物(wu)理(li)化(hua)学气(qi)相(xiang)沉积由一台双温(wen)区管式炉议中突,一套钨丝蒸发源够强大,一套等离子发生装置(zhi)以及(ji)一套质量(liang)流量(liang)计组成盔她。PE-HPCVD等离子增强物(wu)理(li)化(hua)学气(qi)相(xiang)沉积适用于无机复合粉末的热处理(li)及(ji)粉末表(biao)面的均匀(yun)包(bao)覆经睡。
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