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    • 单靶(ba)磁控光纤绕丝溅射...
      单靶(ba)磁控光纤绕丝溅射镀膜(mo)仪我轻轻,专(zhuan)用于光纤制备薄膜(mo),采用不(bu)锈钢(gang)?zhi)哒婵涨?qiang)体实我真,配(pei)有带挡板的(de)观察窗谄媚感,可以观察镀膜(mo)过程大战果,挡板则能有效(xiao)防止观察窗被膜(mo)层遮蔽登照片,便于实验的(de)观察记录嘻地抱。腔(qiang)体上顶开式设计开启方便边天涯,易于清理(li)种标准,十分?zhi)屎鲜笛槭沂褂靡蟪伞U?zheng)机采用模(mo)块化设计挂断,操作(zuo)逻(luo)辑简单洛风说,操作(zuo)界面直观止认识,利于上手
      台式紧(jin)凑?zhao)腿?ba)磁控溅...
      CY-VTC-3DC是专(zhuan)为(wei)非金属薄膜(mo)镀膜(mo)设计的(de)三头2"射频等离子磁控溅射系统?chang)饕糜诙嗖阊趸锉∧?mo)早同居,是?qie)?xin)一代氧化物薄膜(mo)研究中性价比*高的(de)镀膜(mo)机 . 直流磁控溅射选项可根据(ju)要求提供(gong)金属薄膜(mo)沉积月夜脖,实现三个直流侦察队、一个射频/两个直流和(he)两个射频/一个直流溅射头配(pei)置
      双靶(ba)直流磁控溅射镀膜(mo)...
      双靶(ba)直流磁控溅射镀膜(mo)仪可用于制备单层或多层铁电(dian)薄膜(mo)征王、导电(dian)薄膜(mo)各自打、合金薄膜(mo)等?qu)8盟?ba)磁控溅射镀膜(mo)仪与同类设备相比出去虐,其不(bu)仅应用广泛?hai)揖?ju)有体积小便于操作(zuo)的(de)优点(dian)买蕾丝,是一款实验室制备材料薄膜(mo)的(de)理(li)想设备
      单靶(ba)直流磁控溅射镀膜(mo)...
      单靶(ba)直流磁控溅射镀膜(mo)仪可用于制备单层铁电(dian)薄膜(mo)空中被、导电(dian)薄膜(mo)啥米、合金薄膜(mo)等?qu)8玫グ?ba)磁控溅射镀膜(mo)仪与同类设备相比妖狐,其不(bu)仅应用广泛?hai)揖?ju)有体积小便于操作(zuo)的(de)优点(dian)很疲惫,是一款实验室制备材料薄膜(mo)的(de)理(li)想设备雅带笑,特别适?shi)糜谑笛槭已芯抗烫?tai)电(dian)解质(zhi)及(ji)OLED等
    • CVD法培育钻(zuan)石(shi)
      人造(zao)钻(zuan)石(shi)是一种由直径10到30纳(na)米的(de)钻(zuan)石(shi)结晶聚(ju)合而成的(de)多结晶钻(zuan)石(shi)文雅点,等离子增强化学气象沉积PECVD合成法制造(zao)密合,人造(zao)钻(zuan)石(shi)主要用于制造(zao)切(qie)割工具(ju)等工业用途上对手冲,同样也被使用在珠宝首(shou)饰上
      热丝化学气相沉积(H...
      热丝化学气相沉积(Hot filament Chemical Vapor Deposition,HFCVD)拥(yong)有工艺成熟(shu)你这小,设备简单等诸(zhu)多优点(dian)天气遇,是工业上应用*多的(de)金刚石(shi)薄膜(mo)制备方法之(zhi)一这江湖。设计用于合成纳(na)米金刚石(shi)涂层他明天,CVD金刚石(shi)薄膜(mo)好丑哦,微晶CVD金刚石(shi)涂层惹火,石(shi)墨烯(xi)我打宝,碳纳(na)米管(CNTs)和(he)?tou)髦制渌∧?mo)涂层
      CVD培育钻(zuan)石(shi)设备
      CVD培育钻(zuan)石(shi)是一种由直径10到30纳(na)米钻(zuan)石(shi)晶体合成的(de)多结晶钻(zuan)石(shi)端倪,它(ta)的(de)化学成分为(wei)碳四位,运用先进的(de)设备模(mo)拟(ni)大自?yun)恢凶?zuan)石(shi)生长环境(jing)村落,通过化学气象沉积技术(CVD)栽种而成
      MPCVD单晶钻(zuan)石(shi)沉...
      化学气相沉积法制备高品质(zhi)单晶钻(zuan)石(shi)这一扫,化学气相沉积法制备高品质(zhi)多晶钻(zuan)石(shi)自支撑厚膜(mo)上前扑,化学气相沉积法制备高品质(zhi)多晶钻(zuan)石(shi)薄膜(mo)
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      5英寸近距(ju)离蒸发镀膜(mo)炉适?shi)糜诒∧?mo)太阳能电(dian)池,如CdTe.硫化物和(he)?tou)祁芽蠼峁固裟艿?dian)池,这(zhe)是一款理(li)想的(de)实验工具(ju)
      近距(ju)离有机物蒸发镀膜(mo)...
      近距(ju)离有机物蒸发镀膜(mo)炉是一种双加热区快速热处理(li)炉激怒一,具(ju)有11"外径的(de)石(shi)英管施展技。它(ta)是专(zhuan)为(wei)PVD或CSS(近距(ju)离升华)薄膜(mo)涂层3英寸直径或2"×2"无序。近距(ju)离蒸发镀膜(mo)炉采用两组卤素加热器(qi)(顶部和(he)底(di)部)要上去,zui大加热速率20?C/s妈我。两个30段精密温度控制器(qi)内置里知道,精度为(wei)+/-1?C店面。包括RS485端口和(he)控制软件爆出我,允?shi)硗ü齈C操作(zuo)炉子和(he)温度曲线记录它感情。它(ta)是研究新(xin)一代太阳能电(dian)池薄膜(mo)的(de)主要工具(ju)都注意,如CdTe便秘、硫化物和(he)?tou)祁芽筇裟艿?dian)池冷战。
      小型(xing)电(dian)动(dong)升降样品台蒸...
      本?jing)?chan)品为(wei)桌面型(xing)小型(xing)蒸发镀膜(mo)仪赖皮,设备安装(zhuang)有钨丝篮蒸发源动打人,可?shang)峁?gong)*大100A的(de)镀膜(mo)电(dian)流处丢,*大蒸发温度可达1800℃要坐牢,能够(gou)满足各种常(chang)见(jian)金属的(de)蒸镀及(ji)部分非金属蒸镀
      桌面型(xing)水冷样品台蒸发...
      本?jing)?chan)品为(wei)桌面型(xing)小型(xing)蒸发镀膜(mo)仪我惊讶,设备安装(zhuang)有钨丝篮蒸发源吃闷亏,可?shang)峁?gong)*大100A的(de)镀膜(mo)电(dian)流我猜,*大蒸发温度可达1800℃件差事,能够(gou)满足各种常(chang)见(jian)金属的(de)蒸镀及(ji)部分非金属蒸镀
    • 全自动(dong)电(dian)极镀膜(mo)卷(juan)对卷(juan)...
      自动(dong)卷(juan)对卷(juan)涂布机主要适?shi)糜诹?lin)酸铁锂绝路、钴(gu)酸锂铺开、锰酸锂等体系的(de)正(zheng)负极镀膜(mo)工艺
      锂电(dian)池专(zhuan)用卷(juan)对卷(juan)加热...
      这(zhe)种全自动(dong)卷(juan)对卷(juan)加热涂布机主要用于实验室涂布液(ye)体或胶体膜(mo)月光做。该设备采用无级(ji)变速电(dian)机**控制涂膜(mo)速度慎严肃,从而达到使样品匀(yun)速前进而均匀(yun)涂膜(mo)的(de)目的(de)
      实验室锂电(dian)池卷(juan)对卷(juan)加...
      这(zhe)种全自动(dong)卷(juan)绕涂布机主要用于实验室涂布液(ye)体或胶体膜(mo)三叉戟。该设备采用无级(ji)变速电(dian)机**控制涂膜(mo)速度太舒坦,从而达到使样品匀(yun)速前进而均匀(yun)涂膜(mo)的(de)目的(de)但低。刮刀采用全不(bu)锈钢(gang)材质(zhi)骂死,重量恒定岁数大,可?shang)岣咄磕?mo)的(de)一致性和(he)均匀(yun)性座山。该设备采用具(ju)有真空吸附(fu)功能的(de)样品台清誉,可以平(ping)稳的(de)吸附(fu)样品难地话。同时涂布机具(ju)有底(di)部加热功能业赶,加热温度可达120℃招人,在涂膜(mo)过程中实现烤(kao)胶功能住吼,从而使膜(mo)迅速地干燥洞窟,方便收卷(juan)操作(zuo)风卷。
      锂电(dian)池隔(ge)膜(mo)涂布机
      锂电(dian)池隔(ge)膜(mo)涂布机想平白,可进行连续和(he)间歇涂布等类型(xing)的(de)涂布要求问问题。设备涂布精度高罨基本,一致性稳定性好像记,广泛应用于锂离子?yong)?dian)池三分、石(shi)墨烯(xi)薄膜(mo)说才好、光学薄膜(mo)休戚、陶瓷薄膜(mo)魂兽差、**胶带以及(ji)各种功能薄膜(mo)行业
    • 全自动(dong)超声波气氛加热...
      超声波气氛加热匀(yun)胶机是一款直径300mm过这、灵(ling)活的(de)旋转匀(yun)胶设备度出发,可通过超声波喷头把胶液(ye)喷洒在基片上处寻找,进而通过高速旋转使得胶液(ye)均匀(yun)涂覆在基片上彤都空。加热匀(yun)胶机也可以单独(du)进行旋涂操作(zuo)
      国内自拍视频国内色综合,美国天天色综合久久,免费 成 人 黄 色 网 站在线播放,啊轻点操的视频紫(zi)外线光固化匀(yun)胶机
      紫(zi)外线光固化匀(yun)胶机配(pei)有紫(zi)外线光源驻,能够(gou)实现对特殊膜(mo)料的(de)固化功能下厨,紫(zi)外线光固化匀(yun)胶机真空吸附(fu)固定我假设,操作(zuo)简单听过,可自由取(qu)放很清脆。
      透(tou)明亚克(ke)力(li)匀(yun)胶机带滴...
      CY-SP4-D匀(yun)胶机经过小型(xing)化设计够遮蔽,整(zheng)体采用铝合金结构先冲,腔(qiang)体选用透(tou)明亚克(ke)力(li)斗殴,外观美观坚(jian)固合金版。仪器(qi)采用先进的(de)精密电(dian)机经气,*高转速能达到8000转/秒;控制依(yi)靠按键和(he)?tou)吡烈?ye)晶屏眼眸一,除直接匀(yun)胶?he)饣鼓茉ご嬖?yun)胶曲线进行程控匀(yun)胶妖气。本仪器(qi)在极大的(de)减小了体积的(de)前提下有效(xiao)的(de)保障了仪器(qi)性能和(he)功能虎长长,十分?zhi)屎鲜笛槭已」耗竟鳌Ⅻ/div>
      PP腔(qiang)体八(ba)英寸匀(yun)胶机
      本型(xing)号匀(yun)胶机经过小型(xing)化设计些魂环,整(zheng)体采用铝合金结构斗眼,腔(qiang)体选用PP工程材料光泽,外观美观坚(jian)固我舍。仪器(qi)采用先进的(de)精密电(dian)机痒痒,转速能达到10000转/分好战场,有效(xiao)的(de)保障了成膜(mo)的(de)均匀(yun)性负。另外本仪器(qi)采用触控屏控制金钱感,可以预设匀(yun)胶曲线彩虹丹,大大简化了使用过程降低了学习成本屋,十分?zhi)屎鲜笛槭已」海Ⅻ/div>
    • 热阴极直流等离子体化...
      热阴极直流等离子体化学气相沉积设备(DCCVD)是在常(chang)规冷阴极辉(hui)光放电(dian)基础(chu)上发展起(qi)来的(de)但布置,主要用于金刚石(shi)单晶或多晶膜(mo)的(de)沉积生长
      卷(juan)对卷(juan)PECVD石(shi)墨...
      卷(juan)对卷(juan)PECVD石(shi)墨烯(xi)制备设备?gang)饕τ糜诩扑慊?he)智(zhi)能手机屏幕泰坦撇,超轻几分自、柔性的(de)太阳能电(dian)池我杀地,以及(ji)?ba)?xin)型(xing)的(de)发光设备和(he)其他薄膜(mo)电(dian)子产(chan)品
      PECVD-R?旋转...
      本?jing)?chan)品为(wei)PECVD-R?旋转等离子加强CVD设备薄片。PECVD-R?旋转等离子加强CVD设备十分?zhi)屎显谄毡;さ?de)环境(jing)下连续对粉末(mo)材料用CVD方法进行包裹和(he)修饰俊叫出。
      PE-HPCVD等离...
      PE-HPCVD等离子增强物理(li)化学气相沉积由一台双温区管式炉鼻音,一套钨丝蒸发源脱离时,一套等离子发生装(zhuang)置以及(ji)一套质(zhi)量流量计组成次喷吐。PE-HPCVD等离子增强物理(li)化学气相沉积适?shi)糜谖藁?fu)合粉末(mo)的(de)热处理(li)及(ji)粉末(mo)表面的(de)均匀(yun)包覆多焦躁。
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