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    • 单(dan)靶磁(ci)控光纤绕丝(si)溅(jian)射...
      单(dan)靶磁(ci)控光纤绕丝(si)溅(jian)射镀膜(mo)仪受住,专用于(yu)光纤制(zhi)备薄膜(mo),采用不锈钢(gang)高真空腔体(ti)难度,配有带挡板的观察窗反倒可,可以观察镀膜(mo)过程(cheng)笼罩,挡板则(ze)能有效防止观察窗被膜(mo)层遮蔽别捏,便于(yu)实验的观察记录熟悉他。腔体(ti)上(shang)顶开式(shi)设计开启(qi)方便并证明,易?zi)谇謇砑右话伲质屎鲜笛槭?shi)使(shi)用知前辈。整机(ji)采用纳沼冢块化(hua)设计可一骑,操(cao)作逻辑简单(dan)浪涛声,操(cao)作界(jie)面直观集过,利(li)于(yu)上(shang)手
      台式(shi)紧凑型三靶磁(ci)控溅(jian)...
      CY-VTC-3DC是专为非金属薄膜(mo)镀膜(mo)设计的三头2"射频等离(li)子(zi)磁(ci)控溅(jian)射系统助力,主要用于(yu)多层氧化(hua)物薄膜(mo)太过,是新一代氧化(hua)物薄膜(mo)研(yan)究(jiu)中(zhong)性价比*高的镀膜(mo)机(ji) . 直流磁(ci)控溅(jian)射选项(xiang)可根据要求提供(gong)金属薄膜(mo)沉(chen)积大师送,实现三个直流阵阵、一个射频/两(liang)个直流和两(liang)个射频/一个直流溅(jian)射头配置
      双靶直流磁(ci)控溅(jian)射镀膜(mo)...
      双靶直流磁(ci)控溅(jian)射镀膜(mo)仪?qiang)捎糜?yu)制(zhi)备单(dan)层或(huo)多层铁电(dian)薄膜(mo)袍、导电(dian)薄膜(mo)京城都、合金薄膜(mo)等他闹久。该(gai)双靶磁(ci)控溅(jian)射镀膜(mo)仪与同类设备相比魂气息,其不仅应(ying)用广泛赙手站,且(qie)具有体(ti)积小便于(yu)操(cao)作的优点窒息感,是?qie)豢钍笛槭?shi)制(zhi)备材料薄膜(mo)的理想(xiang)设备
      单(dan)靶直流磁(ci)控溅(jian)射镀膜(mo)...
      单(dan)靶直流磁(ci)控溅(jian)射镀膜(mo)仪?qiang)捎糜?yu)制(zhi)备单(dan)层铁电(dian)薄膜(mo)动容、导电(dian)薄膜(mo)匹敌、合金薄膜(mo)等朵都比。该(gai)单(dan)靶磁(ci)控溅(jian)射镀膜(mo)仪与同类设备相比作业本,其不仅应(ying)用广泛密密,且(qie)具有体(ti)积小便于(yu)操(cao)作的优点代表他,是?qie)豢钍笛槭?shi)制(zhi)备材料薄膜(mo)的理想(xiang)设备差这5%,特别适用于(yu)实验室(shi)研(yan)究(jiu)固态(tai)电(dian)解质及OLED等
    • CVD法培(pei)育(yu)钻石(shi)
      人造钻石(shi)是?qie)恢钟芍本?0到30纳米的钻石(shi)结晶聚合而(er)成的多结晶钻石(shi)现形,等离(li)子(zi)增强(qiang)化(hua)学气象沉(chen)积PECVD合成法制(zhi)造结伴,人造钻石(shi)主要用于(yu)制(zhi)造切割工(gong)具等工(gong)业用途上(shang)论作,同样也被使(shi)用在珠宝首?zi)紊?shang)
      热丝(si)化(hua)学气相沉(chen)积(H...
      热丝(si)化(hua)学气相沉(chen)积(Hot filament Chemical Vapor Deposition,HFCVD)拥(yong)有工(gong)艺成熟(shu)徐磊探,设备简单(dan)等诸多优点我这弟,是工(gong)业上(shang)应(ying)用*多的金刚(gang)石(shi)薄膜(mo)制(zhi)备方法之一才被拦。设计用于(yu)合成纳米金刚(gang)石(shi)涂层伸脖,CVD金刚(gang)石(shi)薄膜(mo)森冷,微晶CVD金刚(gang)石(shi)涂层一天遇,石(shi)墨(mo)烯主动技,碳纳米管(CNTs)和各种?zhi)渌∧?mo)涂层
      免费 成 人 黄 色 网 站在线播放,美国天天色综合久久,欧美性爱1级,xx视频CVD培(pei)育(yu)钻石(shi)设备
      CVD培(pei)育(yu)钻石(shi)是?qie)恢钟芍本?0到30纳米钻石(shi)晶体(ti)合成的多结晶钻石(shi)我快速,它的化(hua)学成分为碳打闷,运用先进的设备模拟大自(zi)然中(zhong)钻石(shi)生长环(huan)境135883,通过化(hua)学气象沉(chen)积技术(CVD)栽种而(er)成
      MPCVD单(dan)晶钻石(shi)沉(chen)...
      化(hua)学气相沉(chen)积法制(zhi)备高品质单(dan)晶钻石(shi)舰,化(hua)学气相沉(chen)积法制(zhi)备高品质多晶钻石(shi)自(zi)支(zhi)撑厚膜(mo)暗器类,化(hua)学气相沉(chen)积法制(zhi)备高品质多晶钻石(shi)薄膜(mo)
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      5英寸(cun)近距离(li)蒸发镀膜(mo)炉适用于(yu)薄膜(mo)太阳(yang)能电(dian)池,如(ru)CdTe.硫(liu)化(hua)物和钙钛矿(kuang)结构太阳(yang)能电(dian)池,这是?qie)豢罾硐?xiang)的实验工(gong)具
      近距离(li)有机(ji)物蒸发镀膜(mo)...
      近距离(li)有机(ji)物蒸发镀膜(mo)炉是?qie)恢炙尤惹焖偃却?chu)理炉啾声,具有11"外径的石(shi)英管上完。它是专为PVD或(huo)CSS(近距离(li)升华)薄膜(mo)涂层3英寸(cun)直径或(huo)2"×2"表情下。近距离(li)蒸发镀膜(mo)炉采用两(liang)组卤素加热器(顶部和底部)被窝冷,zui大加热速率20?C/s08字数。两(liang)个30段精密温度(du)控制(zhi)?po)髂谥梦恢盟?du)为+/-1?C对这些。包括RS485端?si)诤涂刂?zhi)软件小路,允?shi)?xu)通过PC操(cao)作炉子(zi)和温度(du)曲线记录最多都。它是研(yan)究(jiu)新一代太阳(yang)能电(dian)池薄膜(mo)的主要工(gong)具设施,如(ru)CdTe被你、硫(liu)化(hua)物和钙钛矿(kuang)太阳(yang)能电(dian)池设置。
      小型电(dian)动升降样品台蒸...
      本产(chan)品为桌(zhuo)面型小型蒸发镀膜(mo)仪没关,设备安装(zhuang)有钨丝(si)篮蒸发源围并,可提供(gong)*大100A的镀膜(mo)电(dian)流右臂依,*大蒸发温度(du)可达1800℃错真,能够满足(zu)各种常见(jian)金属的蒸镀及部分非金属蒸镀
      桌(zhuo)面型水(shui)冷样品台蒸发...
      本产(chan)品为桌(zhuo)面型小型蒸发镀膜(mo)仪这里获,设备安装(zhuang)有钨丝(si)篮蒸发源少10%,可提供(gong)*大100A的镀膜(mo)电(dian)流古文字,*大蒸发温度(du)可达1800℃话她,能够满足(zu)各种常见(jian)金属的蒸镀及部分非金属蒸镀
    • 全自(zi)动电(dian)极镀膜(mo)卷对卷...
      自(zi)动卷对卷涂布机(ji)主要适用于(yu)磷酸铁锂肯上前、钴酸锂保持我、锰酸锂等体(ti)系的正负极镀膜(mo)工(gong)艺
      锂电(dian)池专用卷对卷加热...
      这种全自(zi)动卷对卷加热涂布机(ji)主要用于(yu)实验室(shi)涂布液(ye)体(ti)或(huo)胶体(ti)膜(mo)轻窘。该(gai)设备采用无级(ji)变速电(dian)机(ji)**控制(zhi)涂膜(mo)速度(du)追过,从而(er)达到使(shi)样品匀(yun)速前进而(er)均匀(yun)涂膜(mo)的目(mu)的
      实验室(shi)锂电(dian)池卷对卷加...
      这种全自(zi)动卷绕涂布机(ji)主要用于(yu)实验室(shi)涂布液(ye)体(ti)或(huo)胶体(ti)膜(mo)区并。该(gai)设备采用无级(ji)变速电(dian)机(ji)**控制(zhi)涂膜(mo)速度(du)木材,从而(er)达到使(shi)样品匀(yun)速前进而(er)均匀(yun)涂膜(mo)的目(mu)的欢心。刮刀采用全不锈钢(gang)材质说抱,重量恒定我笑够,可提高涂膜(mo)的一致性和均匀(yun)性碰面。该(gai)设备采用具有真空吸附功能的样品台晶莹起,可以平稳的吸附样品可同时。同时涂布机(ji)具有底部加热功能小鸟坐,加热温度(du)可达120℃人研究,在涂膜(mo)过程(cheng)中(zhong)实现烤(kao)胶功能拨额前,从而(er)使(shi)膜(mo)迅速地(di)干燥修整一,方便收(shou)卷操(cao)作人真正。
      锂电(dian)池隔膜(mo)涂布机(ji)
      锂电(dian)池隔膜(mo)涂布机(ji)武魂殿,可进行连(lian)续和间(jian)歇涂布等类型的涂布要求但实力。设备涂布精度(du)高果极大,一致性稳定性好(hao)都出马,广泛应(ying)用于(yu)锂离(li)子(zi)电(dian)池玩偶、石(shi)墨(mo)烯薄膜(mo)比平时、光学薄膜(mo)他人先、陶瓷薄膜(mo)擦肩、**胶带以及各种功能薄膜(mo)行业
    • 全自(zi)动超声波(bo)气氛加热...
      超声波(bo)气氛加热匀(yun)胶机(ji)是?qie)豢钪本?00mm灵死、灵活的旋转匀(yun)胶设备肌肉变,可通过超声波(bo)喷头把胶液(ye)喷洒(sa)在基片(pian)上(shang)记忆中,进而(er)通过高速旋转使(shi)得胶液(ye)均匀(yun)涂覆在基片(pian)上(shang)前出。加热匀(yun)胶机(ji)也可以单(dan)独进行旋涂操(cao)作
      紫(zi)外线光固化(hua)匀(yun)胶机(ji)
      紫(zi)外线光固化(hua)匀(yun)胶机(ji)配有紫(zi)外线光源展示出,能够实现对特殊(shu)膜(mo)料的固化(hua)功能兽修炼,紫(zi)外线光固化(hua)匀(yun)胶机(ji)真空吸附固定丁香紫,操(cao)作简单(dan)一圈自,可自(zi)由取放你麻烦。
      透?gai)餮强(qiang)肆υ?yun)胶机(ji)带滴...
      CY-SP4-D匀(yun)胶机(ji)经过小型化(hua)设计炼过,整体(ti)采用铝(lv)合金结构致命地,腔体(ti)选用透?gai)餮强(qiang)肆δ愦蚬郑夤勖?mei)观坚固人升。仪器采用先进的精密电(dian)机(ji)场盛,*高转速能达到8000转/秒;控制(zhi)依靠按键和高亮(liang)液(ye)晶屏果真,除直接匀(yun)胶外还能预存匀(yun)胶曲线进行程(cheng)控匀(yun)胶受。本仪器在极大的减小了体(ti)积的前提下有效的保障(zhang)了仪器性能和功能设计部,十分适合实验室(shi)选购文中。
      PP腔体(ti)八英寸(cun)匀(yun)胶机(ji)
      本型号匀(yun)胶机(ji)经过小型化(hua)设计俯冲过,整体(ti)采用铝(lv)合金结构点突破,腔体(ti)选用PP工(gong)程(cheng)材料跑咱,外观美(mei)观坚固人服下。仪器采用先进的精密电(dian)机(ji)648215,转速能达到10000转/分?zheng)行У谋U?zhang)了成膜(mo)的均匀(yun)性样拥。另外本仪器采用触控屏控制(zhi)美女记,可以预设匀(yun)胶曲线余光瞥,大大简化(hua)了使(shi)用过程(cheng)降低了学习成本柄我,十分适合实验室(shi)选购2249。
    • 热阴极直流等离(li)子(zi)体(ti)化(hua)...
      热阴极直流等离(li)子(zi)体(ti)化(hua)学气相沉(chen)积设备(DCCVD)是在常规冷阴极辉光放电(dian)基础(chu)上(shang)发展(zhan)起(qi)来的我谁都,主要用于(yu)金刚(gang)石(shi)单(dan)晶或(huo)多晶膜(mo)的沉(chen)积生长
      卷对卷PECVD石(shi)墨(mo)...
      卷对卷PECVD石(shi)墨(mo)烯制(zhi)备设备?gang)饕?ying)用于(yu)计算(suan)机(ji)和智能手机(ji)屏幕小孩站,超轻终于要、柔性的太阳(yang)能电(dian)池愿接受,以及新型的发光设备和其他薄膜(mo)电(dian)子(zi)产(chan)品
      PECVD-R?旋转...
      本产(chan)品为PECVD-R?旋转等离(li)子(zi)加强(qiang)CVD设备两边各。PECVD-R?旋转等离(li)子(zi)加强(qiang)CVD设备十分适合在气氛保护的环(huan)境下?lv)苑勰┎牧嫌肅VD方法进行包裹和修饰找顾总。
      PE-HPCVD等离(li)...
      PE-HPCVD等离(li)子(zi)增强(qiang)物理化(hua)学气相沉(chen)积由一台双温区管式(shi)炉千好好,一套(tao)钨丝(si)蒸发源书盖,一套(tao)等离(li)子(zi)发生装(zhuang)置以及一套(tao)质量流量计组成体形态。PE-HPCVD等离(li)子(zi)增强(qiang)物理化(hua)学气相沉(chen)积适用于(yu)无机(ji)复(fu)合粉末的热处(chu)理及粉末表面的均匀(yun)包覆对小奥。
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