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    • 单靶(ba)磁控光纤(xian)绕丝溅射...
      单靶(ba)磁控光纤(xian)绕丝溅射镀膜仪(yi)住他扬,专用于光纤(xian)制备薄膜,采用不(bu)锈钢高真(zhen)空腔体幸好你,配有(you)带挡板的观察(cha)窗被围住,可以观察(cha)镀膜过程经意瞟,挡板则能有(you)效(xiao)防止观察(cha)窗被膜层遮蔽(bi)戴少身,便(bian)于实验的观察(cha)记(ji)录(lu)三代弟。腔体上(shang)顶(ding)开(kai)式设计开(kai)启方(fang)便(bian)宠坏,易于清理深邃起,十分(fen)?zhi)屎鲜笛槭沂褂贸迪АU捎媚\\几乎?榛杓票镜赝迹僮髀?luo)辑简单帮主什,操作界面直观种几率,利于上(shang)手
      台式紧凑?zhao)腿?ba)磁控溅...
      CY-VTC-3DC是专为非金属(shu)薄膜镀膜设计的三头2"射频等离子磁控溅射系统(tong)接客人,主(zhu)要用于多层氧(yang)化物薄膜起因都,是新一代氧(yang)化物薄膜研究(jiu)中性价比*高的镀膜机 . 直流(liu)磁控溅射选项(xiang)可根据要求提供金属(shu)薄膜沉积脸咬,实现三个直流(liu)要辣、一个射频/两个直流(liu)和两个射频/一个直流(liu)溅射头?fang)渲曼/div>
      双靶(ba)直流(liu)磁控溅射镀膜...
      双靶(ba)直流(liu)磁控溅射镀膜仪(yi)可用于制备单层或(huo)多层铁电薄膜酱紫、导电薄膜独忘记、合金薄膜等?qu)8盟?ba)磁控溅射镀膜仪(yi)与同类设备相比手站,其不(bu)仅应用广泛好困呐,且具有(you)体积小便(bian)于操作的优点(dian)正蜕变,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备
      单靶(ba)直流(liu)磁控溅射镀膜...
      单靶(ba)直流(liu)磁控溅射镀膜仪(yi)可用于制备单层铁电薄膜里拿、导电薄膜我则舒、合金薄膜等?qu)8玫グ?ba)磁控溅射镀膜仪(yi)与同类设备相比拔都拔,其不(bu)仅应用广泛专注,且具有(you)体积小便(bian)于操作的优点(dian)道淡淡,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备软无力,特别适用于实验室研究(jiu)固态电解(jie)质(zhi)及OLED等
    • CVD法培育钻石
      人造钻石是一种(zhong)由直径10到30纳(na)米(mi)的钻石结晶(jing)聚合而成(cheng)的多结晶(jing)钻石样专注,等离子增(zeng)强化学气象(xiang)沉积PECVD合成(cheng)法制造器世界,人造钻石主(zhu)要用于制造切割工具等工业用途上(shang)涌竟,同样也(ye)被使用在珠宝首饰(shi)上(shang)
      热(re)丝化学气相沉积(H...
      热(re)丝化学气相沉积(Hot filament Chemical Vapor Deposition,HFCVD)拥有(you)工艺(yi)成(cheng)熟雄黄粉,设备简单等诸多优点(dian)阵容,是工业上(shang)应用*多的金刚(gang)石薄膜制备方(fang)法之一兴奋难。设计用于合成(cheng)纳(na)米(mi)金刚(gang)石涂层禁邪恶,CVD金刚(gang)石薄膜无绝对,微晶(jing)CVD金刚(gang)石涂层一直熬,石墨烯都扭曲,碳纳(na)米(mi)管(CNTs)和各种(zhong)其他薄膜涂层
      CVD培育钻石设备
      CVD培育钻石是一种(zhong)由直径10到30纳(na)米(mi)钻石晶(jing)体合成(cheng)的多结晶(jing)钻石迷途中,它(ta)的?mu)С?cheng)分(fen)为碳九尾都,运用先进的?na)璞改D獯笞匀恢凶晔せ肪程颖ü?xiang)沉积技(ji)术(CVD)栽(zai)种(zhong)而成(cheng)
      MPCVD单晶(jing)钻石沉...
      化学气相沉积法制备高品?fen)?zhi)单晶(jing)钻石够改变,化学气相沉积法制备高品?fen)?zhi)多晶(jing)钻石自支撑(cheng)厚(hou)膜天狼,化学气相沉积法制备高品?fen)?zhi)多晶(jing)钻石薄膜
    • 5英寸近距离蒸发镀膜...
      5英寸近距离蒸发镀膜炉(lu)适用于薄膜太阳能电池,如CdTe.硫化物和钙钛矿结构太阳能电池,这是一款理想的实验工具
      近距离有(you)机物蒸发镀膜...
      近距离有(you)机物蒸发镀膜炉(lu)是一种(zhong)双加热(re)区快速(su)热(re)处理炉(lu)转眼珠,具有(you)11"外径的石英管痉挛。它(ta)是专为PVD或(huo)CSS(近距离升华)薄膜涂层3英寸直径或(huo)2"×2"全没。近距离蒸发镀膜炉(lu)采用两组(zu)卤素加热(re)器(顶(ding)部(bu)和底部(bu))干嚎,zui大加热(re)速(su)率(lv)20?C/s击造成。两个30段精密温度控制器内置坐下,精度为+/-1?C他传递。包(bao)括RS485端(duan)口和控制软件美观,允许(xu)通过PC操作炉(lu)子和温度曲线记(ji)录(lu)太假。它(ta)是研究(jiu)新一代太阳能电池薄膜的主(zhu)要工具你算,如CdTe梦中、硫化物和钙钛矿太阳能电池够呛。
      小型电动升降样品台蒸...
      本产品为桌面型小型蒸发镀膜仪(yi)大海眨,设备安(an)装有(you)钨丝篮蒸发源闯荡,可?shang)峁?大100A的镀膜电流(liu)队地队,*大蒸发温度可达1800℃鸟雀,能够(gou)满(man)足各种(zhong)常见金属(shu)的蒸镀及?an)糠?fen)非金属(shu)蒸镀
      桌面型水冷样品台蒸发...
      本产品为桌面型小型蒸发镀膜仪(yi)这心,设备安(an)装有(you)钨丝篮蒸发源经使,可?shang)峁?大100A的镀膜电流(liu)遥一,*大蒸发温度可达1800℃染,能够(gou)满(man)足各种(zhong)常见金属(shu)的蒸镀及?an)糠?fen)非金属(shu)蒸镀
    • 全自动电极镀膜卷对卷...
      自动卷对卷涂布机主(zhu)要适用于磷(lin)酸(suan)铁锂去解释、钴酸(suan)锂群最、锰(meng)酸(suan)锂等体系的正负极镀膜工艺(yi)
      锂电池专用卷对卷加热(re)...
      这种(zhong)全自动卷对卷加热(re)涂布机主(zhu)要用于实验室涂布液体或(huo)胶体膜276505。该设备采用无级变速(su)电机**控制涂膜速(su)度像修说,从(cong)而达到使样品匀速(su)前进而均匀涂膜的目的
      实验室锂电池卷对卷加...
      这种(zhong)全自动卷绕涂布机主(zhu)要用于实验室涂布液体或(huo)胶体膜我穷搅。该设备采用无级变速(su)电机**控制涂膜速(su)度一样板,从(cong)而达到使样品匀速(su)前进而均匀涂膜的目的力何。刮刀(dao)采用全不(bu)锈钢材质(zhi)格自,重(zhong)量恒定拳脚相,可?shang)岣咄磕さ囊恢?zhi)性和均匀性我陪你。该设备采用具有(you)真(zhen)空吸(xi)附功能的样品台这更,可以平稳的吸(xi)附样品疏离。同时(shi)涂布机具有(you)底部(bu)加热(re)功能两谈话,加热(re)温度可达120℃他精灵,在涂膜过程中实现烤胶功能愁寂寞,从(cong)而使膜迅速(su)地干(gan)燥(zao)管说什,方(fang)便(bian)收卷操作下体。
      锂电池隔膜涂布机
      锂电池隔膜涂布机曾发生,可进行连续和间(jian)歇(xie)涂布等类型的涂布要求否则。设备涂布精度高这段,一致(zhi)性稳定性好痛绝,广泛应用于锂离子电池他前、石墨烯薄膜心静、光学薄膜这高度、陶瓷(ci)薄膜断渗血、**胶带以及?an)髦?zhong)功能薄膜行业
    • 全自动超声波气氛加热(re)...
      超声波气氛加热(re)匀胶机是一款直径300mm清真相、灵活(huo)的旋转匀胶设备下别走,可通过超声波喷头把胶液喷洒(sa)在基片(pian)上(shang)主唐啸,进而通过高速(su)旋转使得(de)胶液均匀涂覆在基片(pian)上(shang)接应我。加热(re)匀胶机也(ye)?bu)梢缘ザ澜行坎僮鳇/div>
      紫外线光固化匀胶机
      紫外线光固化匀胶机配有(you)紫外线光源东西丢,能够(gou)实现对特殊膜料的固化功能伪君,紫外线光固化匀胶机真(zhen)空吸(xi)附固定算融洽,操作简单要同意,可自由取(qu)放(fang)众人忽。
      透明亚克力匀胶机带滴...
      CY-SP4-D匀胶机经过小型化设计些构,整体采用铝合金结构倍月票,腔体选用透明亚克力端起杯,外观美观坚固够入味。仪(yi)器采用先进的精密电机间贴,*高转速(su)能达到8000转/秒;控制依靠按键(jian)和高亮(liang)液晶(jing)屏(ping)比较可,除直接(jie)匀胶外还能预存匀胶曲线进行程控匀胶脚虽。本仪(yi)器在极大的减小了体积的前提下有(you)效(xiao)的保障(zhang)了仪(yi)器性能和功能或更换,十分(fen)?zhi)屎鲜笛槭已」何⒎纭Ⅻ/div>
      PP腔体八英寸匀胶机
      本型号匀胶机经过小型化设计三兽都,整体采用铝合金结构发生很,腔体选用PP工程材料人拥抱,外观美观坚固商讨。仪(yi)器采用先进的精密电机渔村,转速(su)能达到10000转/分(fen)双职工,有(you)效(xiao)的保障(zhang)了成(cheng)膜的均匀性内吸。另外本仪(yi)器采用触控屏(ping)控制缓消失,可以?zai)ど柙冉呵呱甭境。蟠蠹蚧耸褂霉探档土搜?xi)成(cheng)本面店,十分(fen)?zhi)屎鲜笛槭已」撼銎娴亍Ⅻ/div>
    • 热(re)阴极直流(liu)等离子体化...
      热(re)阴极直流(liu)等离子体化学气相沉积设备(DCCVD)是在常规冷阴极辉(hui)光放(fang)电基础上(shang)发展起来的啷,主(zhu)要用于金刚(gang)石单晶(jing)或(huo)多晶(jing)膜的沉积生长
      卷对卷PECVD石墨...
      卷对卷PECVD石墨烯制备?gan)璞钢?zhu)要应用于计算机和智(zhi)能手机屏(ping)幕(mu)脸色虽,超轻事情最、柔性的太阳能电池很小,以及?ba)滦偷姆⒐馍璞负推渌∧さ缱硬饵/div>
      PECVD-R?旋转...
      本产品为PECVD-R?旋转等离子加强CVD设备此次。PECVD-R?旋转等离子加强CVD设备十分(fen)?zhi)屎显谄毡;さ幕(mu)肪诚铝苑勰?mo)材料用CVD方(fang)法进行包(bao)裹和修饰(shi)清清。
      PE-HPCVD等离...
      PE-HPCVD等离子增(zeng)强物理化学气相沉积由一台双温区管式炉(lu)去挑战,一套钨丝蒸发源扫中,一套等离子发生装置以及一套质(zhi)量流(liu)量计组(zu)成(cheng)东西丢。PE-HPCVD等离子增(zeng)强物理化学气相沉积适用于无机复合粉末(mo)的热(re)处理及粉末(mo)表面的均匀包(bao)覆吃我。
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