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      单(dan)靶磁控(kong)光纤绕丝溅(jian)射(she)镀(du)膜仪对黑暗,专用于光纤制备薄膜,采用不锈(xiu)钢高(gao)真空腔体穿透,配(pei)有带挡板(ban)的观察(cha)窗人捏,可以观察(cha)镀(du)膜过(guo)程他过,挡板(ban)则(ze)能有效防止观察(cha)窗被膜层遮蔽神界,便于实验的观察(cha)记录(lu)些许。腔体上顶开式设计开启方便噘,易?zi)谇謇砭旁鹿质屎?he)实验室使(shi)用你努力。整机(ji)采用拿帜块(kuai)化(hua)设计被她学,操作逻辑(ji)简单(dan)袈裟快,操作界面直(zhi)观被石,利于上手
      台式紧凑?zhao)腿?san)靶磁控(kong)溅(jian)...
      CY-VTC-3DC是专为非金(jin)属(shu)薄膜镀(du)膜设计的三(san)头2"射(she)频等离子(zi)磁控(kong)溅(jian)射(she)系(xi)统?chang)饕?yao)用于多层氧(yang)化(hua)物薄膜我半趴,是新一代氧(yang)化(hua)物薄膜研究中(zhong)性价比*高(gao)的镀(du)膜机(ji) . 直(zhi)流(liu)磁控(kong)溅(jian)射(she)选项可根据要(yao)求提(ti)供金(jin)属(shu)薄膜沉积东一些,实现三(san)个直(zhi)流(liu)怪丢出、一个射(she)频/两个直(zhi)流(liu)和两个射(she)频/一个直(zhi)流(liu)溅(jian)射(she)头?fang)?pei)置
      双靶直(zhi)流(liu)磁控(kong)溅(jian)射(she)镀(du)膜...
      双靶直(zhi)流(liu)磁控(kong)溅(jian)射(she)镀(du)膜仪可用于制备单(dan)层或多层铁电薄膜这这、导电薄膜笑开、合(he)金(jin)薄膜等斜前方。该双靶磁控(kong)溅(jian)射(she)镀(du)膜仪与同类(lei)设备相比我跟,其不仅应用广泛(fan)棕色,且(qie)具(ju)有体积小(xiao)便于操作的优点(dian)心态,是?qie)豢钍笛槭抑票覆牧媳∧さ睦硐肷璞伏/div>
      单(dan)靶直(zhi)流(liu)磁控(kong)溅(jian)射(she)镀(du)膜...
      单(dan)靶直(zhi)流(liu)磁控(kong)溅(jian)射(she)镀(du)膜仪可用于制备单(dan)层铁电薄膜校长、导电薄膜逛没、合(he)金(jin)薄膜等时说。该单(dan)靶磁控(kong)溅(jian)射(she)镀(du)膜仪与同类(lei)设备相比吵架,其不仅应用广泛(fan)事发生,且(qie)具(ju)有体积小(xiao)便于操作的优点(dian)但岁月,是?qie)豢钍笛槭抑票覆牧媳∧さ睦硐肷璞阜牛乇鹗视糜谑笛槭已芯抗?gu)态(tai)电解质及(ji)OLED等
    • CVD法培育钻石
      人造钻石是?qie)恢钟?you)直(zhi)?ben)?0到30纳米的钻石结(jie)晶聚合(he)而成(cheng)的多结(jie)晶钻石没厌恶,等离子(zi)增(zeng)强化(hua)学气(qi)象沉积PECVD合(he)成(cheng)法制造住惊讶,人造钻石主要(yao)用于制造切割工(gong)具(ju)等工(gong)业用途(tu)上许说话,同样也被使(shi)用在珠宝首饰上
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      热丝化(hua)学气(qi)相沉积(Hot filament Chemical Vapor Deposition,HFCVD)拥有工(gong)艺成(cheng)熟19字数,设备简单(dan)等诸多优点(dian)最莫名,是工(gong)业上应用*多的金(jin)刚石薄膜制备方法之一冲溃。设计用于合(he)成(cheng)纳米金(jin)刚石涂层目标虽,CVD金(jin)刚石薄膜她倒,微晶CVD金(jin)刚石涂层封魔力,石墨(mo)烯够撑,碳(tan)纳米管(CNTs)和各种其他薄膜涂层
      CVD培育钻石设备
      CVD培育钻石是?qie)恢钟?you)直(zhi)?ben)?0到30纳米钻石晶体合(he)成(cheng)的多结(jie)晶钻石何加入,它(ta)的化(hua)学成(cheng)分为碳(tan)嘴中,运(yun)用先进的设备模拟大(da)自(zi)?yun)恢?zhong)钻石生(sheng)长环境(jing)?chang)ü?guo)化(hua)学气(qi)象沉积技术(CVD)栽种而成(cheng)
      MPCVD单(dan)晶钻石沉...
      化(hua)学气(qi)相沉积法制备高(gao)品质单(dan)晶钻石青龙骤,化(hua)学气(qi)相沉积法制备高(gao)品质多晶钻石自(zi)支撑厚膜老妈哭,化(hua)学气(qi)相沉积法制备高(gao)品质多晶钻石薄膜
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      5英寸近(jin)距离蒸发镀(du)膜炉适用于薄膜太(tai)阳能电池,如(ru)CdTe.硫化(hua)物和钙(gai)钛矿结(jie)构?gu)裟艿绯?这是?qie)豢罾硐氲氖笛楣?gong)具(ju)
      近(jin)距离有机(ji)物蒸发镀(du)膜...
      近(jin)距离有机(ji)物蒸发镀(du)膜炉是?qie)恢炙尤惹焖偃却?chu)理炉护下,具(ju)有11"外径的石英管魔女。它(ta)是专为PVD或CSS(近(jin)距离升华)薄膜涂层3英寸直(zhi)?ben)痘?"×2"吃干饭。近(jin)距离蒸发镀(du)膜炉采用两组卤素加热器(顶部和底部)带回他,zui大(da)加热速率20?C/s我爱顶。两个30段精密温度控(kong)制器内置俩居,精度为+/-1?C端直冲。包括RS485端口和控(kong)制软件软肋,允许通过(guo)PC操作炉子(zi)和温度曲线记录(lu)知道梳。它(ta)是研究新一代太(tai)阳能电池薄膜的主要(yao)工(gong)具(ju)级高点,如(ru)CdTe连考都、硫化(hua)物和钙(gai)钛矿太(tai)阳能电池口气般。
      小(xiao)型电动升降(jiang)样品台蒸...
      本(ben)产品为桌面型小(xiao)型蒸发镀(du)膜仪月夜躲,设备安装(zhuang)有钨丝篮蒸发源MM眼,可提(ti)供*大(da)100A的镀(du)膜电流(liu)卷裤脚,*大(da)蒸发温度可达1800℃缝隙里,能够满足各种常(chang)见金(jin)属(shu)的蒸镀(du)及(ji)部分非金(jin)属(shu)蒸镀(du)
      桌面型水冷样品台蒸发...
      本(ben)产品为桌面型小(xiao)型蒸发镀(du)膜仪反正算,设备安装(zhuang)有钨丝篮蒸发源很热衷,可提(ti)供*大(da)100A的镀(du)膜电流(liu)拍马难,*大(da)蒸发温度可达1800℃瑞士回,能够满足各种常(chang)见金(jin)属(shu)的蒸镀(du)及(ji)部分非金(jin)属(shu)蒸镀(du)
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      自(zi)动卷对(dui)卷涂布机(ji)主要(yao)适用于磷酸铁锂一高手、钴酸锂最近貌、锰酸锂等体系(xi)的正负(fu)极镀(du)膜工(gong)艺
      锂电池专用卷对(dui)卷加热...
      这种全(quan)自(zi)动卷对(dui)卷加热涂布机(ji)主要(yao)用于实验室涂布液体或胶体膜~原。该设备采用无级变速电机(ji)**控(kong)制涂膜速度你洗好,从而达到使(shi)样品匀(yun)速前进而均匀(yun)涂膜的目的
      实验室锂电池卷对(dui)卷加...
      这种全(quan)自(zi)动卷绕涂布机(ji)主要(yao)用于实验室涂布液体或胶体膜果这。该设备采用无级变速电机(ji)**控(kong)制涂膜速度老哥,从而达到使(shi)样品匀(yun)速前进而均匀(yun)涂膜的目的趁她。刮刀采用全(quan)不锈(xiu)钢材质根短角,重量(liang)恒(heng)定令,可提(ti)高(gao)涂膜的一致性和?tu)?yun)性否承受。该设备采用具(ju)有真空吸附功能的样品台血团,可以平稳的吸附样品人腰间。同时涂布机(ji)具(ju)有底部加热功能最无害,加热温度可达120℃上躺,在涂膜过(guo)程中(zhong)实现烤胶功能抱怨道,从而使(shi)膜迅速地干燥太离谱,方便收(shou)卷操作知道滚。
      锂电池隔膜涂布机(ji)
      锂电池隔膜涂布机(ji)时大,可进行连续和间歇(xie)涂布等类(lei)型的涂布要(yao)求地修炼。设备涂布精度高(gao)五黑九,一致性稳定性好10岁,广泛(fan)应用于锂离子(zi)电池里傻、石墨(mo)烯薄膜颜色竟、光学薄膜场毅力、陶瓷薄膜魂技一、**胶带以及(ji)各种功能薄膜行业
    • 全(quan)自(zi)动超声波气(qi)氛(fen)加热...
      超声波气(qi)氛(fen)加热匀(yun)胶机(ji)是?qie)豢钪?zhi)?ben)?00mm鹌鹑蛋、灵活的旋(xuan)转匀(yun)胶设备身躯中,可通过(guo)超声波喷(pen)头把胶液?hao)?pen)洒(sa)在基(ji)片上可怜哦,进而通过(guo)高(gao)速旋(xuan)转使(shi)得胶液均匀(yun)涂覆在基(ji)片上拍卖师。加热匀(yun)胶机(ji)也可以单(dan)独(du)进行旋(xuan)涂操作
      紫(zi)外线光固(gu)化(hua)匀(yun)胶机(ji)
      紫(zi)外线光固(gu)化(hua)匀(yun)胶机(ji)配(pei)有紫(zi)外线光源情佑什,能够实现对(dui)特殊膜料?xi)墓?gu)化(hua)功能虽好,紫(zi)外线光固(gu)化(hua)匀(yun)胶机(ji)真空吸附固(gu)定别害怕,操作简单(dan)执事,可自(zi)由(you)取放(fang)~甜美。
      透明亚克力匀(yun)胶机(ji)带滴...
      CY-SP4-D匀(yun)胶机(ji)经过(guo)小(xiao)型化(hua)设计劫难,整体采用铝合(he)金(jin)结(jie)构出招,腔体选用透明亚克力数百颗,外观美观坚固(gu)红十字。仪器采用先进的精密电机(ji)哗啦啦,*高(gao)转速能达到8000转/秒;控(kong)制依(yi)靠(kao)按(an)键和高(gao)亮(liang)液晶屏总负重,除直(zhi)接匀(yun)胶外还能预存匀(yun)胶曲线进行程控(kong)匀(yun)胶流半分。本(ben)仪器在极大(da)的减小(xiao)了体积的前提(ti)下有效的保障了仪器性能和功能摆设都,十分适合(he)实验室选购他开箱。
      PP腔体八英寸匀(yun)胶机(ji)
      本(ben)型号(hao)匀(yun)胶机(ji)经过(guo)小(xiao)型化(hua)设计庭生活,整体采用铝合(he)金(jin)结(jie)构要工具,腔体选用PP工(gong)程材料险些喘,外观美观坚固(gu)时急。仪器采用先进的精密电机(ji)你关,转速能达到10000转/分魔族好,有效的保障了成(cheng)膜的均匀(yun)性一旦受。另(ling)外本(ben)仪器采用触(chu)控(kong)屏?liang)刂浦洲限危梢栽ど柙?yun)胶曲线凭借待,大(da)大(da)简化(hua)了使(shi)用过(guo)程降(jiang)低了学习成(cheng)本(ben)扭腰,十分适合(he)实验室选购估计我。
    • 热阴极直(zhi)流(liu)等离子(zi)体化(hua)...
      热阴极直(zhi)流(liu)等离子(zi)体化(hua)学气(qi)相沉积设备(DCCVD)是在常(chang)规冷阴极辉光放(fang)电基(ji)础(chu)上发展起(qi)来的扑,主要(yao)用于金(jin)刚石单(dan)晶或多晶膜的沉积生(sheng)长
      卷对(dui)卷PECVD石墨(mo)...
      卷对(dui)卷PECVD石墨(mo)烯制备设备主要(yao)应用于计算机(ji)和智能手机(ji)屏幕果他真,超轻人情、柔性的太(tai)阳能电池心肝儿,以及(ji)新型的发光设备?fu)推渌∧さ缱?zi)产品
      PECVD-R?旋(xuan)转...
      本(ben)产品为PECVD-R?旋(xuan)转等离子(zi)加强CVD设备晴空哪。PECVD-R?旋(xuan)转等离子(zi)加强CVD设备十分适合(he)在气(qi)氛(fen)保护的环境(jing)下连续对(dui)粉(fen)末材料用CVD方法进行包裹和修饰疏离。
      PE-HPCVD等离...
      PE-HPCVD等离子(zi)增(zeng)强物理化(hua)学气(qi)相沉积由(you)一台双温区管式炉原理类,一套钨丝蒸发源一定回,一套等离子(zi)发生(sheng)装(zhuang)置以及(ji)一套质量(liang)流(liu)量(liang)计组成(cheng)对打。PE-HPCVD等离子(zi)增(zeng)强物理化(hua)学气(qi)相沉积适用于无机(ji)复合(he)粉(fen)末的热处(chu)理及(ji)粉(fen)末表面的均匀(yun)包覆去结婚。
    联(lian)系(xi)我们
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